第十章 磨光抛光技术

抛光工序基础知识一、抛光的本质：抛光的过程是十分复杂的，经过大量的实验研究，大致可以归纳为三种理论：机械磨削理论、化学作用理论和热的表面流动理论。

迄今为止，一种综合性的观点被人们所承认，即抛光的本质是机械、化学和物理三种作用的错综复杂的过程。

二、抛光的目的：光学零件的抛光是获得光学表面最主要的工序。

目的一：去除精磨的破坏层，达到规定的表面质量要求。

目的二：精修面型，达到图纸要求的光圈和局部光圈，最后形成透明规则的表面。

三、影响抛光效率的工艺因素1．抛光机转速和压力。

在高速抛光中速度和压力的增加与抛光速率的提高近似成线形关系。

2．抛光液的影响。

实验表明，对于聚氨酯模，液温在30~35之间为宜；抛光液的浓度从0~15%抛光速率成线形增加，当超过30%时反而降低；抛光液的酸度，对抛光质量、抛光速率和加工表面的腐蚀影响都很大，通常PH值应控制在6~7之间的弱酸性为好；抛光液的供给量，流量过大或过小抛光速率都降低，其大小应与抛光液的浓度和温度等参数配合；抛光粉的粒度，其粒度应根据表面疵病要求选择，一般表面疵病要求较高时，采用粒度较细的抛光粉。

3. 玻璃种类及精磨后的表面粗糙度等，对抛光效率和零件的表面质量都有重要影响。

抛光技能1．光圈的识别：a)三个概念：1、被检光学表面的曲率半径相对于参考表面曲率半径的偏差称半径偏差。

2、被检光学表面与参考光学表面在两个相互垂直方向上产生的光圈数不等所对应的偏差称像散偏差。

3、被检光学表面与参考光学表面在任一方向上所产生的干涉条纹的局部不规则程度称局部偏差。

半径偏差像散偏差局部偏差b)高低光圈的判定高光圈：为正i.周边加压时，光带向边缘移动。

ii.一边加压时，光带中心和施力点一致。

周边加压一侧加压低光圈：为负1．周边加压时，光带向中心移动。

2．一边加压时，光带中心和施力点相反。

周边加压一侧加压2、光圈的度量1）在光圈数多的情况下，以有效检验范围内直径方向上最多条纹数的一半来度量。

第十篇抛光加工工艺第七章抛光加工工艺一、抛光原理光学加工中，抛光是精磨以后的一个主要工序。

工件在精磨之后，虽然具有一定的光滑和规则的表面形状，但它还不完全透明而且表面形状也不是所要求的，需要经过抛光才能成为所要求的抛光表面。

因此抛光的目的即为：①去除精磨的破坏层达到规定的外观限度要求。

②精修面形，达到图面规定的曲率半径R值，满足面本数NR要求及光圈局部允差（亚斯）的要求。

玻璃抛光机理对玻璃抛光本质的认识，很早就引起了人们的重视，特别是20世纪以来，有关的文献发表了很多。

但是玻璃的抛光是个十分复杂的过程，所以至今尚未形成一种能说明一切有关抛光现象的统一理论，经过长期的观察和研究，目前，主要有三种学说1、机械研削理论：认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。

但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂（我公司目前使用的抛光粉粒度范围(0.5um-3um）。

所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。

由于研磨皿与镜片表面相当吻合，因此抛光时切向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。

实验表明抛光粉粒度在一定范围时粒度越大，研磨效率高；研磨粉硬度越高，抛光速率越高（如氧化铈Ce02研磨粉比红粉Fe2O3硬度高，前者比后者抛光速率高2～3倍。

）另外在一定范围内，增加压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高,高速抛光即是依此而发展起来的。

