羰基碳的化学位移
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核磁共振碳谱各基团出峰位置
核磁共振碳谱(13C NMR)是一种常用的化学分析技术,用于确定有机化合物中碳原子的化学环境。不同基团的碳原子在核磁共振碳谱中会出现在不同的化学位移(ppm,即百万分之一)上,这是由于它们所处的化学环境不同,受到周围电子云的屏蔽效应不同,从而影响了它们对核磁共振信号的响应。
以下是一些常见基团在核磁共振碳谱中的出峰位置:
1. 甲基(CH3-):通常在0-30 ppm范围内出现。
2. 亚甲基(CH2-):通常在10-40 ppm范围内出现,但具体化学位移会受到相邻基团的影响。
3. 次甲基(CH-):通常在30-60 ppm范围内出现,同样也会受到相邻基团的影响。
4. 季碳(C-):由于没有氢原子与之相连,季碳的化学位移范围较广,通常在40-100
ppm之间,但也可能出现在更高或更低的化学位移上。
5. 羰基碳(C=O):通常在160-220 ppm范围内出现。
6. 芳香碳:通常在100-160 ppm范围内出现,但具体化学位移会受到芳香环上取代基的影响。
需要注意的是,以上仅是一些常见基团的大致出峰位置,实际上还会受到许多其他因素的影响,如溶剂、温度、pH值等。因此,在进行核磁共振碳谱分析时,需要综合考虑各种因素,结合化合物的结构和已知数据进行解析。
最后提醒一点,核磁共振碳谱的解析需要一定的专业知识和经验,建议在进行相关实验或数据分析时寻求专业人士的帮助。
测试核磁的样品一般要求比较纯,并且能够溶解在氘代试剂中,这样才能测得高分辨率的图谱。
为不干扰谱图,所用溶剂分子中的氢都应被氘取代,但难免有氢的残余(1%左右),这样就会产生溶剂峰;除了残存的质子峰外,溶剂中有时会有微量的H2O而产生水峰,而且这个H2O峰的位置也会因溶剂的不同而不同;另外,在样品(或制备过程)中,也难免会残留一些杂质,在图谱上就会有杂质峰,应注意识别。
常用氘代溶剂和杂质峰在1H谱中的化学位移 单位:ppm
溶剂 — CDCl3 (CD3)2CO (CD3)2SO C6D6 CD3CN CD3OH D2O
溶剂峰 — 7.26 2.05 2.49 7.16 1.94 3.31 4.80
水峰 — 1.56 2.84 3.33 0.40 2.13 4.87 —
乙酸 — 2.10 1.96 1.91 1.55 1.96 1.99 2.08
丙酮 — 2.17 2.09 2.09 1.55 2.08 2.15 2.22
乙腈 — 2.10 2.05 2.07 1.55 1.96 2.03 2.06
苯 — 7.36 7.36 7.37 7.15 7.37 7.33 —
NMRChemicalShiftsofCommon
LaboratorySolventsasTraceImpurities
HugoE.Gottlieb,*VadimKotlyar,and
AbrahamNudelman*
DepartmentofChemistry,Bar-IlanUniversity,Ramat-Gan52900,Israel
ReceivedJune27,1997
InthecourseoftheroutineuseofNMRasanaidfor
organicchemistry,aday-to-dayproblemistheidentifica-
tionofsignalsderivingfromcommoncontaminants
(water,solvents,stabilizers,oils)inless-than-analyti-
cally-puresamples.Thisdatamaybeavailableinthe
literature,butthetimeinvolvedinsearchingforitmay
beconsiderable.Anotherissueistheconcentration
dependenceofchemicalshifts(especially1H);results
obtainedtwoorthreedecadesagousuallyrefertomuch
moreconcentratedsamples,andrunatlowermagnetic
fields,thantoday’spractice.
Wethereforedecidedtocollect1Hand13Cchemical
shiftsofwhatare,inourexperience,themostpopular
“extrapeaks”inavarietyofcommonlyusedNMR
solvents,inthehopethatthiswillbeofassistanceto
各种的化学位移值经验计算方法及常见氢核的化学位移
1. 烷烃和取代烷烃中1H的化学位移
(1)可从表4-6直接查得取代基碳上的质子化学位移值。取代基对碳上的质子化学位移也有一定影响,在计算碳上的质子化学位移值时,应将表4-7中位的各种取代基影响值加到表4-6中的化学位移值上。
表4-6 不同取代基时CH3X、CH2X和CHX的质子化学位移(/ppm)
X CH3X CH2X CHX
-R 0.9 1.3 1.5
-CH=CH2 1.7 1.9 2.6
-CH=CH-CH=CH2 1.8
CH2=CH-C=CH2 2.0 2.2 2.3
-CH=N- 2.0 - -
-CCH 2.0 2.2 -
-COOR,-COOAr 2.0 2.1 2.2
-CN 2.0 2.5 2.7
-CONH2,-CONR2 2.0 2.0 2.1
-COOH 2.1 2.3 2.6
-COR 2.1 2.4 2.5
-SH,-SR 2.1 2.4 2.5
-I 2.2 3.1 4.2
-NH2,-NR2 2.1 2.5 2.9
-CHO 2.2 2.2 2.4
-Ph 2.3 2.6 2.9
-Br 2.6 3.3 4.1
-NHCOR,-NRCOR 2.9 3.3 3.5
-Cl 3.0 3.4 4.0
-OCOR 3.6 4.1 5.0
-OR 3.3 3.3 3.8
-N+R3 3.3 3.4 3.5
-OH 3.4 3.6 3.8
-OAr 3.7 3.9 4.0
-OCOAr 3.9 4.2 5.1
-NO2 4.3 4.4 4.6
注:表中R表示烷基,Ar表示芳香基。
表4-7 取代基X对位CH3、CH2、CH质子化学位移值的影响
X CH3-C-X CH2-C-X CH-C-X X CH3-C-X CH2-C-X CH-C-X
-C=C- 0.1 0.1 0.1 -Br 0.8 0.6 0.25