项目1-半导体器件识别与检测(陈振源--2版)
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思考与练习答案第1章半导体器件一、填空题1.过热烧毁击穿2.单向导电性3.放大区截止区饱和区放大区4.发射结集电结放大区截止区饱和区5.100 2.5mA6.正偏反偏7.几~几十1.5〜3V8.光电反偏9.放大10.100 4mA11.集电极发射极12.⑴集电基发射(2)50 ⑶PNP13.电压电场效应14.结绝缘栅15.源极漏极16.控制极触发P N栅极反向维持二、选择题1. B2.B3.B A4.B5.C6.C7.A8. B9. B 10. B 11.B 12.C A B三、综合题1.图(a)“Ao = 6V;图(b)”Ao = 0V;图(C)U A0=12V;图(d)U A0=-6V2,两只稳压值不等的稳压管串联使用,有4种接法,结果分别为13. 5V、6. 7V、8. 2V、1.4V;两只稳压值不等的稳压管并联使用,有4种接法,只是得到的稳压值只有两种,结果为6V 和0. 7V;四、实训题1.答:⑴黑笔接的是万用表内部电源的正极,红笔接的是万用表内部电源的负极。
在万用表测得的阻值小的情况下,说明此时二极管外加的电压是正向电压(正向偏置),所以黑笔(电源正极)接的是二极管的正极,红笔接的是二极管的负极。
⑵若将红、黑笔对调后,万用表指示的方向与⑴相反,即阻值很大,近似为无穷大。
(3)如正向、反向电阻值均为无穷大,二极管内部为断路。
(4)如正向、反向电阻值均为零,二极管内部短路。
(5)如正向和反向电阻值接近,说明此时二极管已不具有单向导电的性能。
2.答:⑴基极 (2)基极NPN 型PNP 型第2章 三极管放大电路一、填空题1.静态 Q /BQ /CQ U BEQ U CEQ2.动态 输入信号 电源直流交流3.不失真地放大输入信号4.开路 短路 短路5.基极 射极 集电极6.相反7,同 减小 低提高8.截止失真减小饱和失真增大输入信号过大 9.截止饱和R B10.集电 共集电极11. 1电压 电流和功率 相同 12.共射组态 共集组态 共射组态 13.阻容耦合 变压器耦合直接耦合14.减小增大 15. 30 P A 3mA16. (1) 48u A,2.4mA, 5.2V,放大(2) 1000uA,50mA, 0V,饱和 (3) 10 V, 截止二、选择题1. C2. B3.B4. B5. A C6. C四、实训题 1.答:用万用表测量静态工作点/CQ 时,应选择万用表的电流挡位(具体挡位应根据被测电 路的参数来选择),将万用表串联接在电路中。
附件2:《半导体光电子材料与器件》教学大纲(理论课程及实验课程适用)一、课程信息课程名称(中文):半导体光电子材料与器件课程名称(英文):Semiconductor Optoelectronic materials and devices课程类别:选修课课程性质:专业方向课计划学时:32(其中课内学时:40 ,课外学时:0)计划学分:2先修课程:量子力学、物理光学、固体物理、激光原理与技术、半导体物理等选用教材:《半导体物理学简明教程》,孟庆巨胡云峰等编著,电子工业出版社,2014年6月,非自编;普通高等教育“十二五”规划教材,电子科学与技术专业规划教材开课院部:理学院适用专业:光电信息科学与工程、微电子学等专业课程负责人:梁春雷课程网站:无二、课程简介(中英文)《半导体光电子材料与器件》是光电信息科学与工程本科专业的专业课。
学习本课程之前,要求学生已经具有量子力学、热力学与统计物理、固体物理和半导体物理方面的知识。
本课程论述基于电子的微观运动规律为基础的各种半导体器件的工作原理。
其核心内容是硅光电子器件的工作原理和设计方法。
本课程的目的是让学生了解和掌握半导体器件相关的物理知识,熟练掌握各种常见半导体器件参数与器件的结构参数和材料参数之间的关系。
能够使用典型的光电子器件进行光电探测。
初步具备新型器件的跟踪研究能力和自主开发能力。