通过实验测得，抛光掉的玻璃颗粒尺寸大约为1～1.2nu。

仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。

2、化学学说认为抛光过程主要是水、研磨剂、研磨皿等与玻璃之间化学作用的结果。

①玻璃表面受水的作用，水解反应生成硅酸凝胶层。

在抛光过程中，抛光皿和研磨剂随时从玻璃表面凸凹层的硅酸凝胶去除，露出玻璃新的表面，再水解，再去除，往复循环达到抛光效果。

②抛光剂的PH值对研磨抛光影响甚大。

③硝材的化学稳定性与研磨效率有直接关系。

研磨抛光技术范文干式研磨抛光是指在研磨过程中不添加液体冷却剂或润滑剂。

主要通过机械力切割材料表面，去除缺陷，并形成平整的表面。

干式研磨抛光适用于坚硬的材料，如金属和陶瓷，因为这些材料具有较高的热导性，可以通过导热来带走摩擦产生的热量。

同时，干式研磨抛光具有研磨精度高、易于控制、成本低等优点。

湿式研磨抛光是指在研磨过程中添加液体冷却剂或润滑剂。

液体冷却剂可以有效降低研磨温度，防止材料因摩擦产生的热量过高而烧伤。

湿式研磨抛光适用于软质材料，如塑料和玻璃，因为这些材料热导性较差，很容易受热损伤。

此外，湿式研磨抛光还能起到清洁材料表面的作用，可以去除材料表面的杂质和切削屑，提高研磨抛光效果。

研磨抛光技术具有广泛的应用。

在工业制造中，研磨抛光被广泛应用于模具制造、精密机械零件加工和光学器件制造等领域，以提高精度和表面质量。

在科学研究中，研磨抛光可以用于制备材料样品、制备透明陶瓷和材料表征等。

在日常生活中，研磨抛光技术也被广泛应用于汽车修理、家具制作和珠宝首饰加工等领域。

研磨抛光工艺的表面质量和精度受多种因素影响。

首先是研磨工具的选择。

不同的材料需选择不同的研磨工具，如砂纸、砂轮、研磨石等。

其次是研磨参数的选择，包括研磨速度、研磨压力和研磨时间等。

研磨速度过高可能导致材料表面产生过多的热烧伤，研磨压力过大可能导致材料表面划痕和拉伸变形，研磨时间过长可能导致材料表面过度磨损。

最后是液体冷却剂或润滑剂的选择，不同的材料需要使用不同的液体冷却剂或润滑剂来实现最佳的研磨效果。

总之，研磨抛光技术是一种重要的表面加工工艺，可以极大地改善材料表面的质量和精度。

无论是在工业制造、科学研究还是日常生活中，研磨抛光技术都发挥着重要作用，并且随着科技的进步和应用需求的不断提高，研磨抛光技术将不断发展和完善。

光学抛光技术光学抛光技术是一种重要的表面处理技术，它在许多领域都有广泛的应用。

通过光学抛光技术，可以使物体表面变得光滑，提高其光学性能和外观质量。

光学抛光技术的原理是利用磨料与物体表面的摩擦和碰撞，不断磨削物体表面，去除表面的凹凸不平和微小缺陷，从而使物体表面变得光滑。

在光学抛光过程中，通常需要使用一定的抛光液和特殊的抛光工具，如抛光布、抛光盘等。

光学抛光技术主要应用于光学元件的制造和光学仪器的加工。

在光学元件的制造过程中，光学抛光技术可以用来制作透镜、反射镜等器件的表面。

通过抛光，可以去除制造过程中产生的瑕疵和污染物，使光学元件的表面达到高质量的要求。

在光学仪器的加工过程中，光学抛光技术可以用来加工光学器件的表面，提高其光学性能和使用寿命。

光学抛光技术在光学制造领域具有重要的意义。

它可以提高光学器件的透光性和反射性能，提高光学系统的分辨率和成像质量。

同时，光学抛光技术还可以减少光学元件的表面散射，提高光学系统的光学效率。

因此，在光学制造领域，光学抛光技术是不可或缺的。

除了光学制造领域，光学抛光技术还在其他领域有广泛的应用。

在光学通信领域，光学抛光技术可以用来制造光纤连接器和光纤接头的表面，提高光纤连接的质量和稳定性。

在光学传感器领域，光学抛光技术可以用来加工传感器的光学面，提高传感器的灵敏度和响应速度。

在光学显示领域，光学抛光技术可以用来加工显示屏的表面，提高显示屏的亮度和色彩还原度。

