真空电镀与水电镀对比优缺点.
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真空电镀与水电镀对比优缺点真空电镀和水电镀是两种常见的电镀方法,它们在原理、优缺点等方面有一定的差异,下面将对它们进行详细比较。
一、原理:1.真空电镀:真空电镀是在真空条件下对基底材料进行电镀。
首先将基底材料放入真空室中,通过抽气使真空室内压力低于大气压,然后加入金属蒸发源进行蒸发,金属蒸汽在真空室中快速扩散,与基底材料表面发生化学反应,在基底材料表面形成金属镀层。
2.水电镀:水电镀是利用电解的原理,在含有金属离子的电解液中,通过电流的作用将金属离子还原到基底材料表面,形成金属镀层。
二、优缺点比较:1.优点:(1)真空电镀:真空电镀的优点主要包括:-镀层均匀,精密度高。
由于真空电镀是在真空条件下进行的,金属蒸发源扩散迅速,使得金属颗粒在基底材料表面沉积均匀,表面光洁度高。
-耐磨抗腐蚀性好。
真空电镀可以形成致密的金属镀层,具有优异的耐磨抗腐蚀性能。
(2)水电镀:水电镀的优点主要包括:-电镀速度快。
水电镀可以通过调整电流密度和镀液成分等参数,快速形成金属镀层。
-利用成本低。
水电镀使用的材料成本相对较低,而且基本不需要使用昂贵的专用设备。
2.缺点:(1)真空电镀:真空电镀的缺点主要包括:-设备成本高。
真空电镀需要较复杂的设备,包括真空室、金属蒸发源等,设备成本较高。
-技术要求高。
真空电镀需要控制真空度、温度和金属蒸发源的蒸发速率等参数,技术要求较高。
(2)水电镀:水电镀的缺点主要包括:-镀层不均匀。
由于水电镀是在液体中进行的,金属离子在电解液中的扩散速度较慢,容易导致镀层的厚度不均匀。
-对基底材料有一定的要求。
水电镀对基底材料的导电性能和化学稳定性有一定的要求,不适合对非金属基材进行镀层。
综上所述,真空电镀和水电镀在优缺点上有一定的差异。
真空电镀具有镀层均匀、耐磨性好等优点,但设备成本高、技术要求高;水电镀具有电镀速度快、利用成本低等优点,但镀层不均匀、对基底材料有一定要求。
根据具体的需求和材料特性,选择合适的电镀方法可以达到更好的效果。
pi膜真空电镀与化学电镀铜1. 介绍电镀是一种将金属离子沉积在物体表面的过程,它可以改善物体的外观和性能。
在电镀过程中,电流将通过被电镀物质表面涂覆的溶液(电解液),从而使金属阳离子在该表面上沉积下来形成薄膜。
常见的电镀方法包括化学电镀和真空电镀铜。
本文将介绍这两种电镀方法的原理、优缺点和应用。
2. 真空电镀铜2.1 原理真空电镀是一种在真空环境下进行的电镀技术。
在真空下,由热阴极发出的电子撞击物质表面,使得物质表面离子化。
在背景气体的作用下,离子会向着表面扩散。
真空环境下的离子镀是一种在相对低的压力下将金属离子沉积在物体表面的过程。
在真空电镀铜过程中,被电镀的物体放在一个甚至低于常温的真空环境中。
然后通过加热的方式,使得在铜原材料上形成挥发物质的气体。
随后一个电流会从铜薄片上通过,使得铜离子在气体中退无可退地冈积下来形成一层薄膜。
2.2 优缺点真空电镀铜的优点是,可以得到非常均匀的铜薄膜,最大厚度约为2um。
因为在真空中,涂层可以自然排列和自由沉积。
这使得具有均匀分布和完美外观的涂层变得易于制作。
便于反射、导电、减少对微观元器件的好氧化和防抛射等性质的应用。
但这种方法不适用于大尺寸的表面,而且进料、退料的过程耗时较长,需要花费大量的空间、时间和能量。
2.3 应用真空电镀铜在许多行业中都有应用。
其中最常见的应用是在电子设备的制造过程中。
它被用于制造航空电子设备、通讯电子设备、体育锻炼器材、模型制造和工艺品等。
3. 化学电镀3.1 原理在化学电镀中,电解质和电解液均为一种能够在化学反应中产生金属阳离子的溶液。
通过引入电流,将其离子释放到被电镀的金属表面上,从而形成一层薄膜。
在化学电镀铜中,铜薄片被浸泡在含有铜离子的水溶液中。
然后通过加热铜离子,使它们被电极化,从而形成一个较厚的铜薄膜。
3.2 优缺点化学电镀铜的优点是,它是一种易于控制的电镀方法,可以得到非常均匀的涂层。
它也适用于大型工件的制造。
由于该方法使用的是水溶液,因此它的成本也比真空电镀铜低。
轮毂水电镀(Chrome)工艺,又叫铬(Ke)罗米轮毂真空镀(PVD)工艺
