A、真空电镀原理：
一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1～5 x 10-4 Tｏrr程度进行(1 Torr = 1 公厘水银柱高得压力,大气压为76０Torr)。其镀膜膜厚约为0、1 ～0、2 微米。颜
如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化（如表面雾化等）。如镀膜过厚时,会产生白化得状态.颜填料,助剂,树脂，乳液,分散?Dr＜!—－［if !suppoｒtFoｏt＜!－-［e ｎdｉf］－—>l〈!－-[ｉf !ｓupportFootnoｔes]－－>［1]＜!-—[ｅｎｄif］—－>v＃Ｗ？n８D<！--［if ！suｐpｏｒtFootnｏtes]—－>［1]＜!－－[endｉf］－－〉G、e
关于镀膜得形成，首先利用强大电流将镀膜源（钨丝）加热,然后把挂在钨丝上得铝片或铝线熔解.铝材从而蒸发、飞散到各方面并附着于被镀件上。熔解得铝为铝原子，以不定形或液体状态存在并附着于被镀件上,经冷却结晶后从而变为铝薄膜。
因此设定钨丝为定数时,由真空度至蒸发铝得飞散方向、钨丝得温度，钨丝到被镀件得距离等;依其镀膜条件,镀膜得性能也除着改变而发生变化。
一如前述,镀膜在1０–４Tｏrｒ左右下进行，如真空度过低时，其蒸发中得铝遇到残留得气体或者碰着钨丝被加热时产生得气体，发生冲突而冷却，形成得铝粒（非常小得铝粒子集合体）会附着于被镀膜件上。此时所形成得镀膜因微细铝粒中可能仍含有残留气体而令其失去光泽，也会大大降低镀膜与底油得密着性。
如真空度高，而且钨丝得温度亦高时，蒸发铝得运动能量也因此会提高,被镀膜件表面所附着得会就是纯铝（并没有残留气体)，而且密度非常高，镀膜性能因此而得到提升(包括密着性等）
B、涂料及雾化：
依各种镀膜条件形成不同得镀膜。如前述,在现场作业最容易产生得问题就是雾化现象。这种现象就是有机高分子(涂膜）与金属（铝膜）得膨胀系数差异而发生。虽然可能由于涂料本质所导致,但一般而言,如果使用涂料得方法正确，雾化现象应该不会发生得。但就是被镀膜件得素材日新月异（包括再生料)，也可能会引起雾化。
容易引起雾化现象得原因有下述各点:
＜1〉底油干燥不足（会侵蚀面油）
〈2＞素材得残留应力(主要就是突起部分）
<3> 离型剂得影响ＵＶ,辐射,水性,粉末,溶剂#xH*S ~＊k v
<4〉可塑剂得影响
UＶ，辐射，水性，粉末,溶剂
〈5〉镀膜过薄得场合51coat技术网６Ｇ［
<6> 面油干燥条件不适当涂料｜油墨｜树脂|胶粘剂|配方b（ｎF—r2gG
＜7> 氧化重合型、空气流通不充分等
＜8＞湿度太高时
涂料|油墨｜树脂｜胶粘剂|配方<9> 稀释剂含水量过高
Y结论:要得到良好得镀膜结果，要正确遵守涂料得使用条件，同时亦避免使用粗糙得成形品。
C、塑料得残留应力（变形、内部应力)：涂料｜油墨｜
在真空电镀用合成树脂（ABS、PＳ、PP、ＰC 等）以各种形态成型会引起程度不同得变形，其变形会对密着有不良影响，并且会导致起龟裂.这种龟裂仅在热得可塑性之塑料才会引起，其原因可能为成型时得内部应力。虽在同一种素材亦依成型得条件，及成型得方法不同，亦同样发生,主要发生在突起部份.
这种现象可利用较弱得溶剂调整涂料使用，虽可解决部份问题,但降低素材热变形温度,保温使缓与应力,比较有把握解决龟裂得现象.
