抛光混床系统
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目录
混床的设计选择和工艺流程 1 混床的设计参数和运行操作 2 混床的特点 4 混床再生操作说明 5
一、混床的设计选择和工艺流程
1. 体内再生式混床的设计
混床的再生分体内再生和体外再生两种，一般多台混床时，多采用体外再生，多台混床共用一个再生器,混床较少时，一般采用体内再生，具有投资少、节省场地等优点，根据公司的实际情况，考虑在满足生产要求的前提下，尽量方便操作，节省设备投资和运行费用，决定采用混床体内再生方式，这种方法是把失效的树脂在交换器内部进行再生，根据进酸、进碱和冲洗步骤不同，它又可分为两步法和同时处理法，这两种方法公司都采用。混床再生操作步骤麻烦且再生操作时间较长，为节省再生时间和减少自用水耗，生产实际中更多是采用同时处理法。
2．混床树脂的选择及配比
混床要求阴、阳树脂有一定的密度差，便于失效树脂的分离及再生后树脂的混合。同时，混床树脂具有磨损率大，对有机物污染敏感等特点，因此在混床中多采用大孔型树脂以适应大流速运行，我公司采用的阴、阳树脂标准如表1。
表1：阴、阳树脂的标准
实践表明，混床中阴、阳树脂的配比受各种因素对树脂工作周期的影响，主要是由出水水质和周期制水量两方面决定的，阴、阳树脂的比例应按等物质的量来选择，以便使阴、阳树脂几乎同时失效，这样树脂的工作交换容量能得到充分发挥。E阳*V阳= E阴*V阴（即阳树脂吸收阳离子量与阴树脂吸收阴离子量相等）经过反复试验，我公司采用的树脂体积比为阴﹕阳=2﹕1。
二、混床的设计参数和运行操作
1．混床的设计参数
设计进水：原水处理车间一级除盐水装置出水。
设计进水水质：电导率<10μS/cm，SiO2<100μmol/l。
设计处理水量：200t/h。
设计出水水质：电导率<0.2μS/cm，SiO2<10μmol/l。
混床尺寸：Ф1500mm，工作面积：约1.76 m3。
设计单台最大产水量：21000t/周期。
设计单台产水量：100t/h。
阳树脂层高：800mm。
阴树脂层高：1600mm，装填高度到中排管下300mm。
树脂的全交换容量：D001为4.35mmol/l ，D201为3.8mmol/l。
反洗膨胀率:50-80%。
2．混床运行程序操作
正常运行:打开进水阀与出水阀门，运行流速控制在20-40m/h，当出水水质电导率﹥0.2μS/cm，Si02﹥0.02mg/1时，即达到运行终点。
2.1 反洗分层
反洗分层的作用有两个：一是洗去碎树脂和淤积在床层内的悬浮物，二是将失效的阴、阳树脂分开，以后分别再生。通常采用水利筛分法，即用水反洗，根据交换树脂的密度差，将失效的阴阳树脂充分分离。一般阴树脂密度比阳树脂密度小，分层后阴树脂在上，阳树脂在下。反洗时，先开反洗排水门，再缓慢开启反洗入口门，控制反洗流量10-15m/h，时间一般10-15min。
分层的好坏对混床的再生影响很大，分层不好，位于中部排水管附近的树脂由于受“交叉”污染，会影响混床的出水质量。同时，阴阳树脂的劣化，树脂“抱团”及两种树脂的粒度差异等都会影响混床的分层的效果。
2.2 再生
再生时，先开启碱喷射器入口水门，调整进水流量10m3/h，再开启酸喷射器入口水门，调整进水流量7.5m3/h，排出液从中排流出。调整正常后，依次开启碱计量罐出口门，酸计量罐出口门，酸碱液的质量浓度浓度控制在5%左右。
2.3 对流冲洗
进酸、进碱完毕后，继续用除盐水从上、下两部分分别进入床层进行清洗，清洗至中部排水取样化验：DD<10μs/cm，SiO2<50μg/l。停止对流清洗，关闭有关阀门。
2.4 混脂
树脂经再生和洗涤后，在投入运行前，必须将分层的树脂重新混合均匀。首先将交换器中的水面降到树脂层表面以上100-150mm处。其次从交换器底部通入净化风，一般压力为100-150kpa，流量2-3m3/m2/min，混合搅拌时间大约5min。从窥视孔看到树脂基本混合均匀后，要快开正洗排水门，快关压缩风门，以达到快速落实，避免树脂重新分层的目的。
2.5 正洗
混合好后的树脂以10-15m／h的流速通水进行正洗，正洗终点以排水HSiO3-<20μg／L，DD<0.2μs/cm为好。
三、混床的特点
1．出水纯度高
纯水DD的理论值为0.00546μs/cm.，混床出水最小值可达0.0556μs/cm。混床自投入运行后，出水DD一般小于0.08μS/cm，要求DD <0.2μS/cm，远远低于指标要求。
2．出水水质稳定
因为混床是无数级的复床,一般树脂层高度和运行流速在一定范
围内对出水水质影响不大。混床的反应平衡常数K远远大于复床的反应平衡常数K，而且几乎没有逆反应。所以进水含盐量有所改变或再生程度有所不同时，一般不影响出水水质，而只影响周期产水量。3．冲洗时间短
混床冲洗时间短是因为最后残留在树脂中的微量酸碱在混脂时吸收掉了，所以冲洗时间短，出水很快合格，而这一过程中消耗的交换容量是可忽略不计的。如果混脂不好，就会使冲洗时间延长。
4．间断运行影响小
混床间断运行时，只需把交换器中静止的水置换出来即可，所以启动后很容易合格。
5．交换终点明显
由于混床出水纯度高，且水质稳定，因此任何一种树脂耗尽都将使其出水导电度明显升高，尤其阳床先失效，终点易于控制。
混床再生操作
四、混床再生操作说明
1．再生药剂备制
1．1 取30-33 ％试剂盐酸8 瓶（或工业盐酸12L ）备用。
1. 2 取99% 片碱6kg 加水8kg 充分溶解常温备用
2．操作步骤
2.1 混床分层：打开6、7 号阀，其余关闭，时间为5 分钟左右，
至阴阳树脂彻底分层为止,（中排以上为阴离子树脂、中排以下为阳离子树脂）。
