美国ASTM D5127电子及半导体工业用纯水水质要求
项目TypeE-1TypeE-1．1TypeE-1.2TyPeE-2TyPeE-3TyPeE-4线宽(μm) 1.0-0.50.5-0.250.25-0.185-1>5-
电阻率18.218.218.217.5120.5
热源(EU/ml)0.030.030.030.25--
TOC(μg／L)521503001000
溶解氧DO(μg／L)111---
蒸发残渣(μg／L)10.50.1---
微粒(μm)(SEM检测)
0.1—0.210001000200
0.2—0.5500500l003000
0.5—1.05050110000
10---100000微粒(μm)(在线检测)
0.05—0.1500500100
0.1—0.230030050
0.2—0.3505020
0.3—0.5202010
＞0.5441
细菌
100ml Sample111
1L Sample110.11010000100000硅(μm)
总硅30.50.510501000溶解硅10.10.05
离子(μg／L)
NH40.10.10.05--
Br0.10.050.02--
Cl0.l0.050.021101000 F0.10.050.03---N030.10.050.0215500 N020.l0.050.02---P040.10.050.0215500 S040.10.050.0215500 Al0.050.020.005---Ba0.050.020.001---B0.050.020.005---Ca0.050.020.002---Cr0.050.020.002---Cu0.050.020.00212500 Fe0.050.020.002---Pb0.050.020.005---Li0.050.020.003---Mg0.050.020.002---Mn0.050.020.002---K0.050.020.00212500 K0.050.020.00525500
Na0.050.020.005151000 Sr0.050.020.00l---
zi0.050.020.00215500
美国国家半导体功放芯片详解 前言： 自从多媒体音箱采用了免前级设计，音箱的后级功放芯片就成为了人们关注的重点。实际上，与传统音响系统一样，有源多媒体音箱的设计也经历了前后级的数度变革，而即便前级设计如何变化，后级依然是必要且必须的。所谓的多媒体音箱后级在功用上与音响后级功放类似，其作用是将前级输出的信号进行功率放大，以便单元能够按照设计规格进行发声运动。 今天我们就先为大家介绍功率芯片名厂——美国国家半导体公司出品常用于多媒体音箱的功率芯片。 美国国家半导体公司简介： 美国国家半导体公司成立于1959年，是著名的模拟和混合信号半导体制造商，也是半导体工业的先驱。公司总部设在美国加州。国家半导体公司致力于利用一流的模拟和数字技术为信息时代创造高集成度的解决方案。它的生产网点遍布全球，在美国德克萨斯州、缅因州和苏格兰建有晶片制造厂，在马来西亚和新加坡建有检验中心和装配厂。主要生产的产品有放大器、比较器、显示电路、接口电路、传感器等通用模拟电路和汽车电路、微处理器及军用航空用产品等等。 近年来，随着便携设备的盛行，国家半导体的产品方向已经偏向消费类数码移动产品，不过其在音频领域的芯片研发能力依然强悍。下面我们来看看国家半导体的音频功率放大器家族。 国家半导体的音频功率放大器芯片家族：
上图列表的Excel文档可点击这里下载附件 从上面的列表我们可以看到，美国国家半导体的功率放大芯片家族分为四个较大的系列：LM18xx 系列；LM19xx系列；LM38xx系列以及LM47xx系列。型号的后两位数字用来区分同系列中不同封装、功能的产品。 从国内多媒体音箱厂商的实际应用情况看，目前我们最常见的国家半导体功率放大器系列为 LM18xx系列；LM38xx系列以及LM47xx系列。而具体应用得最多的则是LM1875、LM3886和LM4766。下面我们就为大家详细介绍这三款IC。相信通过我们的介绍，大家举一反三就能进一步了解该公司的其他衍生产品了。 盛极一时的LM1875： LM1875是美国国家半导体器件公司生产的单声道音频功放芯片，采用V型5 脚单列直插式塑料封装结构。该集成电路静态电流约70mA，工作于甲乙类放大状态，在±25V电源电压RL=4Ω时可获得20W的输出功率，在±30V电源8Ω负载获得30W的功率，谐波失真为0.03%，增益为26dB，输入灵敏度为630mV，并沿袭了国家半导体的优良传统内置多种保护电路。广泛应用于汽车立体声收录音机、中功率音响设备，具有体积小、输出功率大、失真小等特点。
超纯水设备应用于高端电子工业分析 超纯水指的是不含杂质的H2O。从学术角度讲，纯水又名高纯水，是指化学纯度极高的水，其主要应用在生物、化学化工、冶金、宇航、电力等领域，但其对水质纯度要求相当高，所以一般应用最高端的电子工业。 1、超纯水设备 反渗透是一种物理现象，当两种含有不同浓度盐类的水，如用一张半渗透性的薄膜分开就会发现，含盐量少的一边的水分会透过膜渗到含盐量高的水中，而所含的盐分并不渗透，这样，逐渐把两边的含盐浓度融和到均等为止。这个过程称为自然渗透。反渗透就是一种在压力驱动下，借助于半透膜的选择截留作用将溶液中的溶质与溶剂分开的分离方法。 反渗透超纯水设备是将原水经过石英砂过滤器、颗粒活性碳过滤器、精密过滤器等,再通过泵加压,利用孔径为 1/10000μm(相当于大肠杆菌大小的1/6000,病毒的1/300)的反渗透膜(RO膜),使较高浓度的水变为低浓度水,同时将工业污染物、重金属、细菌、病毒等大量混入水中的杂质全部隔离，从而达到饮用规定的理化指标及卫生标准,产出至清至纯的水,是人 体及时补充优质水份的最佳选择.由于RO反渗透技术生产的水
