半导体物理
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半导体物理的基础知识半导体物理是研究半导体材料及其电子行为的一门学科。
半导体是介于导体和绝缘体之间的材料,具有独特的电子特性。
本文将介绍半导体物理的基础知识,包括半导体材料的结构、能带理论、杂质掺杂以及PN结等内容。
一、半导体材料的结构半导体材料是由单晶、多晶或非晶三种形态构成。
单晶是指晶体结构完整、无缺陷的材料,拥有良好的导电性能。
多晶是由多个晶粒组成,晶界存在缺陷,导电性能较差。
非晶的特点是结构无序,导电性能较差。
半导体材料的基本结构由共价键和离散缺陷构成。
共价键是指半导体材料中相邻原子之间的化学键,它保持了材料的稳定性。
离散缺陷是指晶体中出现的缺陷,如杂质、空穴等。
这些离散缺陷的存在对半导体材料的导电性能有重要影响。
二、能带理论能带理论是解释物质的导电性能的基础理论。
根据这一理论,半导体材料的电子行为与能带结构有密切关系。
能带是电子能量的分布区域,分为价带和导带两部分。
价带中的电子具有固定位置,不能自由移动;而导带中的电子能够自由移动。
在纯净的半导体中,价带带满,导带没有电子。
半导体的导电性能是通过在半导体中掺入适量的杂质来改变的。
杂质的掺入会导致新的能带形成,同时增加或减少可自由移动的电子数量。
掺杂过程中形成的能带被称为禁带,其能量介于价带和导带之间。
三、杂质掺杂杂质掺杂是一种通过引入少量外来原子来改变半导体材料导电性能的方法。
根据杂质掺入的原子种类不同,可以分为n型和p型两种半导体。
n型半导体是通过掺入五价元素,如磷(P)或砷(As),在半导体中形成额外的自由电子,增加导电性能。
这些自由电子会填满主导带,并进入导带,从而形成导电能力。
n型半导体表现为电子富余。
p型半导体是通过掺入三价元素,如硼(B)或铋(Bi),在半导体中形成额外的空穴,增强导电性能。
空穴是一种电子缺失的状态,它通过与晶格中的自由电子结合来传导电荷。
p型半导体表现为电子贫缺。
四、PN结PN结是将p型半导体和n型半导体通过一定方法连接而成的结构。
半导体物理学半导体物理学是研究半导体材料及其物性的学科领域。
半导体材料是一种将电流在导电和绝缘体之间进行调控的材料,具有在一定条件下可变的电导特性。
在现代电子技术中,半导体器件如晶体管、二极管和集成电路等起着重要作用。
本文将介绍半导体物理学的基本概念、理论与应用。
一、半导体的基本概念半导体是介于导体和绝缘体之间的一类材料。
与导体相比,半导体的电导率较低;而与绝缘体相比,半导体在一定条件下可以导电。
半导体材料通常由硅、锗和化合物半导体等组成。
半导体中主要存在两种载流子:电子和空穴。
电子是带负电荷的粒子,而空穴则可以被视为缺少一个电子的位置。
在半导体中,电子和空穴的行为决定了它的导电特性。
二、半导体的能带结构半导体的能带结构与其导电特性密切相关。
能带是描述材料中电子能量和允许电子处于的状态的能级。
常用的能带有价带和导带。
在绝缘体和绝缘态半导体中,价带和导带之间存在能隙,电子需要克服能隙才能跃迁到导带中形成电流。
而在半导体中,能隙相对较小,室温下部分电子已经跃迁到导带,因此半导体材料具有较好的导电性。
三、半导体的掺杂掺杂是通过向半导体材料中引入杂质来改变其电导特性。
掺杂分为n型和p型两种类型。
n型半导体是通过掺入五价杂质(如磷或砷)来引入额外的自由电子,从而增加半导体的导电性能。
而p型半导体则是通过掺入三价杂质(如硼或铝)来引入额外的空穴,从而增加半导体的导电性能。
四、半导体器件半导体物理学的应用主要体现在各种半导体器件的研制和应用上。