基本属性金属化学镀物理气相沉积
基本原理
金属镀3层铜-镍-铬蒸发镀、溅射镀和离子镀环保性
较差,重金属污染严重环保材料硬度
大于2H(较硬)硬度铅笔大于1H(相对软)镜面效果
光洁平滑避免不了橘皮和细微杂质的存在耐磨性
较好弱防腐蚀
金属表层,相对活泼耐高温油漆保护,防腐性能好腐蚀表现
腐蚀由内而外发黄、起白点、掉皮,腐蚀轮毂底材严重耐腐蚀性好,对铝材影响较小颜色
颜色单一,白亮色色彩多样,理论上各种颜色都可以做使用后期处理
镀层较硬,比较难退镀研磨打磨可以处理价格较高相对适中
简单区别方法:
一摸.二划.三看.
一摸:水电镀
入手冰,金属镀
二划:用指甲
或者钥匙之类的
水电镀掉皮
三看:看外观,看镜面效果,有橘皮和杂质的一定是真空镀;看轮胎面和反面的亮度,水电镀的较粗糙,哑光;看装轮胎面,水电镀有硬币大小的黄斑是挂据点;水电镀破损的地方露出来的是白粉粒或者黄铜色,而真空镀的是黑色。
轮毂PVD真空镀与铬(Ke)罗米水电镀 简单区别
轮毂PVD真空镀与铬(Ke)罗米水电镀 简单区别
---我公司采用真空溅射镀
水电镀起黄斑
水电镀轮胎安装面的挂据点水电镀腐蚀后的
白色粉粒杂质
真空镀破损的地
方露出来黑色。
真空镀与水镀的区别两种工艺的优缺点:A、简单来说,真空电镀不过油,其附着力很差,无法过百格TEST,而水电镀的明显好于真空电镀!因此,为保证真空电镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理,成本当然高些.B、水电镀颜色较单调,一般只有亮银和亚银等少数几种,对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等五花八门的七彩色就无能为力了.而真空电镀可以解决七彩色的问题.C、水电镀一般的镀层材质采用“六价铬”,这是非环保材料.对于“六价铬”有如下的要求:欧盟: 76/769/EEC:禁止使用; 94/62/EC:<100ppm; ROHS:<1000ppm如此严格的要求,国内一些厂家已开始尝试使用“三价铬”来替代“六价铬”;而真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求.简单一点,就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术.它有真空蒸发镀,溅射镀,离子镀等,获得这些沉积方法的途径有多种:电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法,可以根据的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备.相对于传统的湿发电镀,真空电镀具有以下优点:1.沉积材料广泛:可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属,通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层,而且可以根据需要设计涂层体系.2.节约金属材料:由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良,沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层,达到节约的目的.3.无环境污染:由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面,没有溶液污染,所以对环境的危害相当小.但是由于获得真空和等离子体的仪器设备精密昂贵,而且沉积工艺还掌握在少数技术人员手中,没有大量被推广,其投资和日常生产维护费用昂贵.但是随着社会的不断进步,真空电镀的优势会越来越明显,在某些行业取代传统的湿法电镀是大势所趋!。
水电镀与真空镀的区别
1.工艺不同
水电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀),提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。
不少硬币的外层亦为电镀。
真空镀是一种物理沉积现象。
