氧化铝陶瓷金属化
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氧化铝陶瓷表面金属化工艺
氧化铝陶瓷表面金属化是一种将金属材料镀覆在氧化铝陶瓷表
面的工艺。
该工艺通常应用于氧化铝陶瓷制品的表面处理,以提高其耐磨性、耐腐蚀性、导电性等性能。
金属化工艺可以选择多种金属材料,如铬、铜、银、金等,选择不同的金属材料可以改变氧化铝陶瓷的表面性质。
金属化工艺通常包括表面清洁、表面预处理、金属沉积和后处理等步骤。
表面清洁是准备金属化处理的重要步骤,可以使用溶液清洗、喷洒冲洗等方法。
表面预处理主要是为了提高金属沉积的附着力,通常采用化学处理或机械处理。
金属沉积可以采用电镀、化学镀、物理气相沉积等方法。
后处理通常包括清洗、干燥、烘烤等步骤,以确保金属化氧化铝陶瓷表面的质量和耐久性。
氧化铝陶瓷表面金属化工艺的应用非常广泛,如汽车、航空航天、电子、医疗等领域。
在汽车领域,金属化氧化铝陶瓷表面可以提高汽车发动机部件的耐磨性和耐腐蚀性。
在航空航天领域,金属化氧化铝陶瓷表面可以提高飞机零部件的耐高温性能。
在电子领域,金属化氧化铝陶瓷表面可以提高电子元器件的导电性能。
在医疗领域,金属化氧化铝陶瓷表面可以提高医疗器械的耐腐蚀性和生物相容性。
总之,氧化铝陶瓷表面金属化工艺是一种重要的表面处理技术,具有广泛的应用前景。
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专利名称:一种氧化铝陶瓷表面金属化的组合物专利类型:发明专利
发明人:吴茂,赵聪,何新波,曲选辉
申请号:CN201110175857.3
申请日:20110628
公开号:CN102276152A
公开日:
20111214
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:一种降低氧化铝陶瓷钨金属化层方阻浆料及其制备工艺,属于陶瓷-金属封接技术领域。
钨金属化层由钨粉和玻璃相组成。
本发明主要通过改变钨粉粒度分布,使钨粉形成良好的级配,钨颗粒之间形成紧密堆积;同时加入用溶胶凝胶法制备的超细玻璃粉,其在烧结过程中熔融后能使钨颗粒迅速再排列和有效地填充空隙,促进金属化层的致密化。
本发明可显著增加氧化铝陶瓷钨金属化层的致密度,并将钨金属化层的表面方阻降低至7-9mΩ/□。
主要适用于微电子封装中混合集成电路、毫米波/微米波集成电路、多芯片组件和大功率器件的封装外壳。
申请人:北京科技大学
地址:100083 北京市海淀区学院路30号北科大科技处
国籍:CN
代理机构:北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人:刘淑芬
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多层氧化铝陶瓷金属化工艺技术的研究的开题报告题目:多层氧化铝陶瓷金属化工艺技术的研究一、研究背景随着工业化的不断发展,对材料的要求也越来越高。
其中,陶瓷金属化技术是一项非常重要的技术。
它可以使陶瓷材料具有金属的导电性、导热性和机械性能,从而扩大了陶瓷材料的应用范围和市场。
在陶瓷材料的金属化技术中,多层氧化铝陶瓷金属化技术具有重要的地位。
二、研究目的本论文的主要目的是研究多层氧化铝陶瓷金属化工艺技术。
通过分析多层氧化铝陶瓷金属化技术的原理和特点,探究其在实际应用中的优缺点,并对其进行有效实现的工艺技术进行研究,为多层氧化铝陶瓷金属化技术的发展提供参考和指导。
三、研究内容1.多层氧化铝陶瓷金属化技术的基本原理和特点的分析;2.多层氧化铝陶瓷金属化技术在实际应用中的优缺点的评估;3.多层氧化铝陶瓷金属化技术的工艺技术研究,包括金属化剂的选择、金属化工艺参数的控制等;4.多层氧化铝陶瓷金属化技术的应用实例。
四、研究方法本论文采用文献资料法和实验研究法相结合的方法进行研究。
在理论研究方面,通过查阅相关文献资料,深入分析多层氧化铝陶瓷金属化技术的原理和特点。
在实验研究方面,通过设计实验进行多层氧化铝陶瓷的金属化工艺技术实现和应用实例的研究。
五、预期结果本论文预期将通过对多层氧化铝陶瓷金属化技术的研究,深入探究其在实际应用中的优缺点,为其在工业应用中的发展提供理论支持和技术指导。
同时,预计能够对多层氧化铝陶瓷的金属化工艺技术进行研究,提出一套可行的多层氧化铝陶瓷金属化工艺技术,为多层氧化铝陶瓷材料的金属化应用提供理论和实践支持。