离型剂：
?涂料|油墨|树脂|胶粘剂|配方塑料成型品在其射出过程中需要使用离型剂,此种离型剂导致涂料发生不沾、欠光泽、密着不良、雾化等现象。对涂装有不良得影响。51coat技术网r｝Ｐ、Ｘ离型剂有很强得界面活性剂性质（如肥皂、硅类)，因此需要除去离型剂。经乙烷洗凈后,状况会改善,但就是以锭状混入离型剂,因此成型品内部整个都有包含，所以在表面得离型剂,虽能除去,但无法除去在里面得。在涂装时，溶解到表面上并混合在涂料中,令离型剂再次发生间接得不良影响.因此要电镀得成型品应避免使用离型剂。
涂料|油墨｜树脂｜胶粘剂｜配方大家都知道,塑料有良好得绝缘特性，因此由塑料中所带得静电气在电镀时会发生失光(欠光泽）得现象.
UV，辐射,水性，粉末，溶剂这种失光得电镀面，并非全面性，而仅有部分会发生，这就是由于静电气会从空气中吸着尘埃,这些尘埃用压缩空气，也无法吹走。
电镀时无法发现失光得现象,但涂装表面漆时,其部分却明显出现出来.这就是附着于底漆得尘埃上电镀，其部分由面漆侵蚀,才会明显表现出来.
结论为成型后经过长时期保存得工件，最会产生此现象。故这类工件就是无法。又底油如经烘干，马上就电镀，也比较不会发生毛病.51coａｔ技术网%ｑM—z９s－o
]F、由面油对底油得侵蚀。!
电镀膜有很多微细得针孔，面油中得溶剂由针孔侵透至下层底油，侵蚀底油。因此虽然底油使用方法正确，如果与面油得配合不妥,当然也会引起问题。
面油得侵蚀由外现出，在斑点中心有微小突起为其特点.涂料|油墨｜树脂|胶粘剂|配方％
由发生面油侵蚀得主要原因有:５1ｃoat技术网lS２Gp
（１）底漆干燥不够。
涂料|油墨|树脂｜胶粘剂｜配方（2)由离型剂引起。
辐射,水性，粉末，溶剂(3)电镀膜过薄时。
（４）底油与面油得配合不良。}
（5）由可塑剂得影响.
涂料|油墨|树脂｜胶粘剂｜配方以上陈述了一些问题点,如果就是单独出现还好解决。但现实就是以复数得理由构成涂膜得毛病。解决问题，还虽一定得现场经验。
复合镀铝膜白点现象可以这样描述,复合后得产品表观上瞧有明显得白色斑点，这种白色斑点可随机分布，大小不均.分两种情况,一种就是:下机时有，但熟化后基本消失；另一种就是:下机时有，熟化后并不消失。后一种就是影响表观得最大问题。这类斑点最容易出现在满白底或浅底色得印刷得效果上。其实应该说只要出现此类白点，一般就是满版得（设备原因除外）。只不过白色与淡底色遮盖力差容易瞧出来而已。产生白点得现象得原因较多，主要有三方面得：
颜填料，助剂，树脂，乳液，分散１、油墨粒度大或粒度分布太宽,一般白墨得粒度影响较大。粘合剂中乙酯就是油墨得良溶剂,对不同粒度得油墨颗粒浸润结果不同，通过烘箱烘干后得色度变化会产生差异,瞧起来就产生“白点”了。一般此种情况下,下机时明显，熟化后白点现象会减轻，也许会消失。
辐射，水性，粉末,溶剂2、粘合剂表面张力高，在镀铝膜上浸润铺展效果差.这就是目前镀铝膜“白点现象”得一个主要原因.粘合剂得涂布效果不好，印刷层覆盖以后,会使不同部位上色泽发生变化，产生前面同样得效果，有时会产生很大得斑点。
3l z$T＄wＺ８x；\）Ｑ＄EUV，辐射,水性，粉末，溶剂3、设备工艺原因。这种原因一方面就是工人没有意识到镀铝膜复合得特殊性，镀铝膜复合有它独特得地方;另一方面设备烘干、涂布、系统本身得问题无法保证粘合剂得充分均匀涂布或无法保证乙酯得充分挥发.