晶体管是最重要的半导体器件之一。
晶体管的基本原理是通过控制电流在半导体材料中的流动来放大和开关信号。
晶体管的发明极大地改变了电子技术的发展,并推动了计算机、通信和各种电子设备的进步。
二极管是另一种常见的半导体器件,它是由一个p型半导体和一个n型半导体组成。
二极管具有只允许单向电流通过的特性,可以用于整流、光电探测和电压调节等应用。
集成电路是一种将多个晶体管、二极管和其他电子元件集成在一起的半导体器件。
半导体物理考点归纳一·1.金刚石1) 结构特点:a. 由同类原子组成的复式晶格。
其复式晶格是由两个面心立方的子晶格彼此沿其空间对角线位移1/4的长度形成b. 属面心晶系,具立方对称性,共价键结合四面体。
c. 配位数为4,较低,较稳定。
(配位数:最近邻原子数)d. 一个晶体学晶胞内有4+8*1/8+6*1/2=8个原子。
2) 代表性半导体:IV 族的C ,Si ,Ge 等元素半导体大多属于这种结构。
2.闪锌矿1) 结构特点:a. 共价性占优势,立方对称性;b. 晶胞结构类似于金刚石结构,但为双原子复式晶格;c. 属共价键晶体,但有不同的离子性。
2) 代表性半导体:GaAs 等三五族元素化合物均属于此种结构。
3.电子共有化运动:原子结合为晶体时,轨道交叠。
外层轨道交叠程度较大,电子可从一个原子运动到另一原子中,因而电子可在整个晶体中运动,称为电子的共有化运动。
4.布洛赫波: 晶体中电子运动的基本方程为: ,K 为波矢,uk(x)为一个与晶格同周期的周期性函数,5.布里渊区:禁带出现在k=n/2a 处,即在布里渊区边界上;允带出现在以下几个区: 第一布里渊区:-1/2a<k<1/2a (简约布里渊区)第二布里渊区:-1/a<k<-1/2a,1/2a<k<1/aE(k)也是k 的周期函数,周期为1/a,即E(k)=E(k+n/a),能带愈宽,共有化运动就更强烈。
6.施主杂质:V 族杂质在硅,锗中电离时,能够释放电子而产生导电电子并形成正电中心,称它们 为施主杂质或n 型杂质7.施主能级:将施主杂质束缚的电子的能量状态称为施主能级,记为ED 。
施主能级离导带很近。
8.受主杂质:III 族杂质在硅,锗中能够接受电子而产生导电空穴,并形成负电中心,称它们为受主杂质或P 型杂质。
9.受主能级:把被受主杂质所束缚的空穴的能量状态称为受主能级,记为EA 。
受主能级离价带很近。
半导体物理考点归纳第一章 半导体中的电子状态一.名词解释1.电子的共有化运动:(P10)原子组成晶体后,由于电子壳的交叠,电子不再局限于某一个原子上,可以由一个原子转移到相邻的原子上去。
因而,电子可以在整个晶体中运动。
这种运动称为电子的共有化运动。
2.单电子近似:(P11)单电子近似方法认为,晶体中德电子是在周期性排列且固定不动的原子核势场,以及其他大量电子的平均势场中运动,这个势场是周期性变化的,且其周期与晶格周期相同。
3.有效质量:(P19)有效质量2*22n h m d Edk =,它直接把外力f 和电子的加速度联系起来,而内部势场的作用则由有效质量加以概括。
二.判断题1.金刚石和闪锌矿结构的结晶学原胞都是双原子复式格子,而纤锌矿结构与闪锌矿结构型类似,以立方对称的正四面体结构为基础。
(X )金刚石型结构为单原子复式格子,纤锌矿型是六方对称的。
2.硅晶体属于金刚石结构。
(√)3.Ge 的晶格是单式格子。
(X ) (复式)4.有效质量都是正的。
(X ) (有正有负)5.能带越窄,有效质量越小。
(X )(2*22n h m d Edk =,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大) 6.硅锗都是直接带隙半导体。
