超纯水系统工艺流程图
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水处理设备(超纯水系统)操作说明书目录一、超纯水设备工艺流程图: (2)二、工艺流程说明: (2)1.原水箱 (2)2.原水泵 (2)3.多介质过滤器 (3)4.活性碳过滤器 (3)5.阻垢剂加药系统 (3)6.软化器 (4)7.精密保安过滤器 (4)8.高压泵 (4)9.两级反渗透RO机 (5)10、二级纯水箱 (12)11、EDI输送泵 (12)12、前置紫外杀菌器 (13)13、0.22μ微滤系统 (13)14、EDI装置 (13)15、EDI超纯水箱 (17)16、输送泵 (17)17、核级树脂 (17)18、后置紫外线杀菌器 (18)19、终端0.22μ微滤系统 (19)三、设备操作指南: (19)四、设备维护与保养:(以原水水质与纯水水质而定) (19)附表1:水处理设备运行记录表 (21)附表2:水处理设备维修保养记录表 (22)附录3:售后服务承诺 (23)一、超纯水设备工艺流程图:二、工艺流程说明:1.原水箱原水箱作为储水装置,调节系统进水量与原水泵抽送量之间的不平衡,避免原水泵启停过于频繁,箱内设置液位,原水进水阀根据液位高低进行自动补水,原水泵根据水池液位情况自动启停。
操作:原水箱顶部设置手动及自动电动进水阀,可进行手动及自动补水;手动补水时不受液位控制,只能手动控制。
自动补水阀补水时受液位控制,当水箱液位降到设定中液位时,自动阀开启自动补水;当水箱液位达到设定高液位时,自动阀关闭停止补水,从而达到自动的性能。
2.原水泵作用:原水泵将原水增压后输送到下道工序,保证多介质过滤器、活性炭过滤的操作压力及运行流量。
操作:原水泵可分手动和自动操作,自动运行时,原水泵将与原水箱液位联动,原水箱液位低时原水泵停止运行,中水位时重新启动;手动操作时除原水箱液位液位不与原水泵连锁外,其他和自动一样;其他有关说明及注意事项详见水泵说明书。
3.多介质过滤器作用:在水质预处理系统中,多介质过滤器压力容器内不同粒径的石英砂按一定级配装填,经絮凝的原水在一定压力下自上而下通过滤料层,从而使水中的悬浮物得以截留去除,多介质过滤器能够有效去除原水中悬浮物、细小颗粒、全价铁及胶体、菌藻类和有机物。
图 3 常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率高〔小于1000μs/cm〕,要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm的超纯水系统图 4常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率〔小于1000μs/cm〕,要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统
符号说明:
P Pc F R C
电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表流变控制开关
FK
图 5 常用的一级RO+二级EDI电子+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高〔小于1000μs/cm〕,要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm的超纯水系统
图 6 常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高〔小于1000μs/cm〕,要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统图 7是常用的一级EDI全系统组成图.
