石材抛光液配方成分,抛光原理及生产工艺技术

大理石抛光研究(摘要)抛光是石材加工中极重要的一道工序, 对于抛光机理, 长期以来一直处于假说阶段。

本文针衬大理石的四类抛光方法, 运用实验观察, 表面分析, 仪器检测等方法进行了系统地研究。

认为四类抛光方法均属于机械、热物理和化学作用的联合作用过程, 以检测数据结合理论分析手段提出了抛光表面存在有机化合物薄层的观点。

引言抛光是大理石表达加工中重要的环节。

对不同材质的大理石, 采用不同的抛光方法, 这些抛光方法大致可分为四类。

第一类为毛毡一草酸抛光法；第二类为毛毡一氧化铝抛光法；第三类为磨块抛光法；第四类为磨块一草酸抛光法。

磨块抛光主要采用M1或M1.5白刚玉磨块和金刚石磨块抛光。

磨块一草酸抛光通常采用含草酸磨块抛光。

国外对于抛光机理的研究有几种假说, 可概括为：1）微粒研磨作用原理（古克假说）；2）塑性变形原理（别里毕假说）；3）物理化学原理（格列希科夫假说）。

国内对于抛光机理的研究, 已进行了一些工作。

积极地开展这方面的研究, 对于我们正确地认识抛光过程, 掌握抛光实质, 从而改善抛光工艺, 提高抛光质量和抛光效率具有重大的理论意义与实践意义。

抛光过程中的特征现象抛光层形成过程, 依据抛光类型不同, 各有其特点, 但又具有其共性。

下面分别予以讨论。

1.机械作用对于毛毡一α-氧化铝抛光, 抛光过程中α-氧化铝与板面、毛毡发生相对运动。

磨粒对板面的机械研磨作用, 主要表现为冲撞、滑擦、滚压。

(试验使用了ZF-KA02,ZF-KA03,ZF-KA04不同晶体形貌与结构的α-氧化铝)为图1所示。

图1 研磨作用的几种形式冲撞作用主要发生在抛光的初始阶段, 滑擦、滚压作用, 则在整个抛光过程中都存在。

只是随着板面趋向于平滑, α-氧化铝ZF-KA02，ZF-KA03假颗粒原晶被打开粒径变细, 其作用越来越弱, 擦痕越来越细（见图2、图5）。

图2是精磨后板面呈现出的耕犁状况；图9是抛光过程中（光泽度为75度）板面上呈现的擦痕, 图4是在图3中的平坦处放大至15100倍时的擦痕现象, 图5是磨块一草酸水抛光至光泽度120度时, 板面的微细擦痕。