(X ) (间接)7.Ge 和Si 的价带极大值均位于布里渊区的中心,价带中空穴主要分布在极大值附近,对应同一个k 值,()E k 可以有两个值。
8.实际晶体的每个能带都同孤立原子的某个能级相当,实际晶体的能带完全对应于孤立原子的能带。
(X ) (不相当,不完全对应)三.填空题1.晶格可以分为7大晶系,14种布拉菲格子,按照每个格子所包含的各点数,可分为原始格子,体心,面心,底心。
2.如今热门的发光材料LED 是直接带隙半导体,该种材料的能带结构特点是当k=0时的能谷的极值小。
3.Ge 、Si 是间接带隙半导体,InSb 、GaAs 是直接带隙半导体。
4.回旋共振实验中能测出明显的共振吸收峰,就要求样品纯度高,而且要在低温下进行。
半导体物理的概念是什么
半导体物理是研究半导体材料和器件的物理学分支。
半导体材料是指一类在温度低于室温时是绝缘体,在高于室温时是导体的材料。
半导体物理研究包括半导体的材料特性、电子结构、能带理论、载流子运动、电导率、电子输运、PN结等相关理论和实验研究,以及半导体器件如晶体管、二极管、光电器件等的设计、制造和性能优化。
半导体材料的特性主要取决于其电子结构和能带理论,在此理论框架下,可以解释半导体特性中的许多现象和规律。
半导体中的原子价电子填满能量较低的全球化价带,而导电性较高的传导带的能量较高,由于其能隙比绝缘体小,这使得外来的激励如温度、光照等可以激发电子从价带跃迁到传导带中,同时在跃迁后留下空穴。
这些载流子在半导体中运动和输运的特性对半导体电子学和器件设计具有重要影响。
PN结是半导体器件中常用的器件之一,它是由n 型半导体和p 型半导体材料的拼接而成的结构。
在PN 结中,n-type 半导体中的高浓度自由电子和
p-type 半导体中的高浓度空穴的扩散汇聚产生了空间电荷区域,它使得PN 结在外加正向偏压下变成导体,在反向偏压下变成绝缘体,从而形成了PN 结二极管器件。
半导体物理的研究不仅对于半导体电子学理论、器件设计和制造具有重要意义,而且具有广泛的应用前景。
例如,半导体材料是制造电子器件的重要材料,其中
包括计算机、手机、平板电视、LED 灯等常用电子产品。
另外,半导体材料被广泛用于太阳能电池、光电器件、半导体激光器、放大器等领域,这些领域的发展对于节能减排、环保、医学、化学等方面都具有积极意义,同时也推动了半导体物理研究的发展。
一.名词简析1.施主能级答:当电子得到能量△E D后,就能从施主的束缚态跃迁到导带成为导电电子,所以电子被施主杂质束缚时的能量比导带低的E C低△E D。
将被施主杂质束缚的电子的能量状态称为施主能级,记为E D 。
2.俄歇复合答:载流子从高能级向低能级跃迁,发生电子—空穴复合时,把多余的能量传给另一个载流子,使这个载流子被激发到能量更高的能级上去,当它重新跃迁回低能级时,多余的能量常以声子形式放出,这种复合称为俄歇复合。
3.简并半导体答:导带中的电子数目已经很多,f(E)<<1的条件不能成立,而价带中的空穴数目也很多,【1-f(E)】<<1的条件也不能满足了,必须考虑泡利不相容原理的作用。
这时不能再应用玻耳兹曼分布函数,而必须用费米分布函数来分析导带中的电子及价带中的空穴统计分布问题。
这种情况称为载流子的简并化。
发生载流子简并化的半导体称为简并半导体。
4.功函数答:功函数又称功函、逸出功,在固体物理中被定义成:把一个电子从固体内部刚刚移到此物体表面所需的最少的能量。
(百度)5.有效质量答:有效质量(Effective mass),是用来方便引入经典力学的解决方法牛顿第二定律的一种近似。