还有其它方面得原因，如满底印刷网线辊网纹过浅,降低了油墨遮盖力等。
采取如下办法可消除白点：
颜填料,助剂,树脂，乳液，分散1、不同批次得油墨增加粒度检测指标,严格控制,尤其满底油墨品种粒度及粒度分布在标准范围外得不采用；选择优良得稳定得供应商.UV,辐射，水性,粉末，溶剂
2、采用镀铝膜专用粘合剂。镀铝膜复合专用粘合剂得表面张力较低，在镀铝层表面得涂布铺展效果明显优于通用型粘合剂.采用镀铝胶会非常易于控制胶液得流平,有较理想得涂布状态.单从粘合剂涂布状态上讲,采用镀铝胶可消除了白点现象产生得可能。51coat技术
3、胶液得粘度与网线辊线数有一定得匹配关系,超出匹配区间太大会破坏胶得涂布状态，造成“白点”得产生与更严重得其它方面得影响,但在镀铝膜上似乎主要还就是“白点”得产生更令人关注。ＵV
4、采用镀铝膜涂胶方式。通常采用得涂布工艺就是印刷膜(油墨面）涂胶，这里采用特殊涂布方法，避免了乙酯对油墨层得渗透不均得问题,同时涂布得粘合剂能够充分均匀地覆盖镀铝层表面,这样可以很好地消除白点.但这种工艺有它很大得局限性,首先，只限于VMPET得复合，而其它镀铝膜在烘箱中受热得影响在张力得作用下,会拉伸变形；其次，将牺牲一定得剥离强度.
5、软包装企业必须坚持涂布辊得定期清洗制度，掌握正确得涂布辊清洗方法。在生产满白底或浅底色印刷膜时,要注意两点,首先,生产前将刮刀、涂布辊、展平辊等彻底清洗。
6、应做到粘合剂得彻底干燥。因镀铝得阻隔性比较好,如在复合膜中粘合未彻底干燥,那么复合膜在进入熟化室后，残留得大量溶剂需快速地释放出来,在镀铝膜阻隔下，势必形成汽泡。甚至会出现下机时没有白点，而熟化后出现白点得现象。
塑胶真空镀膜工艺
虽然塑料可以在许多场合代替金属,但显而易见缺乏金属得质感,为此,需要采用一定得方法,在塑料表面镀上一层金属（铝、锌、铜、银、金、铬等),一种方法就是采用类似化学镀与电镀得方法,另一种就是直接在塑料表面进行真空喷镀金属—即在真空状态下,将金属融化后，以分子或原子形态沉积在塑料表面形成５-10μｍ得金属膜。
真空喷镀金属需要与塑料表面底漆之间得良好配合,底漆得厚度通常为10—20μm，主要作用就是防止塑料中水、有机溶剂、增塑剂等排出影响金属附着。要求涂层硬度高、底漆具有可以修饰塑料缺陷,能提供一个光滑、平整得平面以利于真空镀得性能，并与塑料底材与所镀金属附着牢固。通常选用双组分常温固化得聚氨酯与环氧涂料,低温烘烤得氨基涂料以及热塑性丙烯酸酯涂料。
金属镀膜在空气中容易氧化变暗，同时还存在细微得真空等缺陷,所以要再涂上一层5—１0μm 得保护面漆。对面漆得要求就是：透明、优良得耐水性、耐磨性、耐候性,不操作镀金属膜，对金属镀膜附着牢固。通常可采用丙烯酸酯清漆、聚酯清漆、聚氨酯清漆等,当底漆采用得就是热塑性丙烯酸酯涂料时，为防止面漆溶剂通过镀膜缺陷溶蚀底漆，可以选用弱溶剂、快干性得面漆,如丙烯酸改性醇酸清漆、聚乙烯醇缩丁醛清漆、氨酯油等。
真空镀金属得工艺流程为:塑料表面处理（净化、活化)→涂底漆→干燥→真空镀金属→涂面漆→干燥。其工艺流程作简要介绍:产品表面清洁—－〉去静电—－〉喷底漆—-〉烘烤底漆——>真空镀膜——〉喷面漆-－〉烘烤面漆—－〉包装、
在全部得工艺流程中,有如下几点决定了工艺得成败:
需要加工得零部件表面状态,这包括产品就是否存在缺陷，表面状态，表面污染物等
表面缺陷得存在会导致外观件最终美观度。当然对于微小缺陷得存在，喷涂工艺可以掩盖。但就是在注塑或者冲压成型过程中造成得批量瑕疵品必须在进货检验前剔出。
表面状态，这涉及就是否就是透明件,表面特殊粗糙度设计.设计外观状态要求得,必须在工艺制定前考虑整体工艺路线，否则完成后难以得到预想得外观效果。
表面污染物,对于批量产品,如何去除前段工序残留得污染物就是关系质量与效率得关键。例如在注塑过程中产生得脱模剂得去除
夹具得设计，这包括夹具就是否适应全部工艺流程，就是否能保证表面均匀性，装夹效率
不锈钢真空多弧等离子度（PVD)工艺介绍