抛光液原理一、抛光液的概念和分类抛光液是一种用于表面抛光处理的化学制剂，主要应用于金属、塑料、玻璃等材料表面的加工和修整。

根据不同的成分和使用目的，抛光液可以分为机械式抛光液、化学式抛光液和电解式抛光液三类。

二、机械式抛光液原理机械式抛光液是通过磨料颗粒在摩擦作用下对物体表面进行磨削，从而达到去除表面缺陷、改善表面质量的效果。

其中，磨料颗粒可以是硅砂、氧化铝等坚硬材料，也可以是玻璃珠、塑料颗粒等柔软材料。

机械式抛光液中还添加了一定量的助剂，如界面活性剂、防锈剂等，以提高其效果和稳定性。

三、化学式抛光液原理化学式抛光液是通过在物体表面形成一层氧化膜或硫化膜，并将其溶解掉来达到去除表面缺陷、改善表面质量的效果。

其中，化学式抛光液的成分包括腐蚀剂、缓蚀剂、表面活性剂等。

在使用化学式抛光液时，需要注意其对环境和人体的危害性，必须严格按照使用说明进行操作。

四、电解式抛光液原理电解式抛光液是通过在物体表面施加电流，在阳极处形成氧化膜或硫化膜，并将其溶解掉来达到去除表面缺陷、改善表面质量的效果。

其中，电解式抛光液的成分包括电解质、酸碱调节剂等。

与化学式抛光液相比，电解式抛光液具有更高的精度和效率，并且对环境和人体危害较小。

五、抛光液的应用1. 金属加工：用于金属零件表面处理，如去除氧化皮、毛刺等。

2. 塑料加工：用于塑料制品表面处理，如去除模具留下的痕迹等。

3. 玻璃加工：用于玻璃制品表面处理，如去除划痕、提高透明度等。

4. 光学加工：用于光学器件表面处理，如去除氧化皮、提高反射率等。

5. 电子加工：用于电子元器件表面处理，如去除焊接残留物、提高导电性能等。

六、抛光液的注意事项1. 使用前必须仔细阅读使用说明，并按照说明进行操作。

2. 操作时应戴上防护手套、口罩等个人防护装备，以避免对身体造成危害。

3. 操作时应注意环境卫生，避免污染环境和影响他人健康。

4. 使用后应及时清洗设备和容器，并妥善存放抛光液。

抛光液主要成分
抛光液是一种常见的表面处理材料，它的主要作用是去除表面污渍和残留物，使表面
变得光洁、光亮，提高表面粗糙度。

抛光液的主要成分有：
一、磨料：也称抛光剂，是抛光液的主要成分之一，抛光液的磨料一般由硅藻、苹果
皮粉末、芥子粉末和天然石材等多种成分组成，它们有着不同的粒径，有微小细粒、细粒、纤维状、块状和碳素。

抛光液中的磨料由于有完整的粒度分布，可以提供充足的细度和抛
光效果。

二、乳化剂：是抛光液的辅助胶体，主要作用是增加抛光液的流动性，改善其覆盖效果，使其能更加均匀地抛光表面并减少浪费，乳化剂由脂肪醇、脂肪酸酯、聚氧乙烯及其
衍生物，硅油及其衍生物等多种成分混合而成。

三、定型剂：也叫稳定剂，主要是为了限制抛光液及辅助体会产生析出或分散，有效
地油墨把抛光液固定在表面上。

常见的稳定剂有聚乙烯-2氯乙烯共聚物、聚氯乙烯及其衍生物等。

四、抗摩擦剂：也叫抗磨剂，主要作用是防止抛光液和磨料粒子之间的摩擦，从而抑
制抛光液的研磨度，提高抛光效果，通常主要有硅油及其衍生物和羟基磷灰石等。

五、防腐保护剂：添加了防腐保护剂的抛光液具有良好的耐酸碱性、耐锈性及耐高温性，因此，能把表面的垃圾物质除尽，使表面更具防腐保护能力，常见的防腐保护剂有甲
酸钠、醋酸、酸性氢氧化钠、乙醇酸二乙酯等。

抛光液的制备
抛光液的制备一般可以根据不同的应用需求而有所不同，下面是一种常见的抛光液制备方法：
材料：
- 水
- 抛光粉末（例如氧化铝、氧化铁、碳化硅等）
- 分散剂（例如表面活性剂）
步骤：
1. 取一定量的水倒入容器中，作为制备抛光液的溶剂。

