抛光液配方开发及配方专利技术转让

抛光液配方抛光液是一种常用的表面处理材料，广泛应用于金属、塑料、陶瓷等材料的抛光和修复过程中。

它能够有效去除表面的污垢、氧化物和微小瑕疵，使物体表面恢复光滑、亮丽的外观。

下面将介绍一种常见的抛光液配方，以供参考。

配方成分：1. 研磨剂：主要负责表面瑕疵的去除。

常用的研磨剂有氧化铝、二氧化硅、碳化硅等。

根据不同材料的特性和抛光要求，可以选择不同粒度和形状的研磨剂。

2. 悬浮剂：用于稳定研磨剂的分散状态，使其均匀悬浮在液体中。

常见的悬浮剂有聚合物、表面活性剂等。

3. 溶剂：用于调整抛光液的黏度和挥发性。

常用的溶剂有水、醇类、醚类等。

根据需要，可以选择不同种类和比例的溶剂。

4. 增稠剂：用于增加抛光液的黏度，以提高其附着性和作用时间。

常用的增稠剂有胶体、天然树胶等。

5. 稳定剂：用于防止抛光液在储存和使用过程中发生分层、沉淀或变质。

常用的稳定剂有防腐剂、抗氧化剂等。

6. pH调节剂：用于调节抛光液的酸碱度，以适应不同材料的抛光需求。

常见的pH调节剂有酸类和碱类。

7. 着色剂：用于给抛光液增色，使其更易于辨识和使用。

常用的着色剂有有机染料、颜料等。

以上是一种常见的抛光液配方的基本成分，通过合理的配比和调整，可以制备出适用于不同材料和场景的抛光液。

当然，具体的配方还需要根据实际需求和材料特性进行调整和优化。

总结：抛光液配方的选择和调整对于抛光效果至关重要。

合理的配方可以提高抛光液的效率和稳定性，使其在表面处理过程中发挥最佳的作用。

同时，在使用抛光液时，也要注意安全操作，避免对人体和环境造成伤害。

抛光液的制备
抛光液的制备一般可以根据不同的应用需求而有所不同，下面是一种常见的抛光液制备方法：
材料：
- 水
- 抛光粉末（例如氧化铝、氧化铁、碳化硅等）
- 分散剂（例如表面活性剂）
步骤：
1. 取一定量的水倒入容器中，作为制备抛光液的溶剂。

2. 将适量的抛光粉末加入溶剂中，搅拌均匀，直到粉末完全溶解或悬浮在溶液中。

3. 在溶剂中加入适量的分散剂，继续搅拌均匀。

分散剂的作用是使抛光粉末均匀分散在溶液中，防止粒子聚集。

4. 继续搅拌溶液，使抛光液达到所需的浓度和稠度。

如果需要调整抛光液的性质，可以适量添加其他添加剂，例如乳化剂、防腐剂等。

5. 将制备好的抛光液进行过滤，去除大颗粒杂质，以获得清澈的液体。

6. 将抛光液装入密封容器中，保存备用。

需要注意的是，抛光液的制备要根据具体应用需求进行调整，如不同的材料、不同的表面处理要求等，可以根据实际情况调整抛光粉末的种类、浓度和稠度等参数。

另外，也可以根据需要进行配方中其他添加剂的调整。

制备抛光液时需要小心操作，避免污染和意外事故的发生。

316不锈钢电解抛光液配方
配方1：
1.制备一种含有10%氢氟酸的溶液。

使用纯氢氟酸和去离子水混合，
搅拌均匀直至酸完全溶解。

2.加入少量硼酸，作为缓冲剂，以调节溶液的酸碱度。

3.在溶液中加入5-10%的硫酸，以增加抛光效果。

4.如果需要，可以加入一些表面活性剂来增强液体的润湿性，从而改
善抛光效果和表面质量。

配方2：
1.制备一种含有10-15%氢氟酸的溶液。

将纯氢氟酸和去离子水混合，搅拌均匀直至酸完全溶解。

2.添加少量硼酸作为缓冲剂，以调节溶液的酸碱度。

3.在溶液中加入5-10%的硫酸，以增加抛光效果。

4.加入适量的硼酸盐，可以增加溶液的稠度和黏度，从而改善抛光表
面的光洁度。

配方3：
1.制备一种含有10-15%氢氟酸的溶液。

将纯氢氟酸和去离子水混合，搅拌均匀直至酸完全溶解。

2.添加适量的硼酸，作为缓冲剂，以调节溶液的酸碱度。

3.加入5-10%的硝酸，以增加抛光效果。

4.如果需要，可以添加一些有机酸，如柠檬酸或乙酸，以增强抛光效
果和表面质量。

5.加入适量的聚乙烯醇或多聚羧酸，可以增加液体的黏度和抛光效果。

电化学抛光液配方
引：
一款针对不锈钢的电化学抛光液配方，通过适当调试，便可达到高光亮效果，电解液可达到两年左右的换槽期。

说明
●以上配方对201、202、304、304L、316、316L、321、410、420、430等不锈钢材质均有效；
●对于达标300系列材质，建议按照“硫酸的配比浓度的上限”配槽；
对于达标200系列、常见400牌号材质，建议按照“硫酸的配比浓度的下限”配槽；
对于200、300组合材质，建议按照“硫酸的配比浓度的中值”配槽；
对于耐蚀性极差的不锈钢、无镍200系列材质，建议在配方基础上继续提高磷酸含量；
●电解槽设计优选PP材质，禁止选用金属类材质；
●建议经常清理槽内杂质或沉淀物，可15天清理一次，以维持长久的使用寿命。