图 7 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB电子Ⅰ级超纯水系统组成图
适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时,要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm的纯水系统
图 8 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图
适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率<1000μs/cm,即TDS < 500ppm时,要求产水电阻率15~18.0MΩ·cm的的纯水系统
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超纯水工艺流程图超纯水是一种纯度非常高的水,可以用于很多领域,如实验室研究、医疗设备、电子芯片制造等。
下面将为大家介绍一种超纯水的工艺流程图。
超纯水的工艺流程主要包括原水处理、预处理、离子交换、RO脱盐、混合床脱盐、电极去离子、精处理等几个步骤。
首先,我们需要获取源水,通常是自来水或地下水。
这些源水中含有各种杂质,如颗粒物、有机物、重金属、微生物等。
为了去除这些杂质,我们需要进行原水处理。
原水处理主要包括混凝、沉淀、过滤、消毒等步骤,以去除悬浮物、颗粒物和微生物。
接下来,我们需要对原水进行预处理。
预处理是为了进一步去除水中的有机物和溶解物,并保护后续的设备。
预处理的步骤包括活性炭吸附、软化剂处理、混凝沉淀等。
然后,我们需要进行离子交换。
离子交换是将水中的阳离子和阴离子通过离子交换树脂进行吸附,以达到去除溶解物和降低电导率的目的。
离子交换后的水称为脱盐水。
接着,脱盐水需要进行RO脱盐处理。
RO(反渗透)是通过使用半透膜来分离溶液中的溶质和溶剂的过程。
在RO脱盐处理中,脱盐水被推向高压侧,溶质被截留在低压侧的半透膜上,以获得更高纯度的水。
随后,我们需要进行混合床脱盐处理。
混合床脱盐是通过将阳离子和阴离子交换树脂混合在一起,以进一步去除水中的离子杂质。
混合床可以有效地去除溶解性杂质,如硅酸、二氧化碳等。
然后,我们需要进行电极去离子处理。
电极去离子是使用电解的方法将脱盐水中的离子分解出来,并通过正、负电极进行去除。
这样可以获得更高纯度的水。
最后,我们需要进行精处理。
精处理包括超滤、UV消毒、臭氧氧化等步骤,以去除残留的微生物、有机物和氧化剂等。
通过以上工艺流程,我们最终可以获得纯度非常高的超纯水。
这种水在实验室研究、医疗设备、电子芯片制造等领域有着广泛的应用。
希望本文介绍的超纯水工艺流程图能对大家有所帮助。
(水处理)超纯水系统介绍超纯水系统简介超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今超纯水已在生物、医药、汽车、半导体等制造领域广泛应用。
这种水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质。
超纯水是一般工艺很难达到的程度,如水的电阻率大于18MΩ*cm,接近于18.2MΩ*cm则称为超纯水。
系统简介超纯水系统包括4个处理系统:预处理系统;反渗透系统;EDI(混床)系统;精处理系统超纯水系统传统工艺流程:原水箱→原水泵→絮凝剂(PAC)→多介质过滤器(MMF)→活性炭过滤器(ACF)→阳床→预处理水箱→RO送水泵→阻垢剂杀菌剂→RO保安过滤器→一级RO高压泵→一级反渗透→中间水箱→二级RO送水泵→二级RO高压泵→二级反渗透→中间水箱→EDI送水泵→EDI装置(或混床)→混床保安过滤器→杀菌UV紫外线→氮封纯水箱→终端循环泵→除TOC UV装置→抛光混床→终端保安过滤器→终端微滤→循环提升泵→终端用水点→氮封水箱预处理的作用原水箱:主要是缓冲外网自来水供水系统检修的压力,水箱大小可取纯水系统产水量的2-3倍。
多介质过滤器(MMF):石英砂过滤器可以去除水中的颗粒杂质、悬浮物、通过加入混凝剂(PAC)可以使胶体颗粒絮凝从而降低原水的浊度(NTU)、颗粒(SS)提高原水水质。
活性碳过滤器(ACF):活性碳吸附器除具有MMF特点外,因装填有大量的表面积和很强吸附力的活性碳,对水中的游离氯吸附率达99%以上,对有机物及色度也有较高的去除率。
阳床:可以将水中的溶解的钙镁离子交换出来,从而降低水的硬度。
超滤(UF):超滤是以超滤膜为过滤介质,在一定的压力下,当原液流过膜表面时,超滤膜表面密布的许多细小的微孔只允许水及小分子物质可以通过。
作用和多介质过滤器一样。
预处理水箱:主要是缓冲预处理系统反洗再生维修压力,水箱大小可取纯水系统产水量的2-3倍。
符号说明:P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表流变控制开关FK图 3 常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~Ω·cm的超纯水系统符号说明:P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表流变控制开关FK图 4常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统符号说明:P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表流变控制开关FK图 5 常用的一级RO+二级EDI电子+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~Ω·cm的超纯水系统符号说明:P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表不合格排放流变控制开关FK 图 6 常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统图 7是常用的一级EDI 全系统组成图。