2. 将适量的抛光粉末加入溶剂中，搅拌均匀，直到粉末完全溶解或悬浮在溶液中。

3. 在溶剂中加入适量的分散剂，继续搅拌均匀。

分散剂的作用是使抛光粉末均匀分散在溶液中，防止粒子聚集。

4. 继续搅拌溶液，使抛光液达到所需的浓度和稠度。

如果需要调整抛光液的性质，可以适量添加其他添加剂，例如乳化剂、防腐剂等。

5. 将制备好的抛光液进行过滤，去除大颗粒杂质，以获得清澈的液体。

6. 将抛光液装入密封容器中，保存备用。

需要注意的是，抛光液的制备要根据具体应用需求进行调整，如不同的材料、不同的表面处理要求等，可以根据实际情况调整抛光粉末的种类、浓度和稠度等参数。

另外，也可以根据需要进行配方中其他添加剂的调整。

制备抛光液时需要小心操作，避免污染和意外事故的发生。

抛光液的组成及其他影响因素①抛光液组成：为了保证化学抛光的效果，必须使金属表面溶解，并在表面形成前述的液体膜或固体膜。

化学抛光液的基本组成一般包括腐蚀剂、氧化剂、添加剂和水。

其中，腐蚀剂是主要成分，主要使工件在溶液中溶解；氧化剂和添加剂可抑制腐蚀过程，使反应朝有利于抛光的方向进行；水对溶液浓度起调节作用，便于反应产物的扩散。

用作金属溶解的成分一般是酸，其中用得较多的是H2S04、HN03、HC1、H3PO。

、HF等强酸，而对铝那样的两性金属，也可用NaOH，在这些酸中由于高浓度的磷酸和硫酸都具有较高的黏度，可形成液体膜扩散层，故这种成分具有两种功能。

这也是在化学抛光液的组成中主要采用磷酸和硫酸的原因。

为了提高黏度，使扩散层容易形成，也可加进明胶或甘油等能提高黏度的添加剂。

为了促进固体膜的形成，则需加入以硝酸或铬酸为主的强氧化剂。

②抛光时间：化学抛光存在一个最佳抛光时间范围。

若时间过短，只能获得没有光泽的梨皮状表面；若时间过长，不仅溶液损失增大，而且加工表面会出现污点或斑点。

而这个时间范围受材料、抛光液组成及抛光温度等因素的影响，通常难以预测，只能通过实验测定。

化学抛光中往往同时产生氢气，这是在抛光具有氢脆敏感性材料时必须注意的问题。

另外抛光液温度高达100~200CC时，还会发生退火作用。

为了把氢脆和退火作用的影响降到最低，就必须在最适温度范围内选择尽可能短的抛光时间。

③抛光温度：化学抛光时，溶解速度随着抛光液温度的提高而显着增加。

此外，强氧化性的酸在高温时的氧化作用会变得很显着。

在化学抛光中，由于这些酸的溶解作用和氧化作用会同时发生，故多数情况下都是把抛光液加热到较高温度来进行抛光的。

需要提供温度来进行抛光的金属有钢铁、镍、铅等，若温度低于某一定值，就会失去光滑的腐蚀表面，故存在一个形成光泽面的临界点，在临界点以上的温度范围内抛光效果较好。

而这个温度范围又因液体的组成不同而异，如果高于这个温度范围，会形成点蚀、局部污点或斑点，使整个抛光效果降低。

石材抛光液配方成分,抛光原理及生产工艺技术石材抛光配方参考，工艺流程及抛光原理探讨大理石抛光是大理石护理晶面处理的前一道工艺流程或石材光板加工的最后一道程序。

是如今大理石护理的最重要的工艺流程之一。

目前大理石抛光工艺已经很成熟了，但是关于大理石抛光原料方面，基本还处于假说阶段，积极地开展这方面的研究, 对于我们正确地认识抛光过程, 掌握抛光实质, 从而改善抛光工艺, 提高抛光质量和抛光效率具有重大的理论意义与实践意义。

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嵌陷在毛毡表层的磨粒, 对板面进行冲撞、滑擦、滚压作用。

