扩散
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分子原子的扩散原理
分子原子的扩散原理可以通过扩散理论解释。
扩散是指物质从高浓度区域向低浓度区域自由移动的过程。
在分子原子的扩散中,分子原子具有较高的动能,并且随机运动,碰撞频繁。
扩散原理可以通过以下几个特征来解释:
1. 热运动:分子原子具有热能,因此在分子原子之间存在着热运动。
这种热运动使得分子原子能够跨过势垒,从高浓度区域向低浓度区域运动。
2. 碰撞传递:分子原子间的碰撞能够使得运动方向发生变化,从而使得分子原子能够沿着浓度梯度向低浓度区域扩散。
这是因为碰撞能够改变分子原子的速度和动能,使其改变运动方向。
3. 纯净区域的补充:当分子原子从高浓度区域向低浓度区域扩散时,高浓度区域会失去一部分分子原子,而低浓度区域会得到更多的分子原子。
这样就实现了纯净区域的补充,使得浓度逐渐均匀分布。
4. 势垒:在分子原子的扩散中,还存在着势垒的存在。
势垒是指分子原子在扩散过程中需要克服的能量障碍。
当分子原子具有足够的动能时,就能够越过势垒,并从高浓度区域向低浓度区域扩散。
总之,分子原子的扩散原理是由分子间的热运动、碰撞传递、纯净区域的补充和势垒的存在共同作用的结果。
这种扩散过程使得物质能够在不同浓度区域之间实现平衡,能够满足化学反应、传质传热等过程的需求。
扩散工序总结一:扩散核心内容:扩散就是将酸洗好的硅片经过高温扩散,在硅片表面形成一层很薄的膜,使硅片产生电流,即使硅片形成PN结。
1:扩散用到的化学用品有两种:三氯氧磷(POCI3),三氯乙烷。
2:扩散的目的:使硅片形成PN结。
3:扩散三要素:扩散的时间;扩散的温度;杂质源的浓度(即:三氯氧磷的流量)扩散的时间越长,方块电阻就越小;反之,就越大。
扩散的的温度越大,方块电阻就越小;反之,就越大。
扩散的流量越大,方块电阻就越小,反子,就越大。
4:扩散的三条化学方程式:a三氯氧磷在高温下(大于600℃),分解成五氧化二磷和五氯化磷。
POCL3―≧600℃→P2O5+PCL5b五氧化二磷和硅反应生成二氧化硅和磷原子P2O5+SI →SI2+P↓c五氯化磷和充足的氧气反应生成五氧化二磷和氯气PCL5+O2→P2O5+CL↑二:扩散的全部流程:上一道工序(酸洗)∣检验不合格片―↓―合格片插片↓上浆↓进舟↓扩散期间↓退舟↓测片↓卸片∣返工片―↓―合格片∣下一道工序(二次清洗)三:扩散常见的问题与原因:1:方块电阻偏大原因:换新片源;扩散的温度偏小;扩散时间太短;三氯氧磷流量偏小;2:方块电阻偏小原因:换新片源;扩散的温度偏大;扩散时间太长;三氯氧磷流量偏大3:炉口电阻偏的大原因:石英门没有关紧;前限位开关已坏;密封圈坏掉;炉口温度偏低;4:少子寿命低于规定范围原因:片源问题;一次清洗没有制绒好;四:插卸片员工须知:1:插片必须做到:插片手法轻;没有声音;无碰撞;降落速度慢;2:卸片员工须知:卸片手法轻;尽量握些;扩散面必须向上;手不要抬的过高,(减少硅片下落时的冲击面)3:每个炉管接班后的第一炉必须待方块电阻,少子寿命全部测完后方可卸片。
防止出现返工片。
五:返工片的处理:1:方块电阻偏大的返工片,放入炉管中用返工工艺返工。
2:方块电阻偏小的返工片,返回一次清洗重新制绒返工。
六:扩散员工需要注意的安全事项:1:插片时袖子带到硅片,造成碎片。