Semiconductor Optoelectronic Materials and Devices is the course designed for the undergraduate students of optoelectronic information science and engineering specialty. Before taking this class, the students are required to have the knowledge of quantum mechanics, thermodynamics and statistical physics, solid state physics and semiconductor physics.The class will discuss the principles of working of all kinds of Semiconductor devices based on the microscopic movement of electron. The main content will be the principle of working and the method of design of optoelectronic devices base on silicon. The purpose is to let the students understand and master physical knowledge related to the semiconductor devices, skillfully master all kinds of relations of semiconductor devices parameters with structural parameter and material parameter. The students are requires to be able to employ some typical devices for photoelectric detection, also they will be able to have the basic ability to follow and develop new devices.三、课程教学要求序号专业毕业要求课程教学要求关联程度1 工程知识本课程注重培养学生理论联系实际的能力、科学研究的思想方法、创新能力以及工程实践能力等。
《电路分析》教学大纲编写:杨帆审核:赵红梅一、课程性质与任务本课程是电类专业的一门技术性很强的专业基础课。
通过本课程的学习,使学生掌握电路的基本理论知识,学会分析计算电路的基本方法和初步的实验技能。
为学习后续有关课程(如信号与系统、模拟电子线路及脉冲技术等课程)准备必要的电路基本知识,为今后从事电类各专业的学习和工作打下必备的基础。
二、教学基本要求1.牢固掌握电路理论的基本概念(如:电压、电流、功率、参考方向)基本定律(欧姆定律 KCL 、KVL)及电阻、电感电容、独立电源和受控源器件的基本特性。
2. 熟悉掌握线形电路的基本分析方法和网络定理,如:节点法、支路法、回路法、叠加原理、戴维南定理、和互易定理等,并能够灵活的运用它们来分析各种电路。
3. 重点掌握正弦稳态分析的基本概念(如:极大值、有效值、频率、相位等)及向量分析(如:向量图、复阻抗、复导纳等),熟练地运用向量法对正弦电路进行分析和计算(包括三相电路和具有互感耦合电路的计算)。
4.了解非正弦周期电路的谐波分析法。
5.熟练掌握动态电路的时域分析法。
对时域法,要求深刻理解时间常数、一阶的零输入响应、一阶零状态响应和阶跃响应等概念;对频域法,要求掌握拉氏变换分析电路的方法和步骤(如:运算阻抗、拉氏正变换、拉氏反变换)。
6.了解一般非线形电路的特点,熟悉非线形电路的计算方法(如:图解法、小信号分析法等)及非线形电路方程的编写。