光学抛光技术的发展离不开科学技术的进步和工艺的改进。

随着材料科学、光学技术和加工工艺的不断发展，光学抛光技术也在不断创新和改进。

例如，近年来，光学抛光技术中的抛光液和抛光工具得到了很大的改进，使得抛光效果更加理想。

同时，还出现了一些新的光学抛光技术，如离子束抛光技术、激光抛光技术等，进一步提高了抛光效果和加工精度。

光学抛光技术是一种重要的表面处理技术，它在光学制造、光学通信、光学传感器和光学显示等领域都有广泛的应用。

制造工艺中的磨削和抛光技术制造工艺中的磨削和抛光技术在现代工业领域中起着极其重要的作用。

磨削和抛光技术是通过对材料表面进行磨削和抛光处理，达到改善表面光洁度、精度和形状的目的。

本文将深入探讨磨削和抛光技术在制造工艺中的应用，以及工艺参数对加工效果的影响。

一、磨削技术的应用磨削技术是制造工艺中常用的一种加工方法。

它通过在工件表面施加一定的压力和磨削力，在磨料的作用下，去除工件表面的金属材料，达到一定的精度和光洁度要求。

目前，磨削技术广泛应用于精密加工、零件修复、表面处理等领域。

磨削技术的加工过程包括磨削机床的选择、磨削工具的选择和磨削参数的选取。

在选择磨削机床时，需考虑工件材料、形状和尺寸等因素，并根据具体情况选择合适的磨削机床。

磨削工具的选择则需综合考虑加工对象的硬度、形状和加工要求等因素，选取适合的磨削工具。

磨削参数的选取包括切削速度、磨削深度和切削速率等，合理选择磨削参数可以提高加工效率和加工质量。

二、抛光技术的应用抛光技术是制造工艺中用于提高工件表面光洁度和质量的一种方法。

抛光技术通过使用一定粒度和韧性的抛光材料，在机械装置的作用下，对工件表面进行细微磨削，以消除表面的缺陷和瑕疵，获得平滑亮光的表面。

抛光技术广泛应用于金属加工、光学器件、电子元件等领域。

在金属加工中，抛光技术可以提高工件的表面光洁度和平整度，减小工件表面的颗粒和微观缺陷，从而提高工件的功能性和装饰性。

在光学器件的生产中，抛光技术可以消除光学镜面的纹理和划痕，提高镜面反射率和透过率。

在电子元件制造中，抛光技术可以提高电子元件的封装质量和可靠性。

三、工艺参数对加工效果的影响在制造工艺中，磨削和抛光技术的加工效果受到诸多工艺参数的影响。

首先是磨削或抛光材料的选择。

不同的材料具有不同的磨削和抛光效果，需根据具体情况选择合适的材料。

其次是磨削或抛光的速度和压力。

磨削或抛光过程中，合适的速度和压力可以提高加工效率和表面质量，但过高或过低的速度和压力则会影响加工效果。

研磨抛光机理
研磨抛光机理是指在研磨抛光过程中，磨料与工件之间的相互作用原理。

研磨抛光机理的研究可以帮助我们更好地理解研磨抛光的基本原理，进而提高研磨抛光的效率和质量。

研磨是通过磨料与工件之间的相互作用来消除工件表面的凸起
部分，从而使其表面变得光滑。

磨料可以是固体、液体或气体，它们与工件表面接触时产生的摩擦力和表面层的破坏力就是磨削力。

磨削力的大小取决于磨料和工件的性质以及它们之间的相互作用方式。

抛光是一种将工件表面进一步提高光洁度的加工方法。

在抛光过程中，磨料与工件表面的相互作用主要是破坏力和挤压力。

破坏力可以消除表面凸起部分，挤压力则能够填充表面微小凹陷，从而使表面更加光滑。

在研磨抛光过程中，磨料的选择和使用也是非常重要的。

不同类型的磨料具有不同的磨削力和抛光能力，因此需要根据工件表面的要求和材料特性选择合适的磨料。

同时，还需要控制研磨抛光过程的参数，如磨料颗粒大小、磨料浓度、磨料与工件的接触压力和速度等，以确保达到预期的加工效果。

总之，研磨抛光机理的深入研究有助于我们更好地理解研磨抛光的基本原理和关键因素，为提高研磨抛光的效率和质量提供了理论基础。

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机械制造中的磨削与抛光技术磨削与抛光技术在机械制造行业中扮演着重要的角色。