2．2 混床再生：（阳离子吸盐酸，阴离子吸碱液）打开1、2、3、11进碱阀、进酸阀，其余关闭，开机检查吸管有吸力时将进阴树脂的吸管放入片碱溶液中，将进阳离子树脂的吸管放入盐酸溶液中，进行吸药再生，吸药液时间控制在40 分钟左右吸完。
2. 3 清洗混床：打开5、6、11 中排阀，其余关闭，清洗至出水pH 值为中性。
2. 4 混合混床阴阳离子：先开排气阀10、后开进气阀12，其余关闭，开始进气混合，时间为 5 分钟左右，以阴阳树脂充分混合均匀为止。
2. 5 再生完毕开至正常出水，开5、9 其余关闭。
注意：
阳树脂吸盐酸阴离子吸碱液, 酸、碱残液经中排阀排出，在吸药液至清洗药液的过程中罐体内阴阳树脂与药液不能混合，否则再生操作重做，更不能错吸酸碱药液以免损坏树脂。
若因操作失误，其后果本司概不负责！
使用说明书
苏州大越精密去毛刺机 目录 使用说明书 (1) 目录 (2) 安全使用 (3) 设备简介、工作原理、功能特点 (4) 设备用途、优点 (5) 机器使用解答.........................................................6-7 代码显示解答 (7) 安装与接线 (8) 操作流程 (9) 设备日常保养、保修卡 (10) 服务联系方式 (11)
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3．机器使用时候必须接地,通电前确认输入电源电压正确。 4．不要把机器安装在太阳照射、雨淋、过于潮湿、强酸、碱车间内. 5．自行维修需要和厂家联系确认,否则对修理人员可能成严重伤害. 设备简介 感谢您购买我们公司精密零件去毛刺抛光机！我们是自主研发的一种新型抛光设备，本机采用全球先进上好材料，简单操控独特的设计，彻底解决传统抛光的难题。解决了伤工件、死角、管内、通孔、盲孔等抛光研磨一系列的问题，提升了抛光效率及产品的品质。 工作原理 本抛光去毛刺机是利用超强的磁场力量，传动细小的研磨钢针，使抛光也产生高速旋浮流动，换向翻滚，以众多去毛刺不锈钢钢针轻轻滑过工件各个表面及工件内孔、内外牙及表面摩擦，达到清洗、去油垢杂质、去除毛边、研磨光亮的精密抛光效果。 功能特点 ●成本低，采用半永久性不锈钢针磨材，消耗极低。
XX責任有限公司 10T/H二級反滲透+EDI超純水系統 操 作 說 明 書
目錄 一、概述 (5) 二、工艺流程示意图 (6) 三、预处理系统 (7) （一）原水箱 (7) （二）原水泵 (7) （三）多介质过滤器 (8) （四）活性炭过滤器 (9) （五）阻垢剂加药系统 (11) （六）保安过滤器 (12) （七）PH调节加药系统 (12) 四、二级反渗透系统 (13) （一）I级反渗透高压泵 (13) （二）I级反渗透装置 (14) 1、RO膜外壳 (14) 2、RO膜元件 (14) 3、反渗透原理 (15) 4、反渗透技术指标的计算 (16) 5、I级反渗透系统的联锁保护 (17) 6、反渗透装置的启动和调试 (17) 7、反渗透装置的停运 (18)
8、反渗透膜通用信息 (19) 9、反渗透膜的维护保养 (19) 10、反渗透膜的清洗 (20) 11、反渗透膜元件的更换 (23) 12、陶氏膜元件用杀菌剂及保护液 (24) 13、膜元件的一般保存方法 (24) （三） I级反渗透水箱 (25) （四）II级反渗透高压泵 (26) （五）II级反渗透装置 (27) 1、RO膜外壳 (27) 2、RO膜元件 (27) 五、EDI处理系统 (28) （一）II级反渗透产水箱 (28) （二）EDI给水泵 (28) （三）紫外杀菌器 (29) （四）精密过滤器 (30) （五）EDI系统 (30) 1、EDI元件 (30) 2、EDI原理 (31) 2、EDI技术指标的计算 (32) 4、EDI系统的连锁保护 (33) 5、EDI装置的启动和调试 (33)
技术学院 毕业设计（论文） 题目抛光机设计 系 (部) 专业 班级 姓名 指导老师 系主任 年月日
目 录 综 述 ........................................................................................................................... 2 1. 抛光桶设计参数 ...................................................................................................... 5 2. 传动方案 .................................................................................................................. 6 3. V 带的设计 ................................................................................................................ 6 3.1确定设计功率...................................................................................................... 6 3.2选择带的型号...................................................................................................... 