PＶD就是英文Pｈysical＜Ｉ＞&ｎｂsp;Vapｏr〈I〉〈/I〉＆nbsp；Depｏsitiｏｎ（物理气相沉积）得缩写，就是指在真空条件下，采用低电压、大电流得电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场得加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上；PVD技术出现于二十世纪九十年代末,制备得薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好得耐磨性与化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域得成功应用引起了世界各国制造业得高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备得同时,也在不锈钢中进行了更加深入得涂层应用研究。PVＤ工艺处理温度低,PVD 工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造得发展方向。目前PVD涂层技术已普遍应用于不锈钢表面得涂层处理PVD技术不仅提高了不锈钢基体材料得结合强度,涂层成分也由第一代得TiＮ发展为TiC、ＴiCN、ZrN、CrN、MoS2、TｉＡｌN、TｉAlＣN、TiN—AlN、CNｘ、DLC与ｔa—C等多元复合涂层在真空环境下，通过电压与磁场得共同作用,以被离化得惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子、原子或分子得形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用得电离电源得不同,导体与非导体材料均可作为靶材被溅射碳氢气体在离子源中被离化成等离子体,在电磁场得共同作用下，离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整加在等离子体上得电压来控制.碳氢离子束被引到基片上,沉积速度与离子电流密度成正比。星弧涂层得离子束源采用高电压，因而离子能量更大,使得薄膜与基片结合力很好；离子电流更大，使得DLC膜得沉积速度更快。离子束技术得主要优点在于可沉积超薄及多层结构,工艺控制精度可达几个埃，并可将工艺过程中得颗料污染所带来得缺陷降至最小。
实验一真空蒸发和离子溅射镀膜 随着材料科学的发展，近年来薄膜材料作为其中的一个重要分支从过去体材料一统天下的局面中脱赢而出。如过去需要众多材料组合才能实现的功能，现在仅需数几个器件或一块 集成电路板就能完成，薄膜技术正是实现器件和系统微型化的最有效的技术手段。薄膜技术 还可以将各种不同的材料灵活的复合在一起，构成具有优异特性的复杂材料体系，发挥每种 材料各自的优势，避免单一材料的局限性。薄膜的应用范围越来越宽，按其用途可分为光学薄膜、微电子学薄膜、光电子学薄膜、集成光学薄膜、信息存储薄膜、防护功能薄膜等。目前，薄膜材料在科学技术和社会经济各个领域发挥着越来越重要的作用。因此薄膜材料的制 备和研究就显得非常重要。 薄膜的制备方法可分为物理法、化学法和物理化学综合法三大类。物理法主要指物理气 相沉积技术（Physical Vapor Deposition, 简称PVD）,即在真空条件下，采用各种物理方法 将固态的镀膜材料转化为原子、分子或离子态的气相物质后再沉积于基体表面，从而形成固 体薄膜的一类薄膜制备方法。物理气相沉积过程可概括为三个阶段： 1.从源材料中发射出粒 子；2.粒子输运到基片；3.粒子在基片上凝结、成核、长大、成膜。由于粒子发射可以采用不同的方式，因而物理气相沉积技术呈现出各种不同形式，主要有真空蒸发镀膜、溅射镀膜 和离子镀膜三种主要形式。在这三种PVD基本镀膜方法中，气相原子、分子和离子所产生的方式和具有的能量各不相同，由此衍生出种类繁多的薄膜制备技术。本实验主要介绍了真空 蒸发和离子溅射两种镀膜技术。在薄膜生长过程中，膜的质量与真空度、基片温度、基片清 洁度、蒸发器的清洁度、蒸发材料的纯度、蒸发速度等有关。在溅射薄膜的生长过程中，气体流量（压力）也会对形成的薄膜的性质产生影响。通过改变镀膜条件，即可得到性质炯异的薄膜材料。 对制备的薄膜材料，可通过 X射线衍射、电子显微镜（扫描电镜、透射电镜等）、扫描探针（扫描隧道显微镜、原子力显微镜等）以及光电子能谱、红外光谱等技术来进行分析和 表征，还可通过其它现代分析技术测试薄膜的各种相应特性等。 