在这些机械力作用下,通过材料的去除和塑变, 使板面凸凹处趋于平整。

抛光初始时洒在板面上的少量水, 使得磨粒分布均匀, 易于嵌陷在毛毡上。

抛光开始后, 由于热作用使温度升高, 水份开始蒸发, 水蒸汽是表面活化剂, 对降低表层的强度, 增加微凸休的活化能起一定作用。

抛光原理：毛毡一α-氧化铝抛光是机械, 热物理和化学作用的联合作用过程。

其中机械, 热物理作用占主导地位。

抛光面是一塑性变形层。

该表层内晶粒大小基木不变，表层上存在吸附层, 吸附层不仅有空气, 水蒸汽的吸附物, 还吸附有磨料、磨屑及沾染物。

1.2、磨块抛光法抛光过程：主要采用M1或M1.5白刚玉磨块和金刚石磨块抛光，抛光过程中机械作用主要为冲撞、滑擦。

抛光液成分一、介绍抛光液是一种常见的表面处理剂，用于改善材料表面的光洁度和光亮度。

它由多种成分组成，每种成分都具有不同的功能和作用。

本文将详细介绍抛光液的成分，包括磨粒、溶剂、添加剂和稳定剂等。

二、磨粒磨粒是抛光液中的主要成分之一，它们的作用是在抛光过程中去除材料表面的微小凹陷和瑕疵，使表面更加光滑。

常见的磨粒有氧化铝、氧化铁、氧化硅等，它们具有不同的颗粒大小和硬度，可以根据需要选择合适的磨粒。

三、溶剂溶剂是抛光液中的溶解介质，它可以溶解其他成分，并帮助它们在抛光过程中发挥作用。

常见的溶剂有水、酒精、丙酮等，选择合适的溶剂可以提高抛光液的效果和稳定性。

四、添加剂添加剂是为了改善抛光液的性能和效果而添加的成分。

常见的添加剂包括表面活性剂、防腐剂、pH调节剂等。

表面活性剂可以降低液体的表面张力，增加液体与材料表面的接触面积，提高抛光效果；防腐剂可以防止抛光液在储存和使用过程中被污染和变质；pH调节剂可以调节抛光液的酸碱度，使其适应不同的材料和抛光要求。

五、稳定剂稳定剂是为了保持抛光液成分的稳定性而添加的成分。

抛光液在储存和使用过程中可能会受到温度、湿度和氧气等因素的影响，稳定剂可以减少成分的分解和变质，延长抛光液的使用寿命。

常见的稳定剂有抗氧化剂、防腐剂等。

六、其他成分除了上述主要成分外，抛光液中还可能含有其他辅助成分，如颜料、填料、着色剂等。

这些成分可以根据具体需要添加，以实现特殊的抛光效果或达到某种特定的外观要求。

七、总结抛光液的成分多种多样，每种成分都有其独特的功能和作用。

磨粒可以去除材料表面的瑕疵，溶剂可以溶解其他成分，添加剂可以改善抛光液的性能，稳定剂可以保持抛光液的稳定性。

了解抛光液的成分可以帮助我们选择适合的抛光液，提高抛光效果。

同时，在使用抛光液时，也需要注意成分的安全性和环境友好性，避免对人体和环境造成伤害。

抛光液的组成及其化学性能对抛光效果的影响一、ｐＨ值对抛光效果的影响ｐＨ值决定了最基本的抛光加工环境，会对表面膜的形成、材料的去除分解及溶解度、抛光液的粘性等方面造成影响。

常用的抛光液分为酸性和碱性两大类。

酸性抛光液具有可溶性好、酸性范围内氧化剂较多、抛光效率高等优点，常用于抛光金属材料，例如铜、钨、铝、钛等。

当ｐＨ＜７时，随着ｐＨ值的增大，由于电化学反应、晶片表面氧化及蚀刻作用减弱，机械摩擦作用占据主导地位，导致抛光效率降低，表面刮痕尺寸增大，所以酸性抛光液的ｐＨ最优值为４，常通过加入有机酸来控制。

酸性抛光液的缺点是腐蚀性大，对抛光设备要求高，选择性不高，所以常向抛光液中添加抗蚀剂ＢTＡ提高选择性，但ＢＴＡ的加入易降低抛光液的稳定性碱性抛光液具有腐蚀性小、选择性高等优点，通常用于抛光非金属材料，例如硅、氧化物及光阻材料等。