纯净度是目前人类掌握的一切制水技术中最高的,洁净度几乎达 到100%,所以人们称这种产水机器为反渗透纯净水机。 反渗透设备应用膜分离技术，能有效地去除水中的带电离子、无机物、胶体微粒、细菌及有机物质等。是高纯水制备、苦咸水脱盐和废水处理工艺中的最佳设备。 2、系统组成 一般包括预处理系统、反渗透装置、后处理系统、清洗系统和电气控制系统等。 预处理系统一般包括原水泵、加药装置、石英砂过滤器、活性炭过滤器、精密过滤器等。其主要作用是降低原水的污染指数和余氯等其他杂质，达到反渗透的进水要求。预处理系统的设备配置应该根据原水的具体情况而定。 反渗透装置主要包括多级高压泵、反渗透膜元件、膜壳(压 力容器)、支架等组成。其主要作用是去除水中的杂质，使产水 水质满足使用要求。 后处理系统是在反渗透不能满足出水要求的情况下增加的 配置。主要包括阴床、阳床、混床、杀菌、超滤、EDI等其中的
工业用水标准 电导率≤10μS/CM动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电导率≤4μS/CM电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化水、白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净水、普通化妆品生产用纯水、血透纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率5~10MΩ.CM锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率:10~15MΩ.CM动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥15 MΩ.CM医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥17 MΩ.CM磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水
出水电导率≤10μS/CM的纯净水，白酒生产用纯水，啤酒生产 用纯水等，生产制造出水电导率≤5μS/CM的电镀用纯水设备、蓄 电池用水设备、镀膜玻璃钢纯水设备、生产制造出水电导率0.110μ S/CM的导电玻璃制造用水，实验室用超纯水。生产出水电阻率在 5-10MΩ.CM的锂电池、蓄电池生产用水，10~15MΩ.CM的电镀用水，光学材料清洗用水等等，生产制造电阻率≥17 MΩ.CM 磁性材料锅炉用软化水、敏感新材料用水、半导体材料生产用水、尖端金属材料用水等。生产制造电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用水、化验室用水、电子级无尘布生产用水等 制取高纯水的主要工艺为反渗透+EDI工艺和反渗透+抛光混床工艺或反渗透+EDI+抛光混床工艺，出水水质最小电阻率能达到10M Ω.CM，电阻率能达到18.5MΩ.CM，生产用纯水各行业标准不一，比如电池行业至少需要电阻率达到10MΩ.CM，电镀行业用水、镀膜玻璃用水一般要求达到15MΩ.CM，纯净水生产，白酒生产用纯水，啤酒生产用纯水一般只需达到电导率≤10μS/CM即可，一级反渗透工艺即可达到电导率≤10μS/CM，所以订购纯水设备，纯净水设备时先了解水质需要达到一个什么标准，然后再咨询厂家工艺的可行性及效益性，以最少的投入达到预期的纯水水质标准。 反渗透设备出水水质在各行业应用： 电导率≤10μS/CM 普通化工原料配料用水、食品行业配料用水，普通电镀行业冲洗用去离子水、纺织印染用除硬脱盐纯水、聚脂切片
我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。 电导率≤10μS/CM动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电导率≤4μS/CM电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化水、白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净水、普通化妆品生产用纯水、血透纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率5~10MΩ.CM锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率:10~15MΩ.CM动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥15 MΩ.CM医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率≥17 MΩ.CM磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水，光伏光电行业。