●在加工过程中，工件会带出液体，槽液会正常消耗。

当液位明显下降时，要按原配比例同时添加磷酸、硫酸（或稍微过量的硫酸）；严禁只添加单一酸种。

●以上配方电解液的寿命是长久的，基本不用更换。

但在槽液极脏的情况下，就需要更换
新液；
●停工期间，建议在电解槽上加置密封盖，防止电解液吸潮造成配方失调——带来的电解
缺陷；
●以上配方电解出来不锈钢件，可呈现出清亮、高光、高亮的效果，清晰的影像镜面视觉；
●不含铬酸酐、六价铬、三价铬、总铬等有害离子，无需复杂的水处理工艺，即可安全排
放；
●使用寿命远远大于同行业同类电解抛光液、铬系电解抛光液，维护良好的施工现场，已
创下25个月换槽期的记录；
●极低的抛光电流，电源能耗低；
●配方简单，配制工艺易于操控。

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详细全套资料详询：淄博拓新达新技术开发有限公司。

硅片抛光液配方技术研究,抛光液成分分析及制备工艺硅片抛光液配方技术研究，抛光原理及制备工艺导读本文主要介绍了硅晶片的应用背景，分类，参考配方等，本文中的配方经过修改，如果需要了解更详细，可咨询我们的相关技术人员。

禾川化学致力于硅片抛光液成分分析，配方还原，研发外包服务，为硅片抛光液相关企业提供一整套配方技术解决方案。

1.背景基于全球经济的快速发展，IC技术（Integrated circuit, 即集成电路）已经渗透到国防建设和国民经济发展的各个领域，成为世界第一大产业。

IC 所用的材料主要是硅和砷化镓等,全球90%以上IC 都采用硅片。

随着半导体工业的飞速发展，一方面，为了增大芯片产量，降低单元制造成本，要求硅片的直径不断增大；另一方面，为了提高IC 的集成度，要求硅片的刻线宽度越来越细。

半导体硅片抛光工艺是衔接材料与器件制备的边沿工艺，它极大地影响着材料和器件的成品率，并肩负消除前加工表面损伤沾污以及控制诱生二次缺陷和杂质的双重任务。

在特定的抛光设备条件下，硅片抛光效果取决于抛光剂及其抛光工艺技术。

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样品分析检测流程：样品确认—物理表征前处理—大型仪器分析—工程师解谱—分析结果验证—后续技术服务。

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1965年Walsh和Herzog 提出SiO2溶胶-凝胶抛光后，以氢氧化钠为介质的碱性二氧化硅抛光技术就逐渐代替旧方法，国内外以二氧化硅溶胶为基础研究开发了品种繁多的抛光材料。

化学抛光液成分分析抛光液配方原理及生产技术工艺抛光液是一种常用的表面处理材料，用于改善金属、陶瓷、塑料等材料的表面光洁度和光泽度。

它是由多种成分组成，下面将对抛光液的成分分析、配方原理及生产技术工艺进行详细介绍。

一、抛光液的成分分析抛光液的成分可以分为基础成分和辅助成分两大类。

1.基础成分：-磨料：是抛光液的重要组成部分，根据被处理材料的硬度和要求，可以选择不同类型的磨料，如氧化铝、碳化硅、碳化硼等。

-润滑剂：用于减少磨料与被处理材料之间的摩擦力，提高抛光作用。

常用的润滑剂有脂肪酸盐、硼烷酮类。

-催化剂：用于加速抛光过程中的化学反应，提高抛光效果。

例如，过氧化氢、碳酸氢铵等。

-稳定剂：用于稳定抛光液的化学性质，防止化学反应速率过快或过慢，影响抛光效果。

如硫酸铵、草酸等。

2.辅助成分：-溶剂：用于溶解基础成分中的固体材料，便于液体抛光液的制备。

常用的溶剂有水、醇类、酮类等。

-助剂：用于提高抛光液的柔软性、黏度和稠度。

常见的助剂包括表面活性剂、乳化剂等。

二、抛光液的配方原理抛光液的配方原理主要遵循以下几个原则：1.体系配方平衡：配方中的各个组分之间应保持一定的平衡，不得出现明显的不相容反应，以确保抛光液的稳定性和一致性。

2.磨料与被处理材料匹配：选用合适的磨料类型和粒度，以满足被处理材料的需求，避免过度剥离或过度打磨，保持抛光液的良好效果。

3.润滑剂和溶剂选择：根据被处理材料的性质和要求，选择适当的润滑剂和溶剂，以提高抛光液的润滑性和渗透性。

4.辅助成分的作用：辅助成分的加入可以调节抛光液的黏度、黏附性和稳定性，以满足不同材料和加工要求的需求。

抛光液的生产技术工艺主要包括以下步骤：1.原材料采购：根据产品配方，采购所需的各种原材料，确保原材料的质量和供应稳定。

2.材料准备：按照配方要求，将所需的磨料、润滑剂、催化剂等加入到适当的容器中，进行充分搅拌和混合，形成基础成分的糊状混合物。

3.辅助成分添加：根据配方要求，将溶剂、助剂等辅助成分逐步添加到基础成分的糊状混合物中，并进行充分搅拌和混合。