7 3.3确定带轮的基准直径21d d 和.............................................................................. 7 3.4验算带的速度...................................................................................................... 7 3.5确定中心距A 和V 带基准长度d L .................................................................... 7 3.6确定中心距和小轮包角...................................................................................... 8 3.7确定V 带根数Z ................................................................................................. 8 3.8确定初拉力0F ..................................................................................................... 8 3.9计算作用在轴上的压力...................................................................................... 8 3.10带轮结构设计.................................................................................................... 9 4. 滚筒的设计 ............................................................................................................ 10 4.1滚筒结构............................................................................................................ 10 4.2轴承的选择........................................................................................................ 10 4.3键的校核............................................................................................................ 10 5. 结论 ........................................................................................................................ 11 6. 参考文献 . (12)
水处理设备 操 作 说 明 书 ※※※※※※科技有限公司地址：※※※※※※
目录 *简介 *工艺 *RO进水条件 *各部件名称、作用及使用维护保养注意事项*安装指导 *操作说明 *逆渗透系统主机动作原理 *混床除盐系统原理 *附录 ROC4313双级反渗透控制器描述 *
简介 本说明书是意于帮助用户能够正确安装和使用本设备，以使设备达到最佳运行效果和最长的使用寿命，所以请用户在安装和使用本设备前务必花一定时间认真阅读本说明书。 本说明书适用于H/S的双级逆渗透系统。设备的设计能力在设备规格中表示出来。如：RO-6000GPD表示设计能力为每24小时可生产6000加仑（或22700升）的纯水；H/S表示设计能力为每小时可生产吨的纯水，S表示双级，以下类推。每一台设备的生产能力都是在原水温度为25℃的情况下设定的。若实际运行中原水温度高于或低于这个温度其生产能力会有一定程度的变化。当然，原水其它条件的变化都会对产品水水质和产量带来影响，这在后面有关章节及有关功能介绍中分别阐述。 逆渗透过程是利用半透性螺旋卷式膜分离去除水中的可溶性固体、有机物、胶体物质及细菌。原水以一定压力被送到并通过逆渗透膜，水透过膜上的微小孔径，经收集后得到纯水。水中的杂质在截流液中浓缩并被排出。RO可除去原水中96%以上的溶解性固体，99%以上的有机物及胶体，以及几乎100%的细菌。 RO设备是目前世界上水处理设备中制取纯水的最先进的设备之一，其运行费用低、经济、操作方便、运行可靠，是商家首选的制取纯水设备。 工艺流程 自来水---多介质过滤器---活性炭过滤器---阻垢加药系统---一级反渗透系统---中间水箱---二级反渗透系统---恒压供水系统---标准四柱混床---特级抛光混床二级柱---用水点 RO进水条件
湘潭大学兴湘学院 毕业设计说明书 题目：硬脆质材料双面/研磨抛光机的设计____ 专业：机械设计制造及其自动化_________ 学号： 32__________________ 姓名：王林森______ 指导教师：周后明____________________ 完成日期： 5月20___________________