它近似认为电子受到原子核的周期性势场(这个势场和晶格周期相同)以及其他电子势场综合作用的结果。
(维基百科)6.迁移率答:表示单位场强下电子的平均漂移速度。
7.PN节电容答:pn结有整流效应,但是它又包含着破坏整流特性的因素。
这个因素就是pn结的电容,它包括势垒电容和扩散电容两部分。
pn结上外加电压变化,引起势垒区的空间电荷数量随外加电压变化,这种电容效应称为势垒电容。
而由于扩散区的电荷数量随外加电压的变化所产生的电容效应,称为pn结的扩散电容。
8.爱因斯坦关系答:对于电子(Dn/μn)=(k0T/q),对于空穴(D p/μp)=(k0T/q),上述两式称为爱因斯坦关系式,它表明了非简并情况下载流子迁移率和扩散系数之间的关系。
半导体物理学半导体物理学是现代电子技术的基础学科之一,它研究的是半导体材料的电子特性和行为,以及半导体器件的原理和性能。
在当今科技发展迅猛的时代,半导体物理学扮演着重要的角色,推动了信息技术、通信技术、能源技术等领域的发展。
本文将简要介绍半导体物理学的基本概念、发展历程以及应用前景。
一、半导体物理学的基本概念半导体是介于导体和绝缘体之间的一种材料。
在半导体中,电子的能带结构存在禁带,导电主要依赖于外界激励和掺杂元素带来的电子跃迁。
通过半导体材料特有的电子输运特性和界面现象,可以制造出各种半导体器件,如二极管、晶体管等。
半导体物理学的研究关注半导体材料中电子与晶格相互作用、半导体器件的电子输运和器件特性等多个方面。
二、半导体物理学的发展历程半导体物理学的起源可以追溯到19世纪末的研究工作。
然而,直到20世纪中叶,半导体物理学才开始迅速发展。
1956年,威廉·肖克利和沃尔特·布拉丁等科学家提出了“半导体器件特异性”的概念,并在1958年发表了关于半导体二极管的相关研究,为半导体物理学的进一步深入奠定了基础。
之后,随着集成电路技术的崛起,半导体物理学迎来了更为广泛的研究和应用领域。
三、半导体物理学的应用前景半导体物理学的发展推动了信息技术、通信技术、能源技术等领域的快速进步。
在信息技术方面,半导体器件比如晶体管的诞生和发展,极大地提升了计算机、手机和其他电子设备的性能。
在通信技术方面,半导体材料的光电转换特性使得光纤通信成为可能,并实现了高速、长距离的数据传输。
在能源技术方面,半导体材料在光伏电池、热电材料等领域的应用有很大潜力,可以帮助提高能源转换效率和利用可再生能源。
此外,半导体物理学还在生物医学、环境监测等领域发挥着重要的作用。
综上所述,半导体物理学作为一门基础学科,对现代科技的发展起到了重要的推动作用。
通过对半导体材料和器件的研究,我们得以更好地理解电子行为和电子器件原理,并将其应用于各个领域,推动了社会的进步和发展。
半导体物理与器件专业半导体物理与器件专业是电子信息科学与技术领域的重要学科之一,主要研究半导体材料的物理特性以及基于半导体材料制造的各种器件的原理和应用。
本文将从半导体物理和半导体器件两个方面进行介绍。
一、半导体物理半导体物理是半导体器件研究的基础,主要研究半导体材料的电子结构、能带理论、载流子行为等方面的物理现象。
其中,半导体材料的电子结构是研究的核心内容之一。
半导体材料的电子结构决定了其导电性质。
通过研究半导体材料的能带结构,可以了解其导电机制和电子行为。
此外,载流子行为也是半导体物理研究的重要内容之一。
载流子包括电子和空穴,其在半导体材料中的运动行为决定了半导体器件的性能。
因此,研究半导体材料中载流子的输运、复合、注入等现象对于半导体器件的设计和制造具有重要意义。
二、半导体器件半导体器件是利用半导体材料制造的各种电子器件,包括二极管、晶体管、场效应晶体管、光电二极管等。
