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分子原子的扩散原理
分子原子的扩散原理可以通过扩散理论解释。
扩散是指物质从高浓度区域向低浓度区域自由移动的过程。
在分子原子的扩散中，分子原子具有较高的动能，并且随机运动，碰撞频繁。
扩散原理可以通过以下几个特征来解释：
1. 热运动：分子原子具有热能，因此在分子原子之间存在着热运动。
这种热运动使得分子原子能够跨过势垒，从高浓度区域向低浓度区域运动。
2. 碰撞传递：分子原子间的碰撞能够使得运动方向发生变化，从而使得分子原子能够沿着浓度梯度向低浓度区域扩散。
这是因为碰撞能够改变分子原子的速度和动能，使其改变运动方向。
3. 纯净区域的补充：当分子原子从高浓度区域向低浓度区域扩散时，高浓度区域会失去一部分分子原子，而低浓度区域会得到更多的分子原子。
这样就实现了纯净区域的补充，使得浓度逐渐均匀分布。
4. 势垒：在分子原子的扩散中，还存在着势垒的存在。
势垒是指分子原子在扩散过程中需要克服的能量障碍。
当分子原子具有足够的动能时，就能够越过势垒，并从高浓度区域向低浓度区域扩散。
总之，分子原子的扩散原理是由分子间的热运动、碰撞传递、纯净区域的补充和势垒的存在共同作用的结果。
这种扩散过程使得物质能够在不同浓度区域之间实现平衡，能够满足化学反应、传质传热等过程的需求。
扩散工序总结一：扩散核心内容：扩散就是将酸洗好的硅片经过高温扩散，在硅片表面形成一层很薄的膜，使硅片产生电流，即使硅片形成PN结。
1：扩散用到的化学用品有两种：三氯氧磷（POCI3），三氯乙烷。
2：扩散的目的：使硅片形成PN结。
3：扩散三要素：扩散的时间；扩散的温度；杂质源的浓度（即：三氯氧磷的流量）扩散的时间越长，方块电阻就越小；反之，就越大。
扩散的的温度越大，方块电阻就越小；反之，就越大。
扩散的流量越大，方块电阻就越小，反子，就越大。
4：扩散的三条化学方程式：ａ三氯氧磷在高温下（大于600℃），分解成五氧化二磷和五氯化磷。
POCL3―≧600℃→P2O5+PCL5b五氧化二磷和硅反应生成二氧化硅和磷原子P2O5+SI →SI2+P↓c五氯化磷和充足的氧气反应生成五氧化二磷和氯气PCL5+O2→P2O5+CL↑二：扩散的全部流程：上一道工序（酸洗）∣检验不合格片―↓―合格片插片↓上浆↓进舟↓扩散期间↓退舟↓测片↓卸片∣返工片―↓―合格片∣下一道工序（二次清洗）三：扩散常见的问题与原因：1：方块电阻偏大原因：换新片源；扩散的温度偏小；扩散时间太短；三氯氧磷流量偏小；2：方块电阻偏小原因：换新片源；扩散的温度偏大；扩散时间太长；三氯氧磷流量偏大3：炉口电阻偏的大原因：石英门没有关紧；前限位开关已坏；密封圈坏掉；炉口温度偏低；4：少子寿命低于规定范围原因：片源问题；一次清洗没有制绒好；四：插卸片员工须知：1：插片必须做到：插片手法轻；没有声音；无碰撞；降落速度慢；2：卸片员工须知：卸片手法轻；尽量握些；扩散面必须向上；手不要抬的过高，（减少硅片下落时的冲击面）3：每个炉管接班后的第一炉必须待方块电阻，少子寿命全部测完后方可卸片。
防止出现返工片。
五：返工片的处理：1：方块电阻偏大的返工片，放入炉管中用返工工艺返工。
2：方块电阻偏小的返工片，返回一次清洗重新制绒返工。
六：扩散员工需要注意的安全事项：1：插片时袖子带到硅片，造成碎片。