湘潭大学兴湘学院 毕业论文（设计）任务书 论文（设计）题目：硬脆材料双面研磨抛光机的设计 学号：32 姓名：王林森专业：机械设计制造及其自动化 指导教师：周后明系主任：刘柏希 一、主要内容及基本要求 研磨抛光是硬脆材料获得光滑和超光滑高表面质量的重要加工方法。本设计为硬脆材料双面研磨抛光机的设计，其主要技术指标与要求如下： 1、研磨盘的直径：250mm； 2、工件研具相对速度：5~500m/min，连续可调； 3、运动形式：上研磨盘固定，下研磨盘与太阳齿轮、内齿轮转动 4、整机形式：立式，要求构造简单、成本低 设计要求： 1、完成硬脆材料双面研磨抛光机的方案设计和选型论证 2、硬脆材料双面研磨抛光机的结构设计，绘制部件装配图和主要零件图，图纸总量折合成A0，不少于2张 3、撰写设计说明书，关键零件应进行强度和刚度计算，说明书字数不少于1~5万 4、完成资料查阅和3000字的文献翻译 二、重点研究的问题 硬脆材料双面研磨抛光机的结构设计及相关强度校核。
三、进度安排 序号各阶段完成的内容完成时间 1 查阅资料、调研第1，2周 2 制订设计方案第3，4周 3 分析与计算第5，6周 4 绘部件装配图第7，8、9周 5 绘零件图第10，11周 6 撰写设计说明书第12，13周 7 准备答辩材料第14周 8 毕业答辩第15周 四、应收集的资料及主要参考文献 1、机械设计手册 2、机械传动设计手册 3、于思远，林彬. 工程陶瓷材料的加工技术及其应用[M] . 北京：机械工业出版社,2008. 4、袁哲俊，王先逵. 精密和超精密加工技术-第2版[M]. 北京：机械工业出版社,2007. 5、袁巨龙. 功能陶瓷的超精密加工技术[M]. 哈尔滨：哈尔滨工业大学出版社，2000 6、王先逵. 精密加工技术实用手册[M]. 北京：机械工业出版社,2007 7、相关网络资信
纯水处理工艺预处理的主要目的纯水设备采用世界上最先进的反渗透膜元件、压力容器、高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理精脱盐设备。设备的配置产品水的水质完全符合GMP标准。适用于各类医药企业制剂、配药、输液及针剂用水设备。纯水处理工艺预处理主要目的是去除原水中的悬浮物、胶体、硬度、有机物和余氯等妨碍后续反渗透运行的杂质。处理设施包括原水箱、原水泵、反洗水泵、板式换热器、双介质过滤器、活性炭过滤器、絮凝剂加药系统。 双介质过滤器主要去除水中的悬浮物和胶体。通过在其进水管道投加PAC絮凝剂，采用微絮凝过滤方式，使水中大部分悬浮物和胶体变成微絮体在双介质滤层中截留而去除，双介质过滤器共采用1台。双介质过滤器的反洗可根据运行时间来决定反洗。活性炭过滤器主要去除水中的有机物和余氯，系统采用1台活性炭过滤器.板式换热器利用蒸汽加热，使反渗透进水温度保持在25℃以上，防止因水温过低造成反渗透膜产水量不足。 纯水处理设备工艺中超纯水的制备包括加阻垢剂装置、二级反渗透装置、EDI装置、脱氧膜组、去TOC紫外灯、抛光混床、超纯水箱。 由于反渗透膜脱盐装置为溶解固形物浓缩排放和淡水的利用，根据原水水质分析报告,为了防止浓水端，特别是RO压力容
器中最后一根膜元件的浓水侧出现诸如CaCO3、CaSO4浓度积大 于其平衡溶解度指数而结晶析出，从而损坏膜元件的应用特性，因此在进入膜元件之前设置了阻垢剂投加装置。该装置由计量箱、计量泵组成。RO反渗透主要去除水中溶解盐类、有机物、二氧 化硅胶体、大分子物质及预处理未去除的颗粒物等。采用两级RO工艺可有效去除水中离子，同时使出水满足后续EDI装置工 艺进水要求。
抛光机是什么 抛光机 抛光机是一种电动工具，抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成。电动机固定在底座上，固定抛光盘用的锥套通过螺钉与电动机轴相连。抛光织物通过套圈紧固在抛光盘上，电动机通过底座上的开关接通电源起动后，便可用手对试样施加压力在转动的抛光盘上进行抛光。抛光过程中加入的抛光液可通过固定在底座上的塑料盘中的排水管流入置于抛光机旁的方盘内。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。 抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用最细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。 解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，最好不要超过600r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。 精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构，已逐步引起有关专家的重视。国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。 下面介绍几种常用的机械抛光机的性能和特点。抛机光专门针对钢、铝铜等金属制品的表面和管类进行效果处理，几十种原厂配件满足不同需要，轻而易举制造出各种精度不同的雪花
《超纯水机验收细则[合集5篇]》第一篇：超纯水机验收细则优普（uph-iv-20t）超纯水机验收细则 根据gbt6682-xx分析实验室用水规格及分析方法中相关规定，分析实验室用水可分为三个级别，相应技术规格如下表所示：以上述标准为参考，验收优普超纯水机可从以下几方面进行： 一、仔细核对配件（厂家、规格、型号），确保配件正确、完整。 配件：超纯水主机（含：优普注塑反渗透膜（内装美国陶氏dows 膜），优普注塑纯化柱（内装美国陶氏dows树脂），plc集成电路控制板，高分子超滤膜，降toc进口紫外灯），优普加强型注塑预处理（含：kdf、干活性炭、高分子pp纤维、除氯棒），德国赛多利斯0.45+0.2μm终端微滤器，30升无菌纯水箱。 问题。dows膜、dows树脂、kdf、干活性炭、高分子pp纤维、除氯棒、德国赛多利斯0.45+0.2μm终端微滤器、高分子超滤膜具体型号。 二、仪器连接好后，观察接口处是否有漏水现象；仪器在运行过程中是否有噪音或是异常。 三、看出水量是否达到要求。制水量20l/h；取水量1.5l/min。 四、相关技术参数： 1、ro膜（反渗透膜）出水水质。电导率≤源水电导率×2%。 2、up（超纯水）出水水质：电阻率18.25mΩ.cm（ 1、2）均可用电导仪测定。（电阻率与电导率互为倒数关系）
