980nm半导体激光器高反膜的优化设计

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杂质污染 、 腔面氧化¨ , J还可 以提高 大功率半导体 激光器的工作效率 , 降低 阈值 电流 , 以及减少热功
率 的产 生 , 而提 高 激 光 器 的工 作 寿 命 、 靠 性 和 进 可
半 导体激 光 器 腔 面 镀 膜 都 采 用 氧 化 物 介 质 膜 作 为
光学薄膜材料 的性 质主要表现在折射率 、 吸收
关键词 : 导体激光 器; 半 高反膜 ; 薄膜激光损伤 阈值 ; 归一化 电场强度
0 引 言
谐振 腔 的解 理 面 , 半 导 体激 光 器 的 可靠 性 有 对 着 十分重 要 的影 响 , 别 是 在 含 铝 材 料 的 器 件 中 , 特 铝 的氧 化会 加 速 腔 面 的 破 坏 。在 腔 面 上 制 作 具 有
对 比分析 , 对镀膜后和 未镀膜 的器件分 别进行 测试 。仿真 结果表 明: 系结构为 A2 T i aO 膜 1 ( aO /SO )T 的 高 0
反 膜 性 能 良好 , 膜 后 的 阈值 电流 减 小 了 2 A 左 右 , 率 效 率 从 0 4 镀 0m 斜 .8增加 到 了 0 8 。 .6
面 J 。基 于对光 学薄 膜 材料 性 质 的分 析 , 备 低 损 制
耗、 高阈值的高反射膜材料应具有 : 膜层均匀 、 透射
率高 、 应力 低 、 收 小 、 着 力 强 , 激 光 破 坏 能 力 吸 附 抗
光学膜层抗激光损伤 阈值的高低 , 限制激光器提 是 高输 出功 率 的 瓶 颈 因素 之 一 。制作 多 层 介 质 膜 和
光损伤 阈值较低 。综合 以上的考虑 , 并且结合实际
9 一 2
DI T LCOMMU C TON 2 1 . GIA NIA I / 0 8 1
情况 , 们选 取 T : SO 做 为高 反膜 的材 料 。 我 aO / i
2 高反膜 的设计与优化
多层 电介 质 反 射 膜 一 般 是 由 2种 折 射 率 不

要: 通过软件模拟和理论分析 , 9 0n I 对 8 l 半导体激光器高反膜 的结构进行 了优化设计。选定 T : SO T a0 / i 作为
9 0n 半 导 体 激 光 器 的 高 反 膜 材料 , 过 软 件 T C l进 行 仿 真 , 3种 不 同膜 系结构 的反 射 率 和 电场 强度 进 行 了 8 m 通 Fa c 对
必须具有高损伤阈值和较易沉积等特性。同时, 为了
提高反射膜的反射率, 要求高、 低折射率材料低折射率材料是 SO , i:
4 种常用高折射率材料分别为 T ZO ,a 和 i ,r:T: O 0 HO 。其中,i2 i2 f2 T /S 损伤阈值较低 ,f2 i2 O O HO/S O

1 高反膜材料 的选择
光学 薄膜 的抗 激 光损 伤 能 力 与 多种 因素有 关 ,
主要 包括 镀膜 材料 的选 定 、 系 的设计 和镀 膜 参 数 膜
的优化等, 其中膜料的选取较为关键。由于氧化物
定 反射 率 的 光 学 薄 膜 , 仅 可 以保 护 腔 面 , 止 不 防
薄膜 的硬 度 、 附着 力 和化 学 稳 定性 都 非 常 好 , 般 一 高反射膜 体 系 。
同 的 电介 质 材 料 组 成 的周 期 性 多 层 膜 系 。常 用 的
多层 高反 膜 是 一 种 由光 学 厚 度 均 为 X 4的高 折 射 /
波长/m n
率和低折射率层 交替叠成 的膜 系,  ̄ 4膜系 , 即 / 可
以用 符号 表示 为
G H ) H N = 12 3 … , ( L A, ,, , N () 1
研究 介 质膜在 激光 作 用 下 的 损伤 机 理 , 求 和制 作 寻 抗激 光 损伤 阈值 高的 多层介 质膜 , 已成 为迫 切需要 。 本 文 主要 从 3个 部 分 描述 了 90n 8 m半 导 体激 光 器高 反膜 优化设 计 的过 程 : 据 光学 薄 膜 材 料性 根
高、 高温度稳定 性好 等特 性 。所 以 , 择 的薄 膜材 料 选
质 的分析 , 选择性能 良好 的材料作 为高反膜材料 ;
通过 T C l软件 , Fa c 模拟不 同膜系结构的电场强度分
具有最大的破坏 阈值 , HO 的折射率不仅最低 , 但 f:
布和反射率 , 对高 反膜的膜 系结构进行 优化设计 ;
通过 实 验 ’ 试 , 比分 析 镀 膜 前 和 镀 膜 后 器 件 的 ? 贝 0 对
性能。
收稿 日期 :0 10 -3 2 1-50

而且 蒸发 过程 中表 面很 容 易 形 成假 山状 突起 , 难 较
沉 积 ,r 膜料 在沉 积过 程 中容 易形 成 大 的颗 粒 或 ZO
造 成结 构 的不 均 匀 , 使 膜 层 的粗 糙 度 增 大 , 散 致 使
射损耗 增 大 , 而 使 薄 膜 的抗 激 光 性 能 变 差 , 激 从 抗
DOI 1 .9 9 ji n 10 —8 4 2 1 . 4 0 4 :0 3 6 /.s .0 13 2 .0 1 0 .2 s
90a 半 导体 激光 器 高反膜 的优 化 设计 8 m
张 莹 ,宋爱 民 王 培 界。 ,
( .重庆邮 电大学 光 电工程学院 , 1 重庆 40 6 ;.重庆教育学 院 , 0052 重庆 4 0 6 3 0 07;.重庆光 电技术研究所 , 重庆 4 0 6 ) 0 00
输出功率, 也可以改善激光器 的光 电性能 。在激光
器一 端镀 制 高反膜 可 以降低 阈值 电流 、 高器 件 的 提 量 子效 率 。因此 , 多层 介 质 高 反 膜 的光 学 薄 膜是 激 光 器重 要 的组 成 部 分 , 于 大 功率 的 激 光 器 来 说 , 对
损 耗 、 射 损 耗 、 械 性 质 、 激 光 损 伤 阈 值 等 方 散 机 抗