这些技术能够提高零部件的表面质量和精度，增加产品的功能性和附加值。

本文将探讨机械制造中常用的磨削与抛光技术，以及它们在提升产品性能方面的应用。

一、磨削技术1. 磨削原理磨削是通过磨削工具与工件表面的相互作用，削除工件表面的一层材料，从而使工件表面光洁度和精度得到提高的工艺。

常用的磨削工具包括砂轮、磨削头等。

通过选择合适的磨削工具和加工参数，可以实现对不同材料的磨削加工。

2. 磨削方法在机械制造中，常用的磨削方法包括平面磨削、外圆磨削、内圆磨削、曲面磨削等。

各种磨削方法适用于不同形状和尺寸的工件。

例如，平面磨削适用于具有平坦表面的工件，而外圆磨削适用于轴类零件等。

3. 磨削技术的应用磨削技术广泛应用于汽车、航空航天、船舶、机械设备等领域。

通过磨削技术，可以实现零件的高精度加工和表面处理，提高产品的耐磨性、耐腐蚀性和美观度。

例如，在汽车发动机制造中，磨削技术用于曲轴、凸轮轴等重要零件的加工，以提高其表面精度和耐磨性。

二、抛光技术1. 抛光原理抛光是通过磨料与工件表面的相互作用，去除表面微小凹凸和瑕疵，使工件表面光洁度得到提高的工艺。

抛光是磨削的一种延伸，常用的磨料包括研磨液、研磨膏等。

抛光通常在磨削之后进行，以进一步提升工件的表面质量。

2. 抛光方法在机械制造中，常用的抛光方法包括机械抛光、电解抛光、化学抛光等。

不同的抛光方法适用于不同材料和表面要求的工件。

机械抛光适用于较大尺寸和坚硬的工件，而电解抛光适用于金属材料的光洁度要求较高的工件。

3. 抛光技术的应用抛光技术在钟表、电子、光学等行业中得到广泛应用。

通过抛光技术，可以实现对工件表面质量的提升，提高产品的外观质量和功能性。

例如，在光学仪器制造中，抛光技术用于光学镜片和光学器件的加工，以提高其光学性能和表面光洁度。

总结：磨削与抛光技术是机械制造中不可或缺的工艺技术。

它们能够提高工件的表面质量和精度，增加产品的附加值和竞争力。

光学抛光技术光学抛光技术是一种高精度表面加工技术，广泛应用于光学元件、半导体器件等领域。

其主要目的是通过去除表面微小的凸起和凹陷，使得表面平整度、粗糙度和形状误差达到极高的要求。

下面将对光学抛光技术的主要内容进行展开。

一、基本原理光学抛光技术是利用机械化学作用，通过磨料与工件表面的相互作用来改善表面质量。

在抛光过程中，磨料与工件之间形成一个三体系统，即磨料、工件和液体介质。

通过调节液体介质中的pH值、温度、离子浓度等参数，可以控制化学反应过程，从而实现对表面的微观结构改善。

二、主要步骤1. 粗磨：在这一阶段中，利用较大颗粒大小的磨料进行切削加工，以快速去除工件表面的凸起和凹陷。

2. 中磨：在这一阶段中，使用较小颗粒大小的磨料继续加工，并逐渐减小磨料颗粒的大小，以进一步改善表面平整度和粗糙度。

3. 细磨：在这一阶段中，使用极小颗粒大小的磨料进行加工，以达到最终的表面光洁度和形状精度要求。

4. 抛光：在这一阶段中，采用特殊的抛光剂对工件表面进行处理，以去除残留的微小凸起和凹陷，并提高表面亮度。

三、常用设备1. 磨削机：主要用于粗磨和中磨阶段，可根据不同需求选择不同类型的砂轮或刀具。

2. 抛光机：主要用于细磨和抛光阶段，可根据不同需求选择不同类型的抛光头或抛光盘。

3. 清洗设备：用于清洗工件表面残留的油污和其他杂质，保证后续加工质量。

四、应用领域1. 光学元件制造：如透镜、棱镜、反射镜等，在光学器件制造过程中需要达到非常高的表面平整度和形状精度要求。

2. 半导体器件制造：如芯片、LED等，在半导体器件制造过程中需要达到非常高的表面光洁度和形状精度要求。

3. 金属材料加工：如铝合金、不锈钢等，在金属材料加工过程中需要达到非常高的表面平整度和粗糙度要求。

总之，光学抛光技术在现代制造业中应用广泛，其高精度、高效率的特点得到了广泛认可。

随着技术的不断发展，相信光学抛光技术将在更多领域发挥重要作用。