7.掌握电路的拓扑矩阵,能熟练列写复杂电路方程的矩阵8.了解网络函数的性质,掌握极零点在复频率平面上的分布与网络时域的特点。
9.掌握二端口的方程和参数及二端口的等效电路。
10.学会正确使用常用的电工仪表和调节设备,掌握一些基本的电工及电子测试技术。
三、课程的主要内容及教学要求1电路模型和电路定律1.1电路和电路模型1.6电流及电压的参考方向1.5功率和能量1.4电阻元件1.5电压源和电流源1.6受控源1.7基尔霍夫定律教学基本要求:掌握,电压、电流及其参考方向;电功率和电能量;电阻、电压源和电流源等电路元件的特性及其电压电流关系;线性和非线性的概念;基尔霍夫定律。
职业院校理论实践一体化系列教材(光电子技术专业)半导体光电器件封装工艺思考与习题答案总主编:陈振源主编:战瑛张逊民Publishing House of Electronics Industry北京 BEIJING《半导体光电器件封装工艺》思考与习题答案项目一了解光电器件封装规范任务一了解光电器件的封装工艺环境(1)半导体光电器件封装的作用有哪些?解答:半导体光电器件封装的作用:确保半导体芯片和电路之间正确的电气和机械性的互相连接,保护芯片不让其受到机械、热、潮湿及其它种种的外来冲击,以防止空气中的杂质对芯片电路的腐蚀而造成电气性能下降。
同时,更便于安装和运输。
(2)半导体光电器件封装工艺环境应该如何?工艺环境都在哪些方面有要求呢?解答:半导体光电器件封装应在十万级到万级的净化车间中进行,同时应控制温度为17~27℃,相对湿度为30~75%,工艺全程采用静电防护措施。
(3)衡量光电器件封装好坏与否的标准是什么?解答:衡量光电器件封装的质量标准:封装好的器件的发光角度优于单颗的芯片,器件的芯片面积与封装面积之比接近1,封装后的器件可靠性高。
任务二光电器件封装安全性的认识(1)半导体封装过程中哪些操作或环节容易产生静电?如果不及时将静电释放,会对半导体光电器件有何危害?解答:半导体器件在制造、测试、存储、运输及装配过程中,仪器设备、材料及操作人员都很容易因磨擦而产生几千伏的静电电压。
当器件与这些带电体接触时,带电体就会通过器件放电,产生很高的静电电压,这个电压会产生一个强电场击穿器件内部的一些绝缘体或PN结产生放电现象,瞬间电流足以造成半导体器件的热破坏,进而导致器件的失效。
(2)在光电器件封装工艺中为什么要做静电防护的工作?解答:静电的累加能够对光电器件直接造成破坏性的损伤,要么间接对器件造成潜在的电路危害以致半导体器件在后期使用过程中出现各种可靠性问题,因此在整个工艺过程中都要做静电防护的工作。
半导体器件失效分析与检测摘要:本文对半导体器件的失效做了详尽分析,并介绍了几种常用的失效检测方法。
1 半导体器件失效剖析经过剖析可知形成半导体器件失效的要素有很多,我们主要从几个方面进论述。
1.1 金属化与器件失效环境应力对半导体器件或集成电路牢靠性的影响很大。
金属化及其键合处就是一个不容无视的失效源。
迄今,大多数半导体器件平面工艺都采用二氧化硅作为掩膜钝化层。
为在芯片上完成互连,常常在开窗口的二氧化硅层上淀积铝膜即金属化。
从物理、化学角度剖析,金属化失效机理大致包括膜层张力、内聚力、机械疲倦、退火效应、杂质效应及电迁移等。
1.2 晶体缺陷与器件失效晶体缺陷招致器件失效的机理非常复杂,有些问题至今尚不分明。
晶体缺陷分晶体资料固有缺陷(如微缺陷)和二次缺陷两类。
后者是在器件制造过程中,由于氧化、扩散等热处置后呈现或增殖的大量缺陷。
两种缺陷或者彼此互相作用,都将招致器件性能的退化。
二次击穿就是晶体缺陷招来的严重结果。
1.2.1 位错这种缺陷有的是在晶体生长过程中构成的(原生位错),有的是在器件工艺中引入的(诱生位错)。
位错易沿位错线加速扩散和析出,间接地促成器件劣化。
事实证明,表面杂质原子(包括施主和受主)沿位错边缘的扩散比在圆满晶体内快很多,其结果常常使P-N结的结平面不平整以至穿通。
鉴于位错具有“吸除效应”,对点缺陷如杂质原子、点阵空位、间隙原子等起到内部吸收的作用,故适量的位错反而对器件消费有利。
