离子回旋共振加热射频系统阻抗变换器的优化设计
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第30讲:EAST托卡马克装置离子回旋共振加热系统介绍
主讲:赵燕平
时间:12月13日14:00
地点:601会议室
时数:1.5-2个小时
授课内容摘要:
离子回旋频段波作为加热、维持、控制高温等离子体的重要手段之一,根据所选的运行模式不同,它与等离子体作用机制也不相同,它不仅可以加热电子、离子,还可以用于控制等离子体某些重要参数空间分布等。
离子回旋系统无论是用于加热还是电流驱动对等离子体都有很好的可近性,并且技术相对较为成熟,系统的造价也相对较低,因而被广泛用于各托卡马克聚变装置上。
在EAST上,利用离子回旋系统实现对等离子体有效的加热和参数分布控制,是实现高约束稳态运行的关键之一。
本报告将主要介绍EAST装置离子回旋系统关键技术和壁处理技术及近年来EAST上离子回旋加热所取得的实验结果。
授课人介绍:
赵燕平,中国科学院等离子体物理研究所研究员,博士生导师,1982年毕业于南开大学物理系,现从事托卡马克离子回旋射频波加热技术及波与高温磁约束等离子体相互作用物理过程的研究,主持建成了EAST装置上的稳态离子回旋加热系统。
作为负责人承担了多项国家自然科学基金和国家磁约束核聚变配套项目。
欢迎感兴趣的职工及学生参加!。
书山有路勤为径,学海无涯苦作舟
电子回旋共振波射频溅射系统设计
电子回旋共振波(ECWR)技术于20 世纪70 年代提出,是利用电磁波与电学各向异性材料(如带有外加静磁场的低压等离子体)的相互作用来产生等离子体的。
ECWR 技术有产生高密度等离子体、离子能量可控制在很窄的范围内、离子能量和离子流量可独立控制等优点,可有效控制薄膜的生长过程。
本
文以ECWR 技术为背景,介绍了一种电子回旋共振波射频溅射镀膜系统的设计。
随着电子制造、机械加工、医疗器械制造等行业的不断发展,人们常利
用真空镀膜技术进行材料的表面改性。
射频溅射技术于80 年代用于制作CD 的反射层之后得到极大的发展,逐步成为制造许多产品的一种常用手段,是适
用于各种金属和非金属的一种镀膜方法。
但射频溅射技术产生的等离子体密度低,成膜速率慢,且靶材利用率低。
于20 世纪70 年代发展起来的电子回旋共振波(ECWR)技术可在反应室内部不包含任何激发电极的情况下,产生低压高密度等离子体,并能够很好的控制所产生的等离子体的参数。
本文将该技术用于
传统射频溅射系统中,以提高其靶材利用率并提供优良性能的等离子体。
国内
外研究人员现已应用这种技术制备多种半导体薄膜。
本文以ECWR 技术为基础,介绍一种真空镀膜装置的设计与计算。
1、工作原理及特点ECWR 等离子体的产生是依靠电磁波与电学各向异性材料(如带有外加静磁场的低压等离子体)的相互作用来实现的。
该系统还有如下特点:
(1) 在很低的压力下(10-2 Pa 到10-1 Pa)仍可获得高的电离度,离子束电流密度会达到几mA/cm2;。
前极靴长度对电子回旋共振离子推进器影响的数值仿真柯于俊;孙新锋;陈学康;田立成;贾艳辉【摘要】数值仿真研究电子回旋共振离子推力器放电室的放电过程可以为推力器的优化设计提供指导和帮助.基于COM-SOL多物理场仿真软件建立了5 cm口径电子回旋共振(ECR)推力器放电室的二维轴对称模型.通过磁场实际测量值和仿真结果的对比分析,验证了模型的可靠性;并计算发现前极靴长度在7 mm和9 mm之间存在一个最佳特征值.当小于特征值时电子密度最大值、平均电子密度值和等离子体吸收功率均随极靴长度的增大而增大;而当大于特征值时电子密度最大值、平均电子密度值和等离子体吸收功率则随极靴长度的增大而减小.【期刊名称】《科学技术与工程》【年(卷),期】2018(018)020【总页数】7页(P340-346)【关键词】极靴;ECR;离子推力器;电子密度【作者】柯于俊;孙新锋;陈学康;田立成;贾艳辉【作者单位】兰州空间技术物理研究所,兰州730000;兰州空间技术物理研究所,兰州730000;兰州空间技术物理研究所,兰州730000;兰州空间技术物理研究所,兰州730000;兰州空间技术物理研究所,兰州730000【正文语种】中文【中图分类】V439.1ECR离子推力器(electron cyclotron resonance ion thruster,ECRIT)是一种通过微波共振放电的离子电推进装置。
相比传统的Kaufmann离子推力器,ECR微波离子推力器具有无主放电空心阴极、放电气压低、等离子体密度高以及寿命长等优点[1—3]。
ECR离子推力器是一种静电型推进装置,其工作原理为:利用微波发生器引导微波进入带有永磁体的放电室,通过放电室内磁化的电子与微波的回旋共振作用对电子加速,高速电子的碰撞作用使工质气体电离产生等离子体,高电压的栅极光学系统将离子引出并加速后产生反推力。
为减少喷出离子空间电荷效应累积对飞行器产生影响,中和器产生的电子用以保持束流的电中性。
High-B模式ECR离子源的设计、研制及优化开题报告一、研究背景微波电子回旋共振(ECR)等离子体源作为一种重要的离子源技术,在微电子器件、材料表面处理、医学等领域得到了广泛应用。
其中ECR离子源作为高能、高流强度的离子源,具有独特的优点:能量分布宽、流强度高、兼容性好等。
ECR离子源的研制和优化一直是离子束技术领域的重要研究方向,在此领域的国际竞争愈发激烈,尤其是高品质、多功能的ECR离子源设计和实现技术是未来离子束应用和研究的关键。
目前主流的ECR离子源采用单面磁钉、半球和平面螺旋磁场结构来实现离子共振抽取。
但这些结构的限制,使得它们难以提供更大的高品质离子流产生能力。
近年来,高B模式ECR离子源作为一种新型结构被提出,并在国际上得到了广泛的研究。
相对于传统的ECR离子源,高B模式ECR离子源具有更高的等离子体密度、更高的磁场强度、更高的微波功率等特点。
因此,高B模式ECR离子源在各种离子束应用中具有广阔的前景和应用前途。
因此,研制和优化高B模式ECR离子源技术具有重要意义。
二、研究内容本项目旨在开发一种高B模式ECR离子源,并进行系统的理论与实验方面的研究。
具体工作内容如下:1.基于倒置聚焦结构设计高B模式ECR离子源通过仿真和既有的设计经验,对于高B模式ECR离子源进行结构设计,选定其中的一种最佳结构,并进行模拟计算和分析,确定理论参数。
2.制造高B模式ECR离子源原型选用钕铁硼强磁钢材料,通过加工制造高B模式ECR离子源的原型。
同时对于制造出的原型进行检测和测试,确保其满足理论要求。
3.测试高B模式ECR离子源性能通过改变微波功率、磁场强度、气体种类、气体压力等参数,对原型离子源进行全面而系统的的测试,对离子束质量和离子束产量进行测试分析。
4.优化高B模式ECR离子源性能通过测试的结果,对于高B模式ECR离子源进行参数优化,包括电子束的反转半径、磁场强度的变化等,从而进一步提高其质量和产量。