即在真空状态下注入氩气,氩气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
从而起到防止金属氧化(如锈蚀),提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。
2.适用的范围不同
水电镀:一般的钢材都可以电镀。
塑胶部分水电镀只适用电镀级ABS27,以及PC+ABS。
可以适用一些较大的塑胶件,并且弯位较多。
真空度:一般的钢材也适合真空镀。
塑胶部分真空镀的适用范围就较广范,如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品。
适用是一些较小的塑胶件,形状简单,弯位较小的。
3.表面效果不同
水电镀:颜色较单调,一般只有亚银色、灰银,枪色,金色,黑铬色。
真空镀:真空镀可以镀水电镀的效果的同时可以镀魔幻蓝、裂纹、水滴银等五花八门的七彩色。
4.表面附着力不同
两者在被镀物体表面的附着力不同,水电镀利用电解附着在物体的表面。
真空镀是物理沉积在表面,附着力较低,因此真空镀一般会表面再加一层uv保证镀层的附着力并保证产品的美观。
5.两者的成本不同
真空镀在增加表面的附着力的时候会增加喷一层uv,所以会导致成本高于水电镀。
6.两者对环境的污染不同
水镀:对环境污染较为严重
真空镀:对环境污染较小。
第56问塑胶产品九种表面处理方法有哪些?常见的塑胶产品表面处理方法有以下9种:表面喷涂(普通着色、PU级光油、UV级光油)、电镀(水电镀、真空离子镀)、印刷(丝网印刷、水印刷、曲面印刷、热转印、移印)、表面拉丝工艺、镭雕(雕刻、标记、切割、内雕、打码、打孔)、覆膜(包括:烫金、IMD、OMD)、喷砂喷粉、抛光、涂层、咬花等。
一、表面喷涂(塑料件):1、喷涂特点:空气喷涂是目前油漆涂装施工中采用得比较广泛的一种涂饰工艺。
空气喷涂是利用压缩空气的气流,流过喷枪喷嘴孔形成负压,负压使漆料从吸管吸入,经喷嘴喷出,形成漆雾,漆雾喷身到被涂饰零部件表面上形成均匀的漆膜。
空气喷涂可以产生均匀的漆,涂层细腻光滑;对于零部件的较隐蔽部件(如缝隙、凹凸),也可均匀地喷涂。
此种方法的涂料利用率较低大约在50%~60%左右。
塑料制件喷涂后,产品可获得如下效果:1)可遮盖成型后制件的表面缺陷;2)因塑料本身着色比较困难,可利用喷涂获得多种色彩;3)使塑料的静电性能得到改善,减少灰尘吸附;4)增强了塑料的硬度和耐擦伤性;5)提高了塑料的耐候性;6)使塑件表面的光泽任意调整;7)砂纹漆、绒毛漆等一些特殊漆,可获得较好的外观及手感。
另外,塑料成型后表面状态对外观质量有很大的影响。
要求成型后的表面平整光滑,均匀一致,不应有划伤、飞边、毛刺、凹坑、斑点、气泡和明显的熔接线。
2、塑料喷涂工艺流程:退火→除油→消除静电→除尘→喷涂→烘干。
1)退火:塑料成型时易形成内应力,涂装后应力集中处易开裂。
可采用退火处理或整面处理,消除应力。
退火处理是把ABS塑料成型件加热到热变形温度以下,即60℃,保温2h。
由于采用此种工艺需要大量的设备投资,因此,可采用整面处理的技术,即配置能够消除塑件内应力的溶液在室温下对塑件表面进行15~20min的处理即可。
2) 除油:塑料件表面常沾有油污、手汗和脱模剂,它会使涂料附着力变差,涂层产生龟裂、起泡和脱落。
真空电镀加工与水电镀的对比分析真空电镀加工,正规的名字叫"涂装",采用外洋最顶尖的粉末喷涂技术、磁控真空镀膜技术停止加工生产电镀产品,该生产技术的特性是取代了保守水电镀的高污染、高利润编制,以零污染、低利润、高功用的生产模式来创造产品的高附加值,产品技术先进、美观奢华、绿色环保、陈本低廉、功能精巧,已被国内外市场普及承认。
并且这种涂装技术能够做到多色调选择,还能够同1只轮毂出现1种以上色调的成果,取代了水电镀的单1色调的弊病。
即使是不警惕磕碰或抵达1定年限,也不会出现像水电镀轮1样的掉皮气象。
真空电镀加工是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在表面形成金属薄膜的方法。
常用的金属是铝等低熔点金属。
加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。