半导体器件由于具有可控性强、体积小、功耗低等优点,在电子技术领域得到了广泛应用。
其中,二极管是最简单的半导体器件之一,它由P型和N型半导体材料组成。
通过在PN结上加正向或反向电压,可以实现电流的导通或截止。
晶体管是一种能够放大电信号的器件,它由三层P-N结构组成,通过控制输入信号的电流,可以控制输出信号的放大倍数。
场效应晶体管是一种控制电流的器件,它通过控制栅极电压来控制漏极电流。
光电二极管则可以将光信号转换为电信号,广泛应用于光通信和光电转换领域。
半导体物理与器件专业的学习内容主要包括半导体物理基础、半导体器件设计与制造技术、半导体器件测试与分析方法等方面。
学生需要掌握半导体材料的物理特性、器件的工作原理和制造工艺等知识。
此外,还需要具备实验能力,能够利用实验手段对半导体材料和器件进行性能测试和分析。
半导体物理与器件专业毕业生可以在电子、通信、计算机等领域从事半导体器件的研发、制造和应用工作。
随着信息技术的快速发展,半导体器件在各个领域的应用越来越广泛,对于半导体物理与器件专业的需求也越来越大。
半导体高中物理
半导体物理是研究半导体材料的性质、结构及其在电子器件中的应用的一门学科。
它是物理学、化学和材料科学的交叉领域,对于现代电子技术的发展具有重要意义。
半导体物理的主要内容包括:
1. 半导体的基本概念:半导体是一种介于导体(如金属)和绝缘体(如玻璃、橡胶)之间的材料,其电导率介于两者之间。
半导体的导电性能受温度、杂质等因素的影响较大。
2. 半导体的能带结构:半导体中的电子能量分布在不同的能带中,主要有价带、导带和禁带。
价带中的电子受到束缚,不能自由移动;导带中的电子可以自由移动,参与导电过程。
禁带是价带和导带之间的能量间隔,决定了半导体的导电类型(n型或p型)。
3. 载流子:半导体中的电子和空穴都可以作为载流子参与导电过程。
n型半导体中的多数载流子是电子,p型半导体中的多数载流子是空穴。
4. 掺杂:通过向半导体中添加杂质元素,可以改变其导电类型和导电性能。
n型半导体中加入五价元素(如磷),p型半导体中加入三价元素(如硼)。
5. p-n结:将n型半导体和p型半导体结合形成的结构称为p-n结。
p-n结具有单向导电性,即在正向偏置下电阻很小,电流可以顺利通过;在反向偏置下电阻很大,电流几乎不流动。
p-n结是许多半导体器件的基础。
6. 二极管:利用p-n结的特性制成的电子器件。
二极管具有整流、稳压等功能,广泛应用于电路中。
7. 晶体管:利用p-n结和多层半导体结构制成的电子器件。
晶体管具有放大和开关功能,是现代电子设备的核心元件。
《半导体物理》是电子科学与技术专业、微电子科学与工程专业的专业基础课程,也是“微电子学”、“集成电路设计与集成系统”专业的一门基础和核心主干课程。
该课程在综合运用学生已经学习的《固体物理》、《量子力学》等基础课程的相关知识的基础上,系统地介绍半导体中的电子状态、载流子的统计分布、半导体的导电性以及金半结、MIS结、异质结、半导体的光学性质、半导体的热电性质以及磁效应等内容。
通过学习这门课程,学生可以全面系统地掌握能带、载流子及其基本特性,建立半导体器件物理模型和特殊半导体器件物理模型,为后续半导体器件等专业课程的学习奠定较为扎实的基础。
同时,该课程在整个教学体系中起着十分重要的作用,为后续的专业知识学习和实践能力的培养提供基础。
《半导体物理》课程通常包括半导体的晶体结构与价键模型、半导体的电子结构、半导体中的载流子、半导体中载流子的定量统计描述等内容。
此外,课程还会涵盖半导体物质结构和能带结构、半导体载流子及其输运性质、非热平衡状态下的半导体、pn结、金属和半导体接触、半导体表面与MIS结构等主题。