1.2.2 沉淀物除位错形成不平均掺杂外,外界杂质沾污也会带来严重结果,特别是重金属沾污,在半导体工艺中是经常发作的。
假如这些金属杂质存在于固溶体内,其危害相对小一些;但是,一旦在P-N结处构成堆积物,则会产生严重失效,使反向漏电增大,以至到达毁坏的水平。
堆积需求成核中心,而位错恰恰提供了这种中心。
硅中的二次孪生晶界为堆积提供了有利的成核场所,所以具有这种晶界的二极管,其特性明显变软。
1.2.3 二次缺陷。
国家标准《半导体器件功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据第1部分:缺陷分类》编制说明一、工作简况立项目的和意义碳化硅(SiC)作为典型的宽禁带半导体材料,与硅(Si)相比,具有击穿电场高、导热率高、饱和电子漂移速度高和本征载流子浓度低等优越的物理性能,非常适合在大功率、高温和高频环境下应用,因此广泛应用于新一代功率半导体器件中。
SiC基功率半导体器件相对于硅基器件,具有更快的开关速度、低损耗、高阻断电压和耐高温等性能。
当前: 全球半导体产业正处于深度变革,化合物半导体成为产业发展新的关注点,我国正加紧产业布局,抢占发展的主动权。
SiC外延片是在碳化硅单晶抛光片上经过化学气相沉积反应生长一层导电类型、载流子浓度、厚度和晶格结构都符合要求的碳化硅单晶薄膜,SiC同质外延片中存在的缺陷是衡量Sic外延片质量的重要参数,也直接影响SiC基功率半导体器件的成品率和可靠性,准确识别SiC外延片中的缺陷,对于SiC外延片的制备、使用有重要的意义。
关于SiC外延片中的缺陷分类及其检测方法,在我国目前均无统一的标准,需制定国家标准,规范SiC外延片的缺陷分类及其检测方法,指导SiC外延片的生产和使用,促进国内SiC半导体材料和SiC基功率半导体器件的发展。
1、任务来源《半导体器件功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据第1部分:缺陷分类》标准制定是2021年第4批国家标准计划项目,计划项目批准文号:国标委发【2021】41号,计划项目代号:-T-469。
归口单位为全国半导体设备和材料标准化技术委员会(TC 203),执行单位为全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(TC 203/SC2),承办单位为中国电子科技集团公司第十三研究所,项目周期为18个月。
2、主要工作过程起草阶段2021.1〜2021. 6:成立了编制组,查询、收集和分析相关标准资料。
编制组由半导体材料的设计人员、工艺人员、检验试验管理人员和标准化人员组成;编制组首先对IEC 63068-1 Edi. 0:2019进行翻译和研究,同时对收集的SiC外延材料相关的标准和资料进行分析,在草案的基础上对标准的内容进行进一步的完善,形成《半导体器件功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据第1部分:缺陷分类》征求意见稿。
《化合物半导体材料与器件》课程教学大纲课程代码:ABJD0527课程中文名称:化合物半导体材料与器件课程英文名称:CompoundSemiconductorMateria1sandDevices课程性质:选修课程学分数:2学分课程学时数:32学时授课对象:电子科学与技术专业本课程的前导课程:固体物理、半导体物理、场效应器件物理一、课程简介《化合物半导体材料与器件》是一门电子科学与技术专业的专业核心课程,所涉及的专业技术内容有:化合物半导体材料,化合物半导体器件,半导体异质结的形成,半导体异质结的能带,异质结双极晶体管,金属半导体肖特基接触,金属半导体场效应晶体管,调制掺杂场效应晶体管,半导体光电子器件,宽带隙化合物半导体器件等基础化合物半导体材料和器件知识。
旨在培养电子科学与技术专业的学生,能够在半导体领域内掌握相关理论基础和器件结构的技术人才。