3、ph值。可用ph酸度计检测。 4、重金属离子＜0.1ppb、toc（有机物含量）＜5ppb、热源（内毒素）＜0.001eu/ml、分子截流量：5000dalton（由于缺少检测仪器，无法检测） 第二篇：超纯水机安全操作规程超纯水机安全操作规程 一、开机前检查及注意事项 1、电气控制部分： （1）检查控制柜内部回路、控制回路、仪表回路等电源开关是否在“0n”位置。 （2）检查控制柜板面上各选择开关是否打在所需位置，指示灯指示是否正常。 2、确认流程 （1）检查并确认泵入口阀门已全开，出口阀门在适当开度，排尽泵内积存空气。 （2）检查系统流程，凡工艺运行所经管路上相关阀门必须按要求开闭，确认流程畅通。 （3）本系统控制采用plc控制，以纯水箱为界前后运行互不影响，ro控制柜及edi控制柜各有一状态选择开关，各位置泵运行状态如下： “自动”位置一一泵受plc程序控制启动或停止； “手动”位置一一泵受手动“启动”、“停止”两位旋钮开关控制（4）edi系统的启动开始采用手动操作，当系统的所有流量和压
抛光机使用说明书 一、抛光机外形图 (1) 二、技术参数 (3) 三、机床用途与性能特点原理 (4) 四、机床的结构 (4) 五、机床的传动与气控系统 (5) 六、机床的电器系统 (5) 七、机床的安装与试车前准备 (6) 八、机床的润滑 (6) 九、机床的试车与操作 (7) 十、机床的安全与维护 (8)
以上为本公司标准型号及参数，可根据客户要求进行设计、制造
三、机床的用途与性能、特点及原理 本机型主要针对各种不锈钢圆筒及封头内外表面的抛光或拉线，如：食品、化工用不锈钢罐、压力容器、椭圆封头、锥形封头、反应、过滤器等。 工作原理：以砂带、砂碟、拉线轮等为磨料，针对流体设备的构造特点，采用气压浮动补偿和压力弹簧的恒压磨削技术实现流体设备内外表面的磨削抛光。采用变频器可实现转台、升降及横向进给的灵活位移，从而实现自动抛磨，降低劳动强度。 四、机床的结构 本机床主要由以下几个部分组成（参考外形图） 1.立臂 2.横臂 3.连接架 4.小立臂 5.立抛机头 6.卧抛机头 1．立臂：采用焊接钢结构件、导轨与矩形管、度座等拼焊而成，顶部装有减速机座，利用减速机输出链轮旋转带动连接架来完成横臂的上下行走。立臂两端装有限位开关，控制滑板超程。 2．横臂：采用焊接钢结构件，由导轨与矩形管、机头连接板等拼焊而成，在导轨下端装有齿条，利用减速机输出齿轮旋转带动横臂左右行走。横臂两端的连接板使机头与横臂连接在一起，导轨两端装有限位开关控制横臂超程。 3．装，并与升降链条连接，与升降减速机配合共同完成横臂的升降与左右位移。 4．小立臂：小立臂与折弯板与导轨、机座等组焊而成与横臂相连，依靠减速机旋转带动线杠转动从而达到升降行走，导轨两端装有限位开关，控制滑板超程。 5．立抛机头：立抛机头为拼焊组合结构件，用来安装磨削电机与气缸、弹簧等部件，并与小立臂相连接，共同完成磨头的灵活位移。从而实现对封头、
抛光方法 目前常用的抛光方法有以下几种： 1.1机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。1.2化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。 1.3电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步：（1）宏观整平溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra＞1μm。 （2）微光平整阳极极化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。 1.4超声波抛光 将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中，依靠超声波的振荡作用，使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小，不会引起工件变形，但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上，再施加超声波振动搅拌溶液，使工件表面溶解产物脱离，表面附近的腐蚀或电解质均匀；超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程，利于表面光亮化。 1.5流体抛光 流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。 1.6磁研磨抛光 磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。 在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同，严格来说，模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何精确度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。镜面加工的标准分为四级：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由于电解抛光、流体抛光等方法很难精确控制零件的几何精确度，而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。