这门课程对于理解现代电子工业的基础理论至关重要,因为电子工业中的许多关键组件,如手机、数码相机、计算机CPU和DRAM内存等,都是基于半导体物理学的原理设计和制造的。
半导体物理思考题第一章半导体中的电子状态1、为什么内壳层电子能带窄,外层电子能带宽?答:内层电子处于低能态,外层电子处于高能态,所以外层电子的共有化运动能力强,因此能带宽。
(原子的内层电子受到原子核的束缚较大,与外层电子相比,它们的势垒强度较大。
)2、为什么点阵间隔越小,能带越宽?答:点阵间隔越小,电子共有化运动能力越强,能带也就越宽。
3、简述半导体的导电机构答:导带中的电子和价带中的空穴都参与导电。
4、什么是本征半导体、n型半导体、p型半导体?答:纯净晶体结构的半导体称为本征半导体;自由电子浓度远大于空穴浓度的杂质半导体称为n型半导体;空穴浓度远大于自由电子浓度的杂质半导体称为p型半导体。
5、什么是空穴?电子和空穴的异同之处是什么?答:(1)在电子脱离价键的束缚而成为自由电子后,价键中所留下的空位叫空穴。
(2)相同点:在真实空间的位置不确定;运动速度一样;数量一致(成对出现)。
不同点:有效质量互为相反数;能量符号相反;电子带负电,空穴带正电。
6、为什么发光器件多半采用直接带隙半导体来制作?答:直接带隙半导体中载流子的寿命很短,同时,电子和空穴只要一相遇就会发生复合,这种直接复合可以把能量几乎全部以光的形式放出,因此发光效率高。
7、半导体的五大基本特性答:(1)负电阻温度效应:温度升高,电阻减小。
(2)光电导效应:由辐射引起的被照射材料的电导率改变的现象。
(3)整流效应:加正向电压时,导通;加反向电压时,不导通。
(4)光生伏特效应:半导体和金属接触时,在光照射下产生电动势。
(5)霍尔效应:通有电流的导体在磁场中受力的作用,在垂直于电流和磁场的方向产生电动势的现象。
第二章半导体中杂质和缺陷能级1、简述实际半导体中杂质与缺陷来源。
答:①原材料纯度不够;②制造过程中引入;③人为控制掺杂。
2、什么是点缺陷、线缺陷、面缺陷?答:(1)点缺陷:三维尺寸都很小,不超过几个原子直径的缺陷;(2)线缺陷:三维空间中在二维方向上尺寸较小,在另一维方向上尺寸较大的缺陷;(3)面缺陷:二维尺寸很大而第三维尺寸很小的缺陷。
3、点缺陷类型有哪些?答:①空位;②基质原子的填隙;③杂质原子的填隙与替位。
4、简述肖特基缺陷和弗伦克尔缺陷的异同之处。
答:(1)共同点:都是热缺陷(本征缺陷)。
(2)不同点:弗伦克尔缺陷是空位和间隙质点成对缺陷,晶体体积不发生改变;肖特基缺陷:正离子和负离子空位是成比例出现,伴随体积的增加。
5、元素半导体掺杂工艺有哪些?答:①外延;②离子注入;③热扩散。
6、什么是施主杂质?什么是受主杂质?以Si为例说明。
答:Ⅴ族元素在硅中电离时能够释放电子而产生导电电子并形成正电中心,称此类杂质为施主杂质;Ⅲ族元素在硅中电离时能够接受电子而产生导电空穴并形成负电中心,称此类杂质为受主杂质。
7、什么是本征激发?什么是本征半导体?本征半导体的特征是什么?答: (1)电子从价带直接向导带激发,成为导带电子的过程就是本征激发。
(2)纯净晶体结构的半导体称为本征半导体。
(3)电子浓度等于空穴浓度,载流子少,导电性差,温度稳定性差。
8、在半导体中掺入杂质的作用是什么?答:半导体中掺入微量杂质时,杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态,在禁带中产生杂质能级,从而改变半导体的导电性和决定半导体的导电类型。