在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。
此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。
通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低( 10-5Pa )。
水电镀,较早出厂的汽车大部分轮毂都是水电镀的,这种电镀的利润高,污染高(首要身分是重鑫属附着轮毂内中,故此,出于环保起因水电镀的轮毂是不能出入口的)、且只能电镀单1的色调"电镀白"。
并且另有个弊病,假设有1个位置出现起皮、掉皮的话,就会1块1块的接着起皮、掉皮,这种掉上去的重金属皮不复杂被糜烂,对环境也形成严重的污染。
水镀工艺的特点:1.不需要热源,在15—40℃的常温条件下进行各种镀层工作。
电镀和真空电镀什么是电镀?电镀,即将银、金、铜、镍、锡等金属涂覆在其他金属或非金属表面的一种表面处理工艺。
电镀涂层可以提高材料的表面硬度、耐腐蚀性、耐磨损性、美观性等性能。
电镀过程一般分为以下几步:1.表面处理:将要镀的材料表面去除污垢、氧化物等杂质,使其表面光洁。
2.预处理:将材料经过活化、催化处理等步骤,使其表面有利于电镀涂层的沉积。
3.电镀:将要镀的材料作为阴极,将电解质中的金属离子还原在材料表面。
4.后处理:去除不良电镀涂层、清洗、干燥。
常见的电镀涂层有镍、银、金、铜、锡、铬等。
电镀的优点1.提高材料表面性能,如防腐、耐磨、美观等。
2.节能环保,电镀涂层可以提高材料的使用寿命,减少替换次数,节省资源。
3.降低成本,涂层可以提高材料使用寿命,从而减少维修和更换费用。
什么是真空电镀?真空电镀是一种利用电子束或离子束来蒸发金属,再在反应室内沉积在基材表面的一种表面处理工艺。
真空电镀与传统电镀的不同在于,它不需要电解质,因此可以避免杂质的产生,从而获得更好的表面质量。
真空镀膜过程一般分为以下几步:1.表面处理:将基材表面去除杂质、氧化物等,使其表面光洁。
2.蒸发:将金属材料蒸发到反应室中,并控制反应室的真空度、温度、气体等参数。
3.沉积:金属离子在基材表面还原,形成涂层。
4.后处理:清洗、干燥。
常见的真空电镀涂层有TiN、AlTiN、TiAlN等。
真空电镀的优点1.表面质量好,可以获得更加光洁、致密的涂层。
2.环保节能,由于不需要电解质,因此不会产生污染。
3.适用性广,不受基材种类的限制。
电镀和真空电镀的比较特点电镀真空电镀质量差好环保性差好成本低高适用性受限广泛从以上表格可以看出,电镀和真空电镀各有优缺点,应根据实际需求来选择。
应用领域电镀和真空电镀涂层具有广泛的应用领域。
在机械、电子、航空等工业领域中,利用电镀和真空电镀获得的涂层可以用于提高部件的防腐性、耐磨性、导热性、美观性等各种性能。
在日常生活中,我们也经常接触到利用电镀和真空电镀制造的产品,如电子产品、家具、汽车配件等。
水镀和真空镀
水镀:是把药剂配成水溶液,并在镀槽内配上直流的阴阳极,通上电就可以电镀。
(产品内外面都有镀层)
真空镀:是把产品放在一个真空容器中,把里面抽成真空,然后通电,利用通电形式,把相应的金属靶材击成离子均匀地覆盖在产品的表面。
(一般仅需要面才有镀层)
真空镀:一般分为金属与非金属真空镀。
金属真空镀:直接镀即可。
非金属真空镀:1、必须先用喷涂的方式,在产品表面喷一层导电的铝膜,再镀真空镀;
2、通过水镀后的塑料,在镀上铜,或镍,或铬后再进行真空镀。
水镀和真空镀的区别:
1、水镀的镀层厚度可以比较厚,真空镀的厚度则没有水镀那么厚;
2、真空镀的表面颜色变化性比水镀要大,色泽容易调,而水镀则不行。
3、产品如果是需要拉丝(仿古系列)的话,一般只有水镀才能满足要求,真空镀太薄了就做不到。
真空镀膜的黏附性比较差,容易脱落电镀的种类很多,你说的电镀是否是水电镀?水电镀的膜厚比真空溅镀的厚,水电镀膜厚一般为15~20UM,真空电镀的膜厚一般为0.5~2UM.水电镀的化学液不同会有不同的色彩。
真空电镀的靶材不同镀膜颜色不同,真空电镀的功率,真空等级不同会有颜色的变化。
溅镀溅镀是利用氩离子轰击靶材,击出靶材原子变成气相并析镀于基材上。
溅镀具有广泛应用的特性,几乎任何材料均可析镀上。