抛光混床 用 户 手 册
抛光混床 一、概述 抛光混床是设置于EDI系统之后，对水进一步纯化的水处理设备，一般抛光混床可分成一级抛光混床和二级抛光混床，一级抛光混床将EDI的产水再净化使水质电阻达16 MΩ以上，二级抛光混床是一级抛光混床产水进行再抛光，使水质电阻率达18 MΩ以上。 二、抛光混床结构形式 一级抛光混床是由2台直径为510mm, 材料为FRP压力容器组成, 并列工作。内部设有材料为ABS的布水器和集水装置，内部填装阴阳树脂比例为1.5:1, 所用树脂为国产的超纯水专用树脂, 当运行产水水质小于12MΩ指标时, 更换树脂。二级抛光混床是由2台直径为510mm, 材料为FRP由美国生产RT1665-45压力容器组成, 并列工作。内部设有材料为ABS的布水器和集水装置，内部填装阴阳树脂比例为1.5:1,所用的树脂为美国生产的NM-5DSG(半导体级混床树脂)型号树脂, 当达不到用水水质要求指标时,更换树脂。 三、主要技术参数 设计压力: 0.6Mpa 运行流速: 一级：30 m/h 二级：36 m/h 设备出力: 一级：6 m3/h 二级：4.5 m3/h 产水水质: 一级：电导度≤0.053μS/cm 电阻≥16MΩ 二级：电导度≤0.053μS/cm 电阻≥18MΩ 四、原理与特点 原理 该设备是将阴、阳离子交换树脂按一定比例填装于同一交换器内的离子交换
装置，一般称为混合离子交换器(简称混床)。 均匀混合的树脂层阳树脂与阴树脂紧密地交错排列, 每一对阳树脂与阴树脂颗粒类似于一组复床, 故可以把混床视做无数组复床的串联运行的离子交换设备。 混床水质除盐的反应方程式如下： Na ｝｛H2SO4 ｛Na ｛1/2 SO4 RH + ROH + 1/2Ca ｝｛Cl →R ｛1/2Ca+ R ｛CL + H2O 1/2mg ｝｛HCO3 ｛1/2 Mg ｛HCO3 ｛HSiO3 特点 由于通过混合离子交换后进入水中的氢离子与氢氧离子，立即生成电离度很低的水分子（H2O），很少可能形成阳离子或阴离子交换时的反离子，可以使交换反应进行得十分彻底，活水水质优良。一般用强酸强碱树脂填装的混床，出水含盐率在1ppm/l以下，电导率小于0.1-0.2μS/cm 二氧化硅泄露量在20ppb/l左右,出水PH值显中性。 产水水质高且水质稳定，短时间运行条件变化（如进水水质或组分，运行流量等）对混床水质影响不大。 间断运行对产水水质影响小，恢复到停运前的活水水质所需时间短。 交换终点明显。 五、设备的安装、维护与使用
电化学抛光 一电化学抛光的基本原理和特点 1、基本原理 如图7-6：零件接直流电源 的阳极，耐腐蚀材料（不锈 钢 或铝材）作为工具接负极， 将 零件、工具放入电解液槽中， 形成电路产生电流，阳极失 去 电子产生溶解现象，表面被不断蚀除，随着溶解的进行，在阳极表面会生成黏度高、电阻大的氧化物薄膜，凸出处较薄，电阻较小，电流密度比凹处大，这样突出处先被溶解，从而降表面低粗糙度，达到抛光的目的。 2、特点 ①电化学抛光量很小，抛光后的尺寸精度和形状精度可控制在0.01mm以内。 ②电化学抛光效率高，抛光速度不受材料的软硬而影响。 ③工艺简单，操作容易，设备简单，投资小。 ④电化学抛光不能消除原表面的“粗波纹”，对工件表面的基体粗糙度有要求，一般应为Ra1.6以下才好。 二影响电化学抛光质量的因素决定（电镀手册）
1、电解液 电解液的配方和比例要根据加工零件和选用的阴极材料来 2、电流密度 电化学抛光都是在较高的电流密度下进行的，过高时，阳极析出的氧气过多，使电解液近似沸腾，又会影响抛光质量。 3、电解液的温度 一般情况下，温度低，溶解速度低，生产效率就低，此外对电解液应进行搅拌，促使流动，及时排除电解产物，减少温度梯度。 4、抛光时间 抛光的时间不能太长，一般都有一个最佳抛光时间。 5、工件的金相组织状态 愈均匀、致密抛光效果就愈好。非金属成分多抛光效果差。象铸铁就不宜进行电化学抛光。 6、抛光表面的原始粗糙度 一般情况下，原始粗糙度要求在2.5-0.8时，采用电化学抛光才能有较好的效果。 三抛光的方式 1、整体电化学抛光法（图7 －7） 直流电源0－50V，电流密度
抛光混床系统 用 户 手 册
目录 混床的设计选择和工艺流程 1 混床的设计参数和运行操作 2 混床的特点 4 混床再生操作说明 5
一、混床的设计选择和工艺流程 1. 体内再生式混床的设计 混床的再生分体内再生和体外再生两种，一般多台混床时，多采用体外再生，多台混床共用一个再生器,混床较少时，一般采用体内再生，具有投资少、节省场地等优点，根据公司的实际情况，考虑在满足生产要求的前提下，尽量方便操作，节省设备投资和运行费用，决定采用混床体内再生方式，这种方法是把失效的树脂在交换器内部进行再生，根据进酸、进碱和冲洗步骤不同，它又可分为两步法和同时处理法，这两种方法公司都采用。混床再生操作步骤麻烦且再生操作时间较长，为节省再生时间和减少自用水耗，生产实际中更多是采用同时处理法。 2．混床树脂的选择及配比 混床要求阴、阳树脂有一定的密度差，便于失效树脂的分离及再生后树脂的混合。同时，混床树脂具有磨损率大，对有机物污染敏感等特点，因此在混床中多采用大孔型树脂以适应大流速运行，我公司采用的阴、阳树脂标准如表1。 表1：阴、阳树脂的标准