9、浅能级杂质和深能级杂质对半导体性质的影响是什么?答:(1)浅能级:改变半导体的导电性和决定半导体的导电类型。
(2)深能级:同11题。
10、为什么在半导体掺杂中,杂质会产生多个能级?答:因为杂质能级与杂质原子的电子壳层结构、杂质原子的大小、杂质在半导体晶格中的位置等因素有关,各种因素的不同影响使得杂质产生多个能级。
11、阐述深能级杂质的特点。
答:(1)不容易电离,对载流子浓度影响不大;(2)一般会产生多重能级,甚至既产生施主能级,也产生受主能级;(3)能起到复合中心作用,使少数载流子寿命降低。
12、元素半导体中的缺陷、原子空位起什么作用?间隙起什么作用?答:(1)缺陷、原子空位起受主作用;(2)间隙起施主作用。
13、什么是杂质半导体?答:掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。
第三章半导体中载流子的统计分布1、热平衡时载流子浓度由哪些因素决定?答:①能量状态密度;②电子分布函数2、什么是能量状态密度?答:能带中能量E附近单位能量间隔内的量子态数。
3、解释费米能级及其物理意义。
答:(1)费米能级是半导体中大量电子构成的热力学系统的化学势。
(2)费米能级的意义:在各种温度下,在该能级上的一个状态被电子占据的几率正好是1/2。
代表了电子的填充能级高低。
(当系统处于热平衡状态,也不对外界做功的情况下,系统增加一个电子所引起的系统自由能的变化,等于系统的化学能。
)4、阐述影响本征半导体载流子浓度的主要因素。
答:①能带结构:在一定温度下,禁带宽度越窄的半导体,本征载流子浓度越大;②温度:对于给定的半导体材料,其本征载流子浓度随温度升高而迅速增加。
5、为什么器件正常工作大多在饱和电离区?答:温度太低或太高,器件都无法正常工作。
而在饱和电离区,半导体的载流子浓度基本与温度无关,此时可以正常工作。
6、为什么能带能级可以允许两个电子占据而杂质能级最多容纳一个电子?答:当一个电子被杂质或缺陷的缺陷中心的束缚态俘获后,该束缚态或陷阱能级就消失了。
也就是说,对于第二个电子看来这些能级是不存在的,所以第二个电子不可能被俘获。
7、解释下面不同温度下载流子的统计分布规律与温度的关系。
(图片题)------略第四章半导体的导电性1、一般半导体电导率的表达形式是什么?答:σ=σn+σp=nqμn+ pqμp2、为什么在半导体中空穴迁移率一般比电子迁移率低?答:首先迁移率指的是单位电场强度下所产生的载流子平均漂移速度。
因为空穴运动比电子困难,所以空穴的平均漂移速度小于电子。
3、半导体中载流子的散射机构有哪几种?答:①电离杂质散射;②晶格散射;③其他散射。
4、简述电离杂质散射的散射几率与温度、杂质浓度的关系。
答:P i∝N i T-3/2。
杂质浓度N i越大,载流子遭受散射的机会越多,即散射几率大。
温度越高,载流子热运动的平均速度越大,可以较快地掠过杂质离子,偏转就小,所以散射几率小。
5、简述半导体的迁移率与杂质浓度、温度的关系。
答:(1)杂质浓度N i的影响:①杂质浓度低,少子与多子迁移率相同;②杂质浓度变大,迁移率降低;③杂质浓度高,少子迁移率大于多子迁移率,随浓度增大差别加大。
(2)①高温时,主要是晶格散射,温度升高,迁移率减小;②低温时,主要是电离杂质散射,温度升高,迁移率增大。
6、简述含有一定杂质浓度的半导体中电阻率与温度的关系(以Si为例,说明ρ-T关系)。
答:Si的电阻率与温度的变化关系可以分为三个阶段:(1)温度很低时,电阻率随温度升高而降低。
因为这时本征激发极弱,可以忽略;载流子主要来源于杂质电离,随着温度升高,载流子浓度逐步增加,相应地电离杂质散射也随之增加,从而使得迁移率随温度升高而增大,导致电阻率随温度升高而降低。
