当前位置:文档之家› 测试技术复习资料

测试技术复习资料

测试技术复习资料
测试技术复习资料

测试技术复习资料-标准化文件发布号:(9456-EUATWK-MWUB-WUNN-INNUL-DDQTY-KII

《无机材料测试技术》试卷(一)

一、名词解释(每题2分,共20分)

1.相干散射波长不变的散射,又称经典散射.

2.

系统消光由原子在晶胞中的位置不同而引起某些方向上衍射线的消失称为系统消光.

3.μm

4.粉晶衍射仪法利用X射线的电离效应及荧光效应,由辐射探测器(各种计数器)来测定记录衍射线的方向和强度。

5.

6.EPMA 电子探针工

7.几何像差透镜磁场几何上的缺陷所产生,包括球差、像散和畸变.

8.相位衬度像利用电子束相位变化由两束以上电子束相干成像

9.AES

10.DSC 差示扫面量热法

10.微商热重分析能记录TG曲线对温度或时间的一阶导数的

一种技术,也即质量变化速率作为温度或时间的函数被连续记录下

来。

二、填空题(每题4分,共20分)

2

1.吸收限的应用主要是:合理的选用滤波片材料害人辐射源的波长(即选阳极靶材料)以便获得优质的花样衍射。

2.影响衍射线强度的因子是:1.多重性因子2. 结构因子 3.脚因子

4.温度因子

5.吸收因子

3.透射电镜制备样品的方法主要有:直接法:粉末颗粒样品、超薄切片、直接薄膜样品间接法:一级复型、二级复型;半直接法:萃取复

型。

4.SEM的主要工作方式有:发射方式、反射方式、吸收方式、投射方式、俄歇电子方式、X射线方式、阴极发光方式、感应信号方式。

5.DTA中用参比物稀释试样的目的是:.j减少被测样品的数量

3

4

三、判断题(每题2分,共10分)

1. 滤波片的K 吸收限应大于或小于K α和K β。

2. 满足布拉格方程时,各晶面的散射线相互干涉加强形成衍射线。

3. 当物平面与物镜后焦平面重合时,可看到形貌像。(√)

4. 原子序数Z 越大的原子,其对入射电子的散射的弹性散射部分越小。( ×)

5. TG 曲线上基本不变的部分叫基线。

四、问答及计算题(每题10分,共50分)

1.简述特征X 射线产生的机理?

1.答:入射电子能量等于或大于物质原子中K 层电子的结合能,将K 层电子激发掉,外层电子会跃迁到K 层空位,因外层电子能量高,多余的能量就会以X 射线的形式辐射出来,两个能级之间的能量差是固定的,所以此能量也是固定,即其波长也是固定的。

2.试推导面心点阵晶胞的系统消光规律。(面心点阵有四个同类原

子,其坐标为000、 1/2 1/2 0、1/2 0 1/2、0 1/2 1/2,原子散射振

幅为f a )

3.精确测定点阵常数时,在实验技术和数据处理上都应注意什么问题?

4.二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处

4.答:相同点:两者都是通过调制物理信号得到的像衬度

不同点:二次电子的强度与原子序数没有明确的关系,但对微区表面相对于入射电子束的方向却十分敏感。而背散射电子对原子序数或化学成分的变化敏感。

5.与现有一些常用的测试技术相比,试述热分析具有的主要特点?并举例说明。

5.答:(1)不受式样分散的限制,即使是粒度小于1μm的高分散的材料,

也同样能在温度变化过程中显示出固有的物化性能变化;(2)无论式样是否是晶体,只要在温度变化过程中有物化反应发生,就可以用此法进行研究。举例如下(1)研究无机非金属材料工业中所用原料,尤其是天然原料在加热时的变化特性,了解原料的主矿成分,进行主矿原料的定量分析;

(2)研究矿化剂的效能;(3)研究固相反应机理;(4) 确定物质熔融和结晶温度(5)根据试样是热效应特点,为改进工艺,改良配方、克服产品缺陷提供重要的参考资料(6)研究与制定烧成制度与烧成曲线。

5

6

相关主题
文本预览
相关文档 最新文档