实践表明，混床中阴、阳树脂的配比受各种因素对树脂工作周期的影响，主要是由出水水质和周期制水量两方面决定的，阴、阳树脂的比例应按等物质的量来选择，以便使阴、阳树脂几乎同时失效，这样树脂的工作交换容量能得到充分发挥。E阳*V阳= E阴*V阴（即阳树脂吸收阳离子量与阴树脂吸收阴离子量相等）经过反复试验，我公司采用的树脂体积比为阴﹕阳=2﹕1。 二、混床的设计参数和运行操作 1．混床的设计参数 设计进水：原水处理车间一级除盐水装置出水。 设计进水水质：电导率<10μS/cm，SiO2<100μmol/l。 设计处理水量：200t/h。 设计出水水质：电导率<0.2μS/cm，SiO2<10μmol/l。 混床尺寸：Ф1500mm，工作面积：约1.76 m3。 设计单台最大产水量：21000t/周期。 设计单台产水量：100t/h。 阳树脂层高：800mm。 阴树脂层高：1600mm，装填高度到中排管下300mm。 树脂的全交换容量：D001为4.35mmol/l ，D201为3.8mmol/l。 反洗膨胀率:50-80%。
抛光机 工作原理： 抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用最细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。 解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，最好不要超过600r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。 精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构，已逐步引起有关专家的重视。近年来，国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。
抛光机操作与保养规程 抛光机操作与日常保养 抛光机专用于地面抛光,其构造原理与擦地机相同,它通过高速转动,使毛刷盘与地面进行软磨擦,达到抛光效果,适用于大理石,木质地板等各种平整硬质地面的打蜡抛光; 4.3.1抛光机的操作 4.3.1.1把机放倒,在机器底部逆时针方向安装针盘和百洁垫;抛光前需干擦以除地坪表面,并湿擦以除去砂石粒; 4.3.1.2把机体放平,使针盘连同百洁垫紧贴地面; 4.3.1.3插上电源,按下调节开关,将手柄杆调至适合自己操作的高度;抓稳操纵杆启动电源开关,来回控制使机器左右移动; 4.3.1.4接通电源,操作应从电源插座最近地方开始,行走路线为一条直线; 4.3.1.5::抛光时速度应保持30米/分钟来回抛光3-5次,行与行之间要重叠后面抛光的地面应重叠于前面已抛光的地面,以免漏抛; 4.3.1.6使用完后关闭电源开关,卸下百洁垫清洗;电源线绕回挂在机身上; 4.3.2操作注意事项: 4.3.2.1使用前检查电源线是否完好,底盘抛光垫是否安装好,在工作时不要将机速开得太快,以免碰撞; 4.3.2.2不可用易燃的液体来洗地板,或者在易爆空气中操作机器; 4.3.2.3操作机器时,不可抬起操作杆,避免导致机器失控; 4.3.2.4机器必须放在室内,不可淋到雨水,绝不可以使机器顶端喷到任何液体; 4.3.2.5地线必须和开关盒,马达相连,接错将导致触电; 4.3.3抛光机的日常保养:
4.3.3.1使用完毕要将针盘、抛光垫拆下,清洁干净机身及配件,用胶垫放在驱动盘下面,并断开电源,然后放好; 4.3.3.2检查马达罩上的通气口是否畅通,如灰尘聚积较多,必须卸下马达外壳并用吸尘机除去灰尘; 4.3.3.3::对轮子等活动部分每月加油护养1次; 4.3.3.4每次用完后,保洁员应将机器使用状态记录于《保洁设备保养操作记录表》中; 4.3.3.5保洁主任应于每天下班前检查保洁员的工作记录,发现机器有异常情况应即时填写维修单,通知维修部维修并作好记录;
抛光机、研磨机、打磨机的区别 抛光机、打磨机、研磨机这三类型机械其实是完全不同类型的机械，很多人会发生混包括一些权威的平台都发生了混同的情况，甚至等同认之。其实三者虽然原理相近，也差多功能，然则却存在较大的差异，因为它们几乎不存在竞争的关系。下面我们将就三者的差异进行详细说明，以方便我们进行识别。 抛光机： 东莞金铸机械主要采用抛光轮摩擦配合抛光蜡使金属等表面达到光洁甚至镜面的效果。电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。 抛光机较研磨机和打磨机而言种类繁多，大类主要分为手动抛光机和自动抛光机。手动抛光机种类较为单一，主要就是一个电机和单轴组成配合抛光轮进行抛光。自动抛光机由于对效率的最求专业性更强，针对不同的产品就会有不同的机械，造成了自动抛光机种类较多。例：五金产品、平面类产品、圆管、方管等等产品表面抛光处理，可以是金属表面到底镜面的效果。是表面处理中可以达到最光亮的效果的一种加工设备。 研磨机： 又称震动研磨机，通过工件与石子等研磨料摩擦减少工件表面毛刺、边刺的打磨方式，多为滚筒式式外形设计。适用于中小尺寸工件的表面抛光、倒角、去除毛边、磨光、光泽打光处理，处理后不破坏零件的原有形状和尺寸精度，可消除零件内部应力，并提高了零件表面光洁度、精度。例如，目前最常用的有佛珠、小型压铸件、螺丝帽等产品的表面初步处理，都需要用到这种震动研磨机。 打磨机： 按动力分类可分为气动打磨机和电动打磨机，按机械规模可分为坐式打磨机和手提式打磨机。适用于铁板、木材、塑料，轮胎业表面研磨，船舶、汽车、磨具、航空业精细抛光，去毛边，除锈，去油漆等作业。铁板、木板、熟料等一般用坐式打磨机，而汽车、船舶等较大型表面打磨一般采用手提式进行。通过上诉的了解我们不难发现，在行业中我经常混淆的三种机械其实在加工领域上存在着巨大的差异，我们