1) 溅镀的优点与限制i) 优点a) 无污染b) 多用途c) 附着性好ii) 限制a) 靶材的制造受限制b) 靶材的受损,如陶瓷靶材,限制了使用能量的范围c) 析镀速率低2) 溅镀系统i) 分类a) 平面两极式:靶材为负极,基材为正极b) 三极式:由阳极,阴极,外加电子源等三种电极所组成的系统。
外加电子源产生电场加速正极离子化的气体分子。
三极式系统不能使用于反应性溅镀,因为电子会影响反应气体与污染灯丝。
c) 磁控溅镀:利用磁场作用提高溅镀速率d) 反应溅镀:将反应性气体导入真空腔中,并与金属原子产生化合物以镀着。
ii) 电流的分类a) 直流电溅镀-应用于导电基材与镀层b) 交流(或射频)电溅镀-应用于导电或非导电基材与镀层3) 溅镀系统组合i) 靶材在溅镀时,经电浆中的正离子轰击,而析镀于基材的镀层材料;靶材通常是阴极。
ii) 溅镀的通量溅镀时的通量即为溅镀原子的流量。
流量原子的组成与经冷却,且未产生内扩散的靶材相同。
同一靶材的所有材料之溅镀速率大致相同。
(然而,蒸镀的蒸镀速率并不同)。
iii) 接地屏蔽将离子局限于仅轰击与溅镀靶材;避免靶材夹治具被溅击。
屏蔽与靶材之间的距离必须小于暗带(dark space)的厚度,因此,在高频(13.5MHz)或高压使用时,此距离较近。
iv) 挡板设置在两个电极之间的活动板。
通常溅击清洁靶材(靶材可能会在装载或操作时受到大气的污染)时移置于靶材与基材之间。
v) 靶材的冷却当外加能量输入系统,会使靶材的温度提高,并损坏靶材与夹治具的结合,因此必须冷却。
水镀与真空镀的工艺和区别真空镀流程电镀随着工业化生产的不断细分,新工艺新材料的不断涌现,在实际产品中得到应用的设计效果也日新月异,电镀是我们在设计中经常要涉及到的一种工艺,而电镀效果是我们使用时间较长,工艺也较为成熟的一种效果,对于这种工艺的应用在我们的产品上已经非常多,我们希望通过总结我们已有的经验作一些设计的参考性文件,可以更好的将电镀效果应用在我们的设计上,也更合理的应用在我们的设计上,可以为以后的工作带来一些方便。
通过这种工艺的处理我们通常可以得到一些金属色泽的效果,如高光,亚光等,搭配不同的效果构成产品的效果的差异性,通过这样的处理为产品的设计增加一个亮点。
一、水镀1.水镀原理水镀就是利用电解的方式使金属或合金沉积在工件表面,以形成均匀、致密、结合力良好的金属层的过程,就叫水镀。
简单的理解,是物理和化学的变化或结合。
2.水镀流程上挂——除油——水洗2次——亲水——粗化1——粗化2——回收——水洗3次——中和一一水洗2次一一预浸一一催化一一水洗3次一一活化一一水洗2次一一化学镍一一水洗2 次一一活化一一水洗2次一一镀焦铜一一回收一一水洗2次一一活化一一镀光铜一一水洗3 次——微蚀——水洗2次——镀光镍——回收——水洗2次——活化——镀光铜——水洗3 次——微蚀——水洗2次——镀光镍——水洗3次——镀光铬——水洗4次——起声波水洗一一水洗一一起纯水洗2次一一烘干一一下挂{要经过四十多次上下缸浸泡(如上图)程序才完成一次水镀,所以对流道及水口设计要求特别严。
电镀原理3.水镀设计注意事项水镀挂环设计:挂环一定要设计在产品中间便于上挂及节约挂具面积,挂环内径设计直径12mn;挂环流道设计直径2mn;挂环中间要有流道连起来如下图。
电镀挂件电镀挂件水镀叠层装置设计:按下面标准尺寸设计电镀工艺中框水镀设计:4.水镀层的厚度水镀层的厚度水镀材质:最好采用电镀级材质:ABS727二、真空镀2.1真空镀原理真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型,它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来作较高档产品的功能性镀层,例如作为内部屏蔽层使用。
电镀的种类有很多种:1.化学镀:在水溶液中不依赖外加电源,仅靠镀液中的还原剂进行化学还原反应,使金属离子不断还原在自催化表面上,形成金属镀层的工艺方法。
$}6fD1Jj/N d[ :^3MO.U&PiCAx开思论坛2.电解电镀:利用电解在制件表面形成均匀,致密,结合良好的金属或是合金沉积层的过程,这种工艺过程比较烦杂,但是有很多优点,例如沉积的金属类型多,可以得到的颜色很多,相比类同工艺而言价格比较低。