当ｐＨ＞７时，随着ｐＨ值的增大，表面原子、分子之间的结合力减弱，容易被机械去除，抛光效率提高，但表面刮痕尺寸增大；当ｐＨ＞12.5时，由于晶片表面亲水性增强，抛光效率开始降低，所以碱性抛光液的ｐＨ最优值为10~11.5，常通过向水溶液中加入NaOH、KOH或NHOH来控制。

碱性抛光液的致命缺点4是不容易找到在弱碱性中氧化势高的氧化剂，导致抛光效率偏低。

碱性抛光液的氧化剂主要有Fe(NO3)3、K3Fe(CN)6、HN4OH和一些有机碱。

二、氧化剂对抛光效果的影响金属材料的抛光过程中，为了能够快速地在加工表面形成一层软而脆的氧化膜，便于后续的机械去除，从而提高抛光效率和表面平整度，通常会在抛光液中加人一种或多种氧化剂。

氧化剂种类会对抛光效果产生影响。

抛光金属钨时常用的氧化剂有H2O2、Fe(NO3)3，及其混合物。

H2O2氧化性较弱，氧化反应仅仅发生在钨表面颗粒的边缘，只有当氧化产物(WO3)溶解后，剩余的硬度较大部分才能暴露出来，参与下一次氧化反应；Fe(NO3)3中Fe3+氧化性较强，能在钨表面能够迅速形成硬度小、脆性大且容易去除的氧化层，从而提高了抛光效率和表面质量；当H2O2和Fe(NO3)3混合剂时发生Fenton反应，生成氧化性更强的过氧氢氧自由基(·OOH)，氧化层的形成速度进一步加快，所以相对于Fe(NO3)3抛光效率提高大约一倍。

抛光液的制备抛光液在现代工业生产中有着广泛的应用，其制备方法至关重要。

本文将详细介绍如何制备不同磨粒和添加不同表面活性剂的抛光液，并提供具体的操作步骤。

一、制备不同磨粒的抛光液1.首先，选用商业用抛光液，如SiO2、Al2O3、CeO2等。

用量筒精确测量一定量的商业用抛光液，倒入烧杯中。

2.接下来，使用去离子水对抛光液进行稀释，直至达到所需的浓度。

3. 将稀释后的抛光液进行磁力搅拌，持续20分钟，以确保磨粒充分分散。

4. 在磁力搅拌的条件下，使用酸碱调节剂（如KOH、HNO3）将溶液调至所需的pH值。

二、制备添加不同表面活性剂的抛光液1.首先，称取一定量的表面活性剂，如聚醚、阴离子表面活性剂等。

将其用去离子水溶解，并进行磁力搅拌30分钟，确保表面活性剂完全溶解。

2.然后，用量筒测量一定量的市售SiO2抛光液，倒入烧杯中。

3. 将溶解好的表面活性剂缓慢倒入盛有SiO2抛光液的烧杯中，同时进行磁力搅拌20分钟，使表面活性剂与抛光液充分混合。

4.随后，加入适量的去离子水，将溶液稀释至所需体积。

5. 在磁力搅拌的条件下，使用酸碱调节剂（如KOH、HNO3）将溶液调至所需的pH值。

通过以上两个步骤，您就可以得到制备好的抛光液。

在实际操作过程中，还需要注意以下几点：1.稀释抛光液时，应缓慢搅拌，避免产生气泡和沉淀。

2.添加表面活性剂时，要确保其完全溶解，以免影响抛光效果。

3. 在调制pH值时，应密切观察溶液变化，避免酸碱度过高或过低。

4.制备过程中，尽量使用去离子水，以保证溶液的纯净度。

5. 在使用抛光液时，应根据实际需求选择合适的磨粒和表面活性剂。

掌握正确的抛光液制备方法，不仅可以提高生产效率，还能保证产品质量。