【材料课件】第九章半导体光电子材料[1]
- 格式:ppt
- 大小:2.52 MB
- 文档页数:188
§1-2 异质结的晶格匹配与异质结在光电子器件中的应用一、半导体光电子材料1.半导体光电材料特性参数2. 异质结中的晶格匹配二、半导体材料的折射率三、异质结特性及在半导体光电子器件中的应用一、半导体光电子材料.常见半导体材料(Si、GaAs)的能带图半导体的能带结构与晶向有关,都比较复杂,通常以能量E和波矢k的关系来表达。
Si的导带的极小值和价带的极大值不在同一k值处,因而为间接带;GaAs、InP的导带极小值和价带极大值同在相同的k=0处,这类材料为直接带隙材料。
1.半导体光电材料特性参数晶体结构、晶格常数a,热胀系数,能带类型、(单位为ev)、电子迁移率µn和空穴迁移率µp、禁带宽度Eg介电常数ε和电子亲合势χ。
•Si间接带隙材料,金刚石结构,原胞是面心立方结构,常规电子器件和高速的集成电路材料。
Si、Ge等Ⅳ族元素半导体都是间接带隙等材料,其发光效率非常低,不适于做发光器件。
•GaAs、InP是直接带隙材料,闪锌矿结构。
沿着它的{110}晶面很容易把晶体一分为二地解理开来,故此面称为解理面。
Ⅲ-Ⅴ族中的直接带隙材料。
在{110}面中,同时有等数量的Ga原子和As原子,因此显示出电学中性。
解理面非常平坦、光亮,有较高的反射率,解理面之间相互平行,因此两个相向平行的解理面就构成一个非常好的谐振腔。
二、半导体材料的折射率不同化合物的禁带宽度Eg和折射率n随组分的变化趋势正好相反,即Eg大的化合物,折射率n反而较小。
这正是设计半导体光电器件常常需要的。
Al x Ga 1-x As 的折射率n 随AlAs 组分x 之间的依赖关系为2091.0710.0590.3xx n +−=Ga x In 1-x As y P 1-y 的折射率n 的表达为()2059.0256.04.3yy y n −+=折射率是一个很重要的光学参数。
折射率的大小、异质结构中的折射率梯度、折射率随波长、载流子浓度、温度等等的变化都会影响半导体激光器、探测器、波导器件的性能,尤其会影响激光的波长和模式。
§1-2 异质结的晶格匹配与异质结在光电子器件中的应用一、半导体光电子材料1.半导体光电材料特性参数2. 异质结中的晶格匹配二、半导体材料的折射率三、异质结特性及在半导体光电子器件中的应用一、半导体光电子材料.常见半导体材料(Si、GaAs)的能带图半导体的能带结构与晶向有关,都比较复杂,通常以能量E和波矢k的关系来表达。
Si的导带的极小值和价带的极大值不在同一k值处,因而为间接带;GaAs、InP的导带极小值和价带极大值同在相同的k=0处,这类材料为直接带隙材料。
1.半导体光电材料特性参数晶体结构、晶格常数a,热胀系数,能带类型、(单位为ev)、电子迁移率µn和空穴迁移率µp、禁带宽度Eg介电常数ε和电子亲合势χ。
•Si间接带隙材料,金刚石结构,原胞是面心立方结构,常规电子器件和高速的集成电路材料。
Si、Ge等Ⅳ族元素半导体都是间接带隙等材料,其发光效率非常低,不适于做发光器件。
•GaAs、InP是直接带隙材料,闪锌矿结构。
沿着它的{110}晶面很容易把晶体一分为二地解理开来,故此面称为解理面。
Ⅲ-Ⅴ族中的直接带隙材料。
在{110}面中,同时有等数量的Ga原子和As原子,因此显示出电学中性。
解理面非常平坦、光亮,有较高的反射率,解理面之间相互平行,因此两个相向平行的解理面就构成一个非常好的谐振腔。
二、半导体材料的折射率不同化合物的禁带宽度Eg和折射率n随组分的变化趋势正好相反,即Eg大的化合物,折射率n反而较小。
这正是设计半导体光电器件常常需要的。
Al x Ga 1-x As 的折射率n 随AlAs 组分x 之间的依赖关系为2091.0710.0590.3xx n +−=Ga x In 1-x As y P 1-y 的折射率n 的表达为()2059.0256.04.3yy y n −+=折射率是一个很重要的光学参数。
折射率的大小、异质结构中的折射率梯度、折射率随波长、载流子浓度、温度等等的变化都会影响半导体激光器、探测器、波导器件的性能,尤其会影响激光的波长和模式。