电导率表电阻率表流量计压力控制器压力表止回阀球阀电磁阀CR F PcP图 7 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB 电子Ⅰ级超纯水系统组成图适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm 时,要求产水电阻率18~Ω·cm 的纯水系统P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表图 8 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图7适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时,要求产水电阻率15~Ω·cm的的纯水系统8。
二级反渗透+EDI超纯水设备工艺流程图1.前言要求如下:1.1纯水水量18MΩ.cm 25 m3/h1.2、系统制备的主要技术参数:前处理产水量: ≥45m3/h;反渗透系统二级反渗透产水量: ≥28m3/h;EDI去离子系统产水量: ≥25m3/h;1.3产水水质指标10m3/h ≥18 MΩ·cm (参照国标EW-Ⅱ)供水压力 0.35Mpa 温度:常温;1.4 系统配置:预处理、二级反渗透、EDI超纯水设备电再生连续除盐装置床。
1.5供水方式:连续产出(24小时运行)。
2. 设计依据莱特莱德郑州水处理设备厂家为新老用户提供。
本电子工业纯水站工程项目设计依据如下:1.原水水质分析资料;2.高纯水的品质要求(产品水水质指标),以及相关国家标准;3.高纯水的生产规模;4.用户对系统整体水准要求。
2.1 原水水质资料和技术指标表1. 原水水样水质分析报告(供参考):检测报告表原水:市政自来水检测结果:无2.2 电子级水国家标准4.1 预处理部分目的:为反渗透装置提供合格的进水。
4.1.1原水预处理的目的和组成A.反渗透系统进水要求:(1)污染指数:SDI≤4;(2)余氯: <0.1 ppm(3)浊度 <1NTU(4)供水Fe3+ ≤0.01ppm。
(5)供水水温适宜范围 10~30℃。
(6)碳酸钙饱和指数 LSI:<0B.预处理系统就是通过过滤、吸附等方法使反渗透进水达到以上要求,以实现以下目的:(1)防止反渗透装置膜面结垢(包括CaCO3、CaSO4、SrSO4、CaF2、SiO2、铁铝氧化物等);(2)防止胶体物质及悬浮固体微粒对反渗透的污堵;(3)防止有机物质的对反渗透的污堵和降解;(4)防止微生物对反渗透的污堵;(5)防止氧化性物质对反渗透膜的氧化破坏;C.预处理系统的组成:包括机械滤器、活性炭滤器。
4.1.2机械滤器机械滤器中的滤料包括多种规格的石英砂,用于除去原水中的悬浮物及及脱稳后的胶体,以使出水的污染指数SDI<4达到RO进水要求。
P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表流变控制开关FK图 3 常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm的超纯水系统P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表流变控制开关FK图 4常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统符号说明:P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表流变控制开关FK图 5 常用的一级RO+二级EDI电子+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm的超纯水系统符号说明:P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表流变控制开关FK图 6 常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统图 7是常用的一级EDI 全系统组成图。
电导率表电阻率表流量计压力控制器压力表止回阀球阀电磁阀CR F PcP图 7 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB 电子Ⅰ级超纯水系统组成图适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm 时,要求产水电阻率18~18.2M Ω·cm 的纯水系统P Pc F R C电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表图 8 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率<1000μs/cm,即TDS < 500ppm时,要求产水电阻率15~18.0MΩ·cm的的纯水系统Word文档。
超纯水系统工艺流程图 Final approval draft on November 22, 2020
图 3 常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~Ω·cm的超纯水系统图 4常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统
符号说明:
P Pc F R C
电磁阀球阀止回阀压力表压力控制器流量计电阻率表电导率表流变控制开关
FK
图 5 常用的一级RO+二级EDI电子+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~Ω·cm的超纯水系统
图 6 常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统
图 7是常用的一级EDI全系统组成图。
图 7 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB电子Ⅰ级超纯水系统组成图
适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时,要求产水电阻率18~Ω·cm的纯水系统
图 8 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图
适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时,要求产水电阻率15~Ω·cm的的纯水系统。