二、教学基本内容和要求第一章化合物半导体材料与器件基础主要教学内容:(1)、半导体材料的分类;(2)、化合物半导体材料晶格结构;(3)、化合物半导体材料化学键和极化;(4)、化合物半导体材料能带结构;(5)、化合物半导体材料施主和受主能级;(6)、化合物半导体材料载流子迁移率;(7)、化合物半导体器件的发展方向。
教学要求:1)、了解元素半导体、化合物半导体、半导体固溶体概念和种类。
2)、了解化合物半导体器件的发展方向。
3)、理解化合物半导体材料的晶格结构、化学键和极化。
4)、掌握化合物半导体材料的能带结构、施主和受主能级以及载流子迁移率。
重点:掌握化合物半导体材料的能带结构、施主和受主能级。
难点:掌握化合物半导体的截流子迁移率。
第二章半导体异质结主要教学内容:(1)、异质结的形成;(2)、异质结的能带图;(3)、突变异质结的伏安特性和注入特性;(4)、异质结的超注入现象;(5)、二维电子气的形成及能态;(6)、多量子阱与超晶格。
教学要求:1)、理解异质结的概念。
检测技术课程参考书目《自动检测技术及应用》,作者:梁森等,机械工业出版社,ISBN7-111-19926-X,¥35元光盘简介这套课件的主题为“自学与提高”。
主要为“自动检测与转换技术”的授课教师使用,但也是学生的辅助学习工具,内容侧重于检测技术的应用,涉及众多工业、科研、生活中各种常用的传感器。
本课件可拓展师生的视野和思路,它给出众多的实物照片和多媒体动画以及录像,使教师授课时更加直观和形象,让学生能在课堂上看到各种传感器的外形、工作过程和调试过程,可以较好地解决理论联系实际的难题,还可以增加学生学习本课程的兴趣,加深对本课程的理解。
作为学生的辅助学习材料,学生在学习各章的同时,可参阅课件对应章节的有关内容进行复习,并加深对课程内容的理解,对完成课后作业也有一定的帮助。
本课件与大多数其他课程的课件稍有不同,它不是教材文字的简单再现,不止是单纯地将课本上的章节提纲和文字打在屏幕上,而是按章节有系统地向读者展示了上千张实物照片、图片以及许多与教材内容有关的动画,还有机电一体化现场录像、作业辅导等。
它共分十三章,与作者编写的《自动检测技术及应用》教材的章节一一对应,相信教师在使用本课件之后,对本课程的讲解会有较大的帮助,对传感器技术的进步会留下深刻的印象。
作者在制作过程中,也感觉开拓了视野,提高了水平。
尤其是在搜集大量素材的工作中,常常为一些从未目睹过的精彩照片而感动,希望不会辜负大家的期望。
本光盘自动播放。
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读者点击想要阅读的章节标题,即可逐页翻阅。
本光盘自带相关的播放软件,无需安装,可降低对系统的要求。
第一节现代检测系统的基本结构第二节现代检测系统的接口总线第三节基于虚拟仪器的检测系统第四节传感器在现代汽车中的应用第五节传感器在数控机床中的应用第六节传感器在机器人中的应用第七节传感器在智能楼宇中的应用思考题与习题附录附录A 常用传感器的性能及选择附录B 压力单位及换算附录C 工业热电阻分度表附录D 镍铬—镍硅(镍铝)K热电偶分度表习题参考答案参考文献《自动检测技术》,作者:张欣欣,孙艳华,清华大学出版社,ISBN:781082879,¥22,元第1章绪论第2章检测系统的基本特性第3章信号及其特性分析第4章检测系统及其抗干扰设计第5章应力与应变检测第6章位移、速度、加速度检测第7章压力及扭矩检测第8章流量检测第9章温度检测第10章检测算法第11章检测系统方案实例附录A铂铑10-铂热电偶分度表附录B铂铑30-铂铑6热电偶分度表附录C镍铬—镍硅(镍铬—镍铝)热电偶分度表附录D铜-康铜热电偶分度表附录E镍铬-康铜热电偶分度表《自动检测和仪表中的共性技术》作者:徐科军陈荣保张崇巍出版社:清华大学出版社译者:丛书名:其他出版日期:2000-12—1上架日期:2005—10—8ISBN:730204075320元本书阐述自动检测和仪表中的共性技术。