电子工业超纯水设备该如何选型
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电子工业超纯水设备该如何选型半导体、集成电路芯片、光电器材、微电子工业、超大规模集成电路需要大量的纯水、超纯水。
集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也就越高。
目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、
10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
在高纯水的生产过程中，水中的阴阳离子可用电渗析法、反渗透法及离子交换技术等去除，水中的颗粒一般可用超过滤、膜过滤等技术去除;水中的细菌，目前国内多采用加药或紫外灯照射或臭氧杀菌的方法去除;水中的TOC则一般用活性炭、反渗透处理。
在电子工业高纯水的应用领域中，水的纯度直接关系到器件的性能、可靠性，因此电子工业对高纯水要求具有相当高的纯度和精度。
目前超纯水设备的制造工艺通常有两张一种是反渗透加混
床离子交换设备，一种是反渗透加EDI。
混床：混床是混合离子交换柱的简称，是针对离子交换技术所设计的设备。
所谓混床，就是把一定比例的阳、阴离子交换树脂混合装填于同一交换装置中，对流体中的离子进行交换、脱除。
由于阳树脂的比重比阴树脂大，所以在混床内阴树脂在上阳树脂在下。
一般阳、阴树脂装填的比例为1：2，也有装填比例为1：
1.5的，可按不同树脂酌情考虑选择。
混床也分为体内同步再生式混床和体外再生式混床。
同步再生式混床在运行及整个再生过程均在混床内进行，再生时树脂不移出设备以外，且阳、阴树脂同时再生，因此所需附属设备少，操作简便，具有以下优点：
(1) 出水水质优良，出水pH值接近中性。
(2) 出水水质稳定，短时间运行条件变化(如进水水质或组分、运行流速等)对混床出水水质影响不大。
(3) 间断运行对出水水质的影响小，恢复到停运前水质所需的时间比较短
EDI设备：去离子(Electrodeionization)简称EDI，是一种将离子交换技术，离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。
属高科技绿色环保技术。
EDI净水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点，已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。
EDI技术的环保特性好，操作使用简便，愈来愈多地被人们所认可，也愈来愈多广泛地在医药、电子、电力、化工等行业得到推广。
优点如下：
1. 无需酸碱再生：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。
保护了环境。
2. 连续、简单的操作：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。
3. 降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度和窨灵活地构造。
模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。
电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下3种：
1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱
→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
3、采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间
水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
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