,从而引起掺锗石英玻璃中引起折射率的改变,
其改变的具体数值如下式:Kramers-Kronig关系
:
n(')
c
()d 0 2 '2
色心模型认为,在紫外 光照射下电子在不同位置上 的重新分布是掺锗石英光纤 折射率改变的主要原因。
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密致模型
玻璃的光敏性与玻璃中缺陷有关,在紫外光照射 下光纤材料中的局部应力和密度将发生变化。掺锗 石英玻璃的折射率与其密度呈线性关系,因此这种 应力和密度的变化被认为是光纤材料中光致折射率 的一种可能的机制-密致模型。
纤形成的折射率变化是持久的,室温条件下放置2个星
期下降11%。
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3、光纤材料的还原性处理
通过在光纤拉制中完成后用氢灯对所要曝光的 光纤段进行“焰刷”处理。把拉制好的标准通信锗 光纤段放在~1700℃的氢氧焰下灼烧,使光纤在 240nm处的吸收增加,可获得大于10-3的折射率变化 ,光纤材料的光敏性提高了一个数量级。缺点就是 高温灼绕破坏了光纤,有长期稳定性的问题。
• 1989年 G.Melts 报道了从光纤的侧面用激光的干 涉曝光制作了光纤光栅,使光纤光栅得到迅速发 展。
• 1993年 K.O. Hill提出的相位掩模制造法使光纤 光栅的制造技术得到重大发展,使光纤光栅的大 批量制造成为可能。
3
一、 光纤光栅的基本概念
1.光纤光栅
光纤光栅是一种折射率沿光纤纵向周期变化的波 导。当光通过这样的波导时将产生相位的周 期性变化。
载氢光纤在紫外光照射时将引起氢气和掺锗石英 光纤之间产生化学反应,H2分子在Si-O-Ge区发生变 化,形成与折射率有关的Ge-OH,Si-OH,Ge-H,Si-H等
化学键和缺氧锗缺陷中心,从而产生光致折射率变化