单金属电镀主要有:电镀钛,锌,铜,镍,铬,金,锡,银等;电镀合金有:锌合金,锡合金铜合金等。
在塑胶上电镀主要有:铜,镍,铬,金,黑镍,珍珠镍,珍珠铬,珍珠金等。
CAD/CAM/CAE综合资讯网站论坛y G3X9uw ofY 3. 电铸:通过电解是金属沉积在铸模上制造或复制金属制品(能将铸模和金属沉积物分开的过程)。
这种处理方式是我们在要求最后的制件有特殊表面效果如清晰明显的抛光与蚀纹分割线,一般采用铜材质做一个部件的形状后,通过电镀的工艺手段将合金沉积在其表面,通常趁机厚度是几十毫米,之后将型腔切开,分别镶拼到模具型腔中,注塑塑件。
真空电镀: 湿法工艺:1.化学浸镀2.电镀 3.喷导电涂料干法工艺1.真空蒸镀 2.阴极溅镀 3.离子镀4.烫金 5.熔融喷镀真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。
常用的金属是铝等低熔点金属。
加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。
在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。
此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
镭雕是表面处理一种工艺,和网印移印相似,都是在产品上印字或图案之类的,工艺不同,价格有异,在此我说说镭雕的原理和注意事项镭雕也叫激光雕刻,是一种用光学原理进行表面处理的工艺,手机和电子词典的按键上用的多,我以前做过的产品有用过,简单一点的讲是这样的:比如说我要做一个键盘,他上面有字,字有蓝色,绿色,红色和灰色,键体是白色,激光雕刻时,先喷油,蓝字,绿字,红字,灰字各喷相应的颜色,注意不要喷到别的键上,这样看上去就有蓝键,绿键等键了,再整体喷一层白色,这样就是一整块白键盘了,各蓝绿都被包在下面了。
真空镀真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型,它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来作较高档产品的功能性镀层,例如作为内部屏蔽层使用。
真空蒸镀:在高真空下,通过金属细丝的蒸发和凝结,使金属薄层附著在塑胶表面。
真空蒸镀过程中金属(最常用的铝)的熔融,蒸发仅需几秒钟,整个周期一般不超过15MM,镀层厚度为0.8-1.2uM.设计真空蒸镀塑料制品应避免大的平坦表面,锐角和锐边。
凹凸图案、纹理或拱形表面效果最佳。
真空蒸镀很难获得光学平面样制品表面。
不过镀层附着力比水镀差很多。
A9手机的面壳镀铜后镀LOU,共10μ,镀LOU层0.18μ。
真空电镀相对于水电镀来讲,表面硬度较低,但污染较小。
真空镀不导电目前水电镀在重工业上应用较多(汽车等),而真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。
如果真空电镀的硬度能达到水电镀的等级,那么水电镀将要消失了。
目前很多手机上的金属外观件,都采用PVD真空离子镀,不仅能够提供漂亮的颜色而且耐磨性很好。
不过比较贵,成本较高。
溅射镀:磁控溅射镀膜设备:磁控溅射镀膜设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。
可根据用户要求配置旋转磁控靶、中频孪生溅射靶、非平衡磁控溅射靶、直流脉冲叠加式偏压电源等,组态灵活、用途广泛,主要用于金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷等)的工件镀铝、铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属膜及渗金属DLC膜,所镀膜层均匀、致密、附着力强等特点,可广泛用于家用电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。
a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术,靶材利用率达到70~80%以上,基体镀膜均匀,色泽一致。
b平面磁控溅射镀膜机;c中频磁控溅射镀膜机;d射频磁控溅射镀膜机。