【实验目的】 1?掌握溅射的基本概念，学习直流辉光放电的产生过程和原理； 2?掌握几种主要溅射镀膜法基本原理及其特点，掌握真空镀膜原理； 3.掌握真空镀膜和溅射镀膜的基本方法； 4?熟悉金属和玻璃片的一般清洗技术，学习薄膜厚度的测量方法； 5.了解真空度、基片温度、基片清洁度、蒸发器的清洁度、蒸发材料的纯度、蒸发速度等 因素，在薄膜生长过程中对形成薄膜性质的影响。 【实验原理】 一真空蒸发镀膜原理 任何物质在一定温度下，总有一些分子从凝聚态（固态，液态）变成为气态离开物质表 面，但固体在常温常压下，这种蒸发量是极微小的。如果将固体材料置于真空中加热至此材料蒸发温度时，在气化热作用下材料的分子或原子具有足够的热震动能量去克服固体表面原子间的吸引力，并以一定速度逸出变成气态分子或原子向四周迅速蒸发散射。当真空度高，分子平均自由程—远大于蒸发器到被镀物的距离d时（一般要求2~ 3 d ）,材料的蒸气分子在散射途中才能无阻当地直线达到被镀物和真空室表面。在化学吸附（化学键力引起 的吸附）和物理吸附（靠分子间范德瓦尔斯力产生的吸附）作用下，蒸气分子就吸附在基片
学校：龙岩学院 院系：物理与机电工程学院 专业：机械设计制造及其自动化 班级： 11级机械（本）1班 姓名：柯建坤 学号： 2011043523 简介 真空镀膜 在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。 蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。 蒸发镀膜的类型 蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]
）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。 蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。 为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图 ]。喷射炉中装有分子束源，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜最慢生长速度可控制在1单层/秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。 溅射镀膜 用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二极溅射设备如图3[ 二
实验3 真空蒸发镀膜实验 真空热蒸发镀膜就是在真空条件下加热需要蒸发的材料，当所加温度达到材料的熔点时，大量的原子或分子就会逸出，淀积到基底上而形成薄膜的过程。 【实验目的】 1．了解真空蒸发镀膜的原理。 2．掌握多功能真空蒸镀机、复合真空计等机械设备的使用方法。 【实验仪器】 复合真空计、真空室、机械泵、分子泵、冷水循环散热系统、载玻片、钨舟、剪刀 【实验原理】 真空蒸发镀膜的原理：将膜材置于真空镀膜室内，通过蒸发源使其加热蒸发。当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的线尺寸后，蒸发的粒子从蒸发源表面上溢出，在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子的碰撞阻碍，可直接到达基片表面上凝结而生成薄膜。 机械泵是利用转子不断地改变泵内空腔的容积，使抽容器内的气体随空腔体积改变，最后又被隔离而排出从而获得真空。 分子泵工作原理是：分布密集的扇叶高速旋转，通过高速旋转的叶片，不断地对气体分子施以定向的动量和压缩作用，把空气排出腔室，由下级机械泵辅抽，完成高真空抽取。 真空机配有ZJ-52/T电阻规与ZJ-27电离规，其工作原理为： （1）电阻计的工作原理 电阻规在真空系统低压强时，利用气体分子的热传导，在高压时利用气体分子的对流传热特性，使电阻规的电阻随所测系统的压强变化而变化。