快速热处理对(Ba,Sr)TiO3薄膜晶化行为的影响
- 格式:pdf
- 大小:262.49 KB
- 文档页数:4
Efe to p d T e ma n a i g o h y t l z t0 f f c fRa i h r lAn e l n t eCr sa l a i n 0 n i
( , r Ti h n F l Ba S ) OsT i i ms
Z HANG Qiy n , I no g JANG S u n ,L n o g h we IYa r n
摘要
采 用射频溅射法在 s(1) 片上制备 了(a S) i。B T 薄 膜, 对制备 的薄膜进 行 了快速 退 火热 i11基 B ,rT( ( S ) ) 并
处理。采用x射线衍射和原子力显微镜分析了退火温度、 退火时间和加热速度对 B T薄膜晶化行为的影响。研究结 S 果表 明,S B T薄膜的 晶化行 为强烈依 赖于退火温度 、 火时 间和加 热速度 。B T薄膜 的 结晶度 随退 火温度 的升 高而 退 S 提高。适当的热处理可降低 B T薄膜的表面粗糙度,S S B T薄膜的表面粗糙度随退火温度的升高经历了一个先降低后 增 大的过程 , 退火后 B T 薄膜 的表 面粗糙 度都小 于制备 态薄膜 的表 面粗糙 度 。B T薄膜 的晶粒 尺寸随 退火温 度的 但 S S
Absr c ta t
Th a i h r l n e l g( e rpd t ema n ai RTA) r c s sa o td t n e lte( , r Ti ( S t i i a n p o e si d pe o a n a h Ba S ) O3 B T) hn fms l
( S h o fM iree to ssa dS l —tt eto is U nv riyo e to isS in ea dTe h lg fChn 1 c o l co lcrnic n oi saeElcrnc , iest f o d Elcr nc e c n c n o yo ia, c
Байду номын сангаас
p e a e n S ( 1 ) u srt y RF g ei p te ig d p st n r p r do i1 1 s b tas b ma n t s utrn e o io .Th fe t fa n aig tm p r tu , n e l g c i e efcso n e l e ea r e a n ai n n t n e t g rt n cy tlz t nb h vo sa es se tcl tde . em ir sr cu e ft eBS t n fms i a d h a i aeo r sal ai e a ir r y tmaial su id Th co tu t rso h T hi i me n i o y l a ee po e y)1 a d AF . ers lss o t a r sal ain b h vo so h T hn fl ae sr n l e r x lrd b ( n M Th e u t h w h tc y tlz t e a ir ft eBS t i i i o m r to g y d — p n e to h n e l g tm p r t r .h n e l g t ea d t e h a ig rr . e cy tlz t n d g e fte BS e d n nt e a n ai e e au e t e a n ai i n h e tn a e Th r sal ai e r eo h T n n m i o ti i s i rv d wi h n ra e o n e l g tmp rt r. Th r p ra n aig c n d c e s h o tm e n hnfl i mp o e t te ic e s fa n ai e eau e ms h n e p o e n e l a er ae t e r o a n s u r RM S)o g n s fteB q a e( r u h e so h ST hn fl Th t i i m. eRMS r u h e so h S t i i sd c e ssa i t n h n o g n s ft eB T h nfl e ra e tfr ,a d t e m s ie e s swi h n aig tm p rt r ee s .Bu ,h n ra e t t ea n l e eau ei ra e h n n t t eRM S ru h e so h S t i i e st a h to h o g n s f eB T hnfl i ls h nt a f e t ms s t a- e o i d fm H o v r t eg an sz f h S t i i e e e ea is,a dt e e ra e t h n e l g sd p st i e l . we e ,h ri ieo eB T hnfl i ra s tf t n h n d ce sswiht ea n ai t ms n r n tmp r tr n rae W i h n ra eo h n el g t ,h e ea reic e s. t t eice s ft ea n ai i h n me t eXRD e k itn i n ra e whc m pis t a h p a n e st ice s , ih i l h tt e y e cy tlz t n d g e n ra e. d t eg an s ea dt eRM S r u h esice s tfrta dt e e ra ewi h rsal ai e reice ws s An h r i i n h i o z o g n s ra ea is ,n h nd ce s t t e n h a n aig t n ra ig Co a e o a n aig tme t eg ansz fteBS t i i smany d p n e to h n e l i ic esn . mp rdt n e l i ,h ri ieo h T hn f msi il e e d n n te n me n l a n aig tm p rt r. ih rh a ig r t e ut n s l rg an sz. n e l e eau e H g e e tn a ers l i mal r i i n s e e
Ch n u 6 0 5 2 S h o fM ae il in ea dTe h oo y Xiu ie it ,Ch n d 1 0 9 e gd 1 0 4; c o l t r sS e c n c n lg , h a Unv rsy o a c e g u6 0 3 )
升 高经历 了一 个先增大后减小的过程 。随退 火 时间的延 长, S E T薄膜 的特征 衍射峰 越 来越 强, k 薄膜的 晶化程 度越 来 越 高。随退 火时间的延 长 ,S B T薄膜 的晶粒 尺寸和表面粗糙度也 经历 了一个先 增大后 减小的过 程 。B T 薄膜的 晶粒 S
大 小 主要 由 退 火 温 度 决 定 。 高的 升 温速 率 可 获 得较 小 的 晶 粒 。 关键 词 (aS) i3 B ,rTO 薄膜 晶化 快速退 火热处理 X D F R A M
维普资讯
快速热处理对 (a S) i 。 B , rTO 薄膜晶化行为的影响/ 张勤勇等
快 速 热处 理 对 【 a S ) i 3 B ,r TO 薄膜 晶化 行 为 的 影 响
张 勤勇h ,蒋书文 李 言荣 ,
( 电子科技大学微 电子与固体电子学 院, 1 成都 6 0 5 ; 西华大学材料学 院 , 10 4 2 成都 6 O 3 ) 1 O 9