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201810396727.4(22)申请日 2018.04.20(71)申请人 湖南省美程陶瓷科技有限公司地址 417600 湖南省娄底市新化县经济开发区向红工业园(72)发明人 方豪杰 贺亦文 (51)Int.Cl.C04B 41/90(2006.01)(54)发明名称一种氧化铝陶瓷金属化的方法(57)摘要本发明公开了一种氧化铝陶瓷金属化的方法,包括:配制膏用添加剂;配制金属化膏剂;配制辅助膏剂;一次印刷;预烧;二次印刷和烧结等步骤,由于采用自主研发的SA辅助剂,改善了浆料的黏度,提高了金属浆料的流动性、均匀性,确保了金属粉体均匀平整地涂覆在陶瓷表面,并和陶瓷基体很好相容,并且在一次印刷后调整金属化膏剂的配方进行二次印刷,二次印刷在一次印刷的基础上,辅助膏剂中的Mn反应生成的玻璃相往一次金属化层中迁移,填充一次金属化留下的气孔,缺陷处等。
与现有的金属化方法相比,采用本发明的金属化方法可使氧化铝陶瓷的封接强度提高50~60Mpa,同时能很好的满足陶瓷金属封接气密性的要求。
权利要求书1页 说明书4页CN 108440023 A 2018.08.24C N 108440023A1.一种氧化铝陶瓷金属化的方法,其特征是,包括以下步骤:A、配制膏用添加剂:(1)将55~60wt%的丁基卡必醇,17~20wt%的柠檬酸三丁酯,10~12wt%的异丁醇,5~10wt%的蓖麻油和1~6wt%的醋酸甲酯混合均匀后在48~50℃球磨20~24小时,配制成SA辅助剂;(2)将松油醇和SA辅助剂按重量比(71~78)∶(22~29)混合均匀,于100~110℃预热1~1.5小时,配制成松油醇混合溶剂;(3)将乙基纤维素于100~110℃预热1~1.5小时;(4)将松油醇混合溶剂与乙基纤维素按重量比(96~98)∶(2~4)在100~110℃环境下搅拌,混合均匀,过500目筛后密封待用;B、配制金属化膏剂:(1)将61~75wt%的Mo,9~15wt%的Mn,1~10wt%的Al 2O 3,7~13wt%的SiO 2,0.5~1.5wt%的CaO,0.4~1.3wt%的TiO 2烘干、球磨混合均匀后过360目筛;(2)将其与步骤A制备的膏用添加剂按重量比100∶28混合,超声分散1~2小时,期间不断搅拌,存放20~24小时后再超声分散30~40分钟;C、配制辅助膏剂:(1)将85~95wt%的Mo,2~14wt%的Mn和1~3wt%的Al 2O 3烘干、球磨混合均匀后过360目筛;(2)将其与步骤A制备的膏用添加剂按重量比72∶28混合,超声分散1~2小时,期间不断搅拌,存放20~24小时后再超声分散30~40分钟;D、一次印刷:将金属化膏剂印刷在氧化铝陶瓷上,膏剂涂层厚度为35~50μm,再烘干;E、预烧:升温至1450℃,保温0.5~1小时,升温速度为10℃/分钟,随炉冷却至50~60℃;F、二次印刷:将辅助膏剂印刷在经预烧的氧化铝陶瓷上,再烘干,经二次印刷后,膏剂涂层总厚度为50~65μm;G、烧结:升温速度均为10℃/分钟,在1000℃,保温0.5~1小时,在1400℃保温0.5~1小时,在1530℃保温0.5~1小时,在1550℃保温0.8~1.2小时;冷却炉管温度为50℃;气氛设定为:液氨分解出气口压力0.1~0.3MPa,流量3.5~5m 3/小时,其中湿氢占比88~92%,湿氢露点35~40℃。
氧化铝陶瓷金属化
氧化铝陶瓷金属化是一种将金属材料与氧化铝陶瓷结合的技术,通常用于提高氧化铝陶瓷的导电、导热、耐磨等性能。
氧化铝陶瓷金属化的方法有很多种,其中比较常见的是采用真空镀膜、热喷涂、化学镀等技术。
这些方法的基本原理都是在氧化铝陶瓷表面形成一层金属薄膜,从而提高其导电、导热等性能。
真空镀膜是将金属蒸发成蒸汽,然后在氧化铝陶瓷表面沉积形成金属薄膜的方法。
这种方法可以形成均匀、致密的金属薄膜,但需要高真空环境和复杂的设备。
热喷涂是将金属粉末加热到熔融状态,然后通过高速气流将其喷涂在氧化铝陶瓷表面形成金属薄膜的方法。
这种方法可以形成较厚的金属薄膜,但金属粉末的粒度和分布会影响金属薄膜的质量。
化学镀是将金属离子通过化学反应在氧化铝陶瓷表面还原成金属的方法。
这种方法可以形成均匀、致密的金属薄膜,但需要控制好反应条件和镀液的组成。
氧化铝陶瓷金属化可以提高氧化铝陶瓷的性能,使其在电子、航空航天、化工等领域得到广泛应用。