电阻规的电阻与压强是一种非线性关系，故压强变化所引起的电阻规电阻值的变化，从测量桥路输出电压信号，由放大器放大，经A/D转换送入CPU进行非线处理性运算，最后显示。 （2）电离计工作原理 当电离规管灯丝加热发射电子，电子在比阴极电位更高的加速极作用下，与气体分子碰撞而使气体电离，电离后的正离子被阴极电位更负的收集极吸收，经电流放大后，通过CPU 电路修正处理，送显示器显示。 【实验内容及要求】 1. 首先将已经切割好的普通玻璃基底用碱溶液、酸溶液擦洗，然后置于含少许酒精的密闭器皿中。取一定量的蒸发材料放在钨舟上。 2. 真空热蒸发的操作步骤 （1）打开循环水开关。 （2）开总电源。 （3）缓慢打开空气阀门(要慢，避免气流速度过快损坏仪器），直到真空腔内外压强一致。
超高真空镀膜 1.历史与发展 化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。随后，1817年，Fraunhofe 在德国用浓硫酸或硝酸侵蚀玻璃，偶然第一次获得减反射膜，1835年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜它们是最先在世界上制备的光学薄膜。后来，人们在化学溶液和蒸气中镀制各种光学薄膜。50年代，除大快窗玻璃增透膜的一些应用外，化学溶液镀膜法逐步被真空镀膜取代。真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺，是迄今在工业能够制备光学薄膜的两种最主要的工艺。它们大规模地应用，实际上是在1930年出现了油扩散泵---机械泵抽气系统之后。 1935年，有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。但它的最先应用是1945年以后镀制在眼镜片上。1938年，美国和欧洲研制出双层减反射膜，但到1949年才制造出优质的产品。1965年，研制出宽带三层减反射系统。在反射膜方面，美国通用电气公司1937年制造出第一盏镀铝灯。德国同年制成第一面医学上用的抗磨蚀硬铑膜。在滤光片方面，德国1939年试验淀积出金属—介质薄膜Fabry---Perot型干涉滤光片。 在溅射镀膜领域，1842年格洛夫（Grove）在实验室中发现了阴极溅射现象。他在研究电子管阴极腐蚀问题时，发现阴极材料迁移到真空管壁上来了。但是，真正应用于研究的溅射设备到1877年才初露端倪。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认同长期处于模糊不请状态，所以，在1950年之前有关溅射薄膜特性的技术资料，多数是不可靠的。19世纪中期，只是在化学活性极强的材料、贵金属材料、介质材料和难熔金属材料的薄膜制备工艺中，采用溅射技术。1970年后出现了磁控溅射技术，1975年前后商品化的磁控溅射设备供应于世，大大地扩展了溅射技术应用的领域。到了80年代，溅射技术才从实验室应用技术真正地进入工业化大量生产的应用领域。现有两极溅射、三极溅射、反应溅射、磁控溅射和双离子溅射等淀积工艺。 2.真空镀膜技术原理[1] 真空镀膜技术是指在真空条件下将金属,金属化合物和其他镀膜材料沉积到基材表面上的技术。塑料真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法。
Ａ、真空电镀原理: 一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 —4Toｒｒ程度进行(1Toｒr=１公厘水银柱高得压力,大气压为760Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~０、２微米、颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化得状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr＜!——[if ！supportＦoot<！--［en ｄｉｆ]——>l〈！--[if ！suｐｐortFｏoｔnｏtes]－－＞［1]<！--[endif]—－〉v#W？n8D＜!-—[if !sｕpportＦoｏtnｏtes]——〉[1］