(2)温度进一步增加(含室温),电阻率随温度升高而升高。
在这一温度范围内,杂质已经全部电离,同时本征激发尚不明显,故载流子浓度基本没有变化。
对散射起主要作用的是晶格散射,迁移率随温度升高而降低,导致电阻率随温度升高而升高。
(3)温度再进一步增加,电阻率随温度升高而降低。
这时本征激发越来越多,虽然迁移率随温度升高而降低,但是本征载流子增加很快,其影响大大超过了迁移率降低对电阻率的影响,导致电阻率随温度升高而降低。
当然,温度超过器件的最高工作温度时,器件已经不能正常工作了。
7、什么是迁移率?影响迁移率的主要因素有哪些?答:(1)迁移率是指单位电场强度下所产生的载流子平均漂移速度;(2)主要受材料内部的散射因素影响,还与单位载流子的电荷量、载流子的平均自由时间和载流子有效质量有关。
第五章非平衡载流子1、非平衡下能否用费米能级作为载流子浓度的标准?答:不能。
当热平衡状态受到外界影响,遭到破坏,使半导体处于非平衡状态,不再存在统一的费米能级,因为费米能级和统计分布函数都是指热平衡状态下。
而分别就价带和导带中的电子来说,它们各自基本上处于平衡状态,导带和价带之间处于不平衡状态,准费米能级是不重合的。
2、如何设计一个电路研究光照对半导体中非子浓度的影响?答:3、简述准费米能级的概念。
答:统一的费米能级是热平衡状态的标志。
当外界的影响破坏了热平衡,使半导体处于非平衡状态时,就不再存在统一的费米能级。
但是可以认为,分别就导带和价带中的电子讲,他们各自基本上处于平衡状态,导带与价带之间处于不平衡状态。
因为费米能级和统计分布函数对导带和价带各自仍是适用的,可以引入导带费米能级和价带费米能级,它们都是局部的费米能级,称为“准费米能级”。
4、简述能级杂质在半导体复合中所起的作用。
答:(1)浅能级杂质在半导体中起施主或受主的作用;(2)深能级杂质在半导体中起复合中心或缺陷的作用。
5、影响表面复合的因素有哪些?答:①表面粗糙度;②表面积与总体积的比例;③表面清洁度、化学氛围。
6、什么是陷阱效应?答:陷阱效应是指非平衡载流子落入位于禁带中的杂质或缺陷能级E t中,使在E t上的电子或空穴的填充情况比热平衡时有较大的变化,从而引起△n=△p。
7、计算题:对于n型硅,N D=1016/cm3,光注入非子△n=△p=1014/cm3,计算有无光照时得电导率,其中:μn=1200cm2/V·S,μp=400cm2/V·S。
解:无光照时:σ0=nqμn=N D qμn=1016×1.602×10-19×1200≈1.92(S/cm)有光照时:△n=△p=1014cm-3<<N D,为小注入σ=(n0+△n)qμn+(p0+△p)qμp=[(1016+1014)×1200+1014×400]×1.602×10-19=1.945(S/cm)第六章元素半导体材料1、氧化硅层在半导体器件中起什么作用?答:①对杂质扩散起掩蔽作用;②对器件的表面起保护好钝化作用;③用于器件的绝缘隔离层;④用作MOS器件的绝缘栅材料。
2、简述O、C、H对硅材料有哪些危害?答:(1)O的危害:热处理过程中,过饱和间隙氧会在晶体中偏聚、沉淀而形成氧施主、氧沉淀和二次缺陷等。
氧沉淀过大会导致硅片翘曲,并引入二次缺陷。
(2)C的危害:①C会降低击穿电压,增加漏电流;②C会促进氧沉淀和新施主的形成;③C会抑制热施主的形成。
(3)H的作用:①H在硅中处于间隙位置,可以形成正负离子两种状态;②H在硅中形成H-O复合体;③H能促进氧的扩散和热施主的形成;④H会钝化杂质和缺陷的电活性;⑤H能钝化晶体的表面和界面,提高器件的性能。