教你认识自动抛光机 随着时代的进步，社会的发展，自动化产业也随之降临，抛光机由原始的人工到半人工再蜕变成现在的全自动也经历了相当长时间的磨练。自动抛光机主要好处就是是机器的自动化，减少了工作中对身体的危害，保障工作人员安全的同时又提高了工作的效率。随着经济的发展，自动化必将代替人工。那么如何去掌握自动抛光机的技术机器使用方法呢？首先我们要了解的是以下几点： 1、自动抛光机的工作原理 自动抛光机由底座、抛光头、工作台、防护罩/盖、液压系统、电控系统、辅助夹具等基本元件基组成。是在普通抛光机的基础上改进创新发展起来的。适用于产量比较大的工厂使用。 电机是抛光头的动力来源,与抛光辅料构成整个抛光头。抛光辅料紧固在抛光头上，电机电源起动后，通过调节抛光头位置，使抛光辅料与要抛光的物件全面接触。抛光过程中加入的抛光液/抛光蜡，可以得到更好的光洁度。可通过固定在工作台上安装水槽、水循环系统等等，达到湿抛的效果。防护罩可以防止抛光过程中物件脱落飞出打到人员，同时在安装上除尘机之后，可以有效消除室内灰尘。 2、自动抛光机的操作 抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用最细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。 自动抛光机操作比较简单，操作人员只需将要抛光的物件事先摆放在相应的夹具之上。将夹具固定在自动抛光机工作台上。启动自动抛光机，自动抛光机在设定时间内完成抛光工作，自动停止，在从工作台上卸下物件即可。 自动抛光机抛光前，需要调整好抛光头与工作台面的距离。以达到最好的接触效果，抛出最好的效果。抛光过程中可以使用手工打蜡，以降低机器制作成本。 3、自动抛光机如何配置 对于产量要求比较大的工厂。抛光工艺比较成熟。工艺安排好之后，根据每一道工序，做具体的抛光机配置。配置的原则如下： 对规则物件，如旋转体，球体，方块，平板等等。每个地方都能轻易抛到。那么配线，每道工序，只需同种机型一台即可。走四道工序，即4台机器组成一条线。 对不规则物件。如餐厨具刀具，叉子，勺子等等。比如勺子，就要分段进行抛光。如抛勺头，勺子颈部，手柄等等。安装榜正自动化设备配置，就需要配置半自动抛光机，四组大圆管（圆棒）自动抛光机 JZ-PD1004，单组圆管（棒）自动抛光机，环保型单组圆管（棒）自动抛光机,两组圆管（棒）自动抛光机,四组圆管（棒）自动抛光机,环保型四组圆管（棒）自动抛光机,环保型七组圆管（棒）自动抛光机,环保型八组圆管（棒）抛光机,六组圆管（棒）
抛光机的工作原理 抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产 生的损伤层,同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深;后者要求使用最细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。 解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光机分为两个阶段进行，粗抛目的是 去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次 要的考虑，不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝 对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。 同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨 损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度 太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸 铁中石墨相产生“曳尾”现象;湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗 抛的目的，要求转盘转速较低，最好不要超过600r/min;抛光时间应当比去掉 划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光， 在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。 精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后 磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍 可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构，已逐步起有关 专家的重视。近年来，国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作，研究出 不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动操作发展成为各种各样的半 自动及全自动抛光机。 下面介绍几种常用的机械抛光机的性能和特点：抛机光专门针对钢、铝铜 等金属制品的表面和管类进行效果处理，几十种原厂配件满足不同需要，轻而 易举制造出各种精度不同的雪花纹、拉丝纹、波浪纹、哑光面、镜面等，快速 修补深度划痕和轻微刮花，快速打磨和抛光;焊缝、水口痕、迹氧化膜、污迹和油漆等，适用於去毛刺、形成圆角，装饰性金属加工，在加工过程中不会形成 暗影、过渡地带和装饰面不均匀等，是金属制品生产线的重要设备。 抛光机适用于以下行业：木材、家具行业如平木板、家具金属拉手等工件 砂光拉丝;五金(金属)材料及制品铝型材及其制品、不锈钢制品及器皿、铜型材及制品、水暖卫浴器材、锁类、灯饰制品、标牌铭牌、五金工艺饰品、刀剪类、门的活叶、汽车自行车零配件、餐具类、韪扣类制品、钮扣、皮带扣、手机外壳、钟表行业等工件砂光拉丝;电子零件、电子器材如电子零件、平板砂光拉丝等。本文由中国标识网收集整理,更多信息请访问标识商学院。