半导体整个生态链 主要分为：前端设计（design）,后端制造（mfg)、封装测试(package)，最后投向消费市场。 不同的厂商负责不同的阶段，环环相扣，最终将芯片集成到产品里，销售到用户手中。半导体厂商也分为2大类，一类是IDM (Integrated Design and Manufacture)，包含设计、制造、封测全流程，如Intel、TI、Samsung这类公司；另外一类是Fabless，只负责设计，芯片加工制造、封测委托给专业的Foundry，如华为海思、展讯、高通、MTK（台湾联发科）等。 前端设计是整个芯片流程的“魂”，从承接客户需求开始，到规格、系统架构设计、方案设计，再到Coding、UT/IT/ST（软件测试UT：unit testing 单元测试IT： integration testing 集成测试ST：system testing 系统测试），提交网表（netlist或称连线表，是指用基础的逻辑门来描述数字电路连接情况的描述方式）做Floorplan，最终输出GDS（Graphics Dispaly System）交给Foundry做加工。由于不同的工艺Foundry提供的工艺lib库不同，负责前端设计的工程师要提前差不多半年，开始熟悉工艺库，尝试不同的Floorplan设计，才能输出Foundry想要的GDS。 后端制造是整个芯片流程的“本”，拿到GDS以后，像台积电，就是Foundry 厂商，开始光刻流程，一层层mask光刻，最终加工厂芯片裸Die。 封装测试是整个芯片流程的“尾”，台积电加工好的芯片是一颗颗裸Die，外面没有任何包装。从晶圆图片，就可以看到一个圆圆的金光闪闪的东西，上面横七竖八的划了很多线，切出了很多小方块，那个就是裸Die。裸Die是不能集成到手机里的，需要外面加封装，用金线把芯片和PCB板连接起来，这样芯片才能真正的工作。 台积电是目前Foundry中的老大，华为麒麟系列芯片一直与台积电合作，如麒麟950就是16nm FF+工艺第一波量产的SoC芯片。 半导体行业的公司具主要分为四类： 集成器件制造商IDM (Integrated Design and Manufacture)：指不仅设计和销售微芯片，也运营自己的晶圆生产线。Intel，SAMSUNG(三星)，东芝，ST(意法半导体)，Infineon(英飞凌)和NXP(恩智浦半导体)。 无晶圆厂供应商Fabless：公司自己开发和销售半导体器件，但把芯片转包给独立的晶圆代工厂生产。例如：Altera(FPL)，爱特(FPL)，博通(网路器件)，CirrusLogicCrystal(音频，视频芯片)，莱迪思(FPL)，英伟达(FPL)，
工业电子超纯水设备设计方案 1.电子工业超纯水概述 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大 规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高， 线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为 18Mù.cm、15Mù.cm、10Mù.cm、2Mù.cm、0.5Mù.cm，以区分不同水质。 2.电子工业超纯水设备特点 电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理 系统、RO 反渗透主机系统、离子交换混床(EDI 电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间 水箱、RO 纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水 质检测控制仪表、电气采用PLC 可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户 要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。 3.电子工业超纯水的应用领域 1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水; 2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水; 3、实验室和中试车间用超纯水; 4、汽车、家电表面抛光处理; 5、光电子产品; 6、其他高科技精微产品; 工业电子超纯水设备工艺流程说明：
1、第一级预处理系统：采用石英砂多介质过滤器，主要目的是去除源水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、 悬浮物等颗粒在20 m以上对人体有害的物质，系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列 操作。 2、第二级预处理系统：采用果壳活性碳过滤器，目的是为了去除水中的色素、异味、生化有机物、降低 水的余氯值及农药污染和其他对人体有害的污染物。系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一 系列操作。 3、第三级预处理系统：采用阳树脂对水进行软化，主要是降低水的硬度，去除水中的钙、镁离子(形成 水垢的主要成分)，可有效延长反渗透膜的使用寿命，并可进行智能化树脂再生。 4、第四级预处理系统：采用5um 孔径精密过滤器，使水得到进一步的净化，使水的浊度和色度达到优 化。保证RO 系统进水条件要求，保证设备的产水质量，延长设备的使用寿命。 5、反渗透(超滤)设备主机：采用反渗透(超滤)技术进行深度脱盐处理(进口美国反渗透膜)去除钙、 镁、铅、汞等对人体有害的重金属物质及其他杂质，降低水的硬度，脱盐率达99%以上，生产出符合 国家标准的纯净水。 6、微过滤装置：安装该装置主要是为防止微粒树脂颗粒从布水中滤出，造成二次水质污染，这主要是运 用在对水质特别高的场合。 杀菌系统：采用臭氧发生器(或紫外线杀菌器)，减少细菌二次污染，灭菌率可达99%以上，同时臭氧溶 于水形成富氧水，保证水的纯鲜。采用水气混合器使臭氧充分与水混合，达到最佳浓度比。
德州仪器(TI) LOGO： 德州仪器（Texas Instruments），简称TI，是全球领先的半导体公司，为现实世界的信号处理提供创新的数字信号处理(DSP)及模拟器件技术。除半导体业务外，还提供包括传感与控制、教育产品和数字光源处理解决方案。TI总部位于美国得克萨斯州的达拉斯，并在25多个国家设有制造、设计或销售机构。 德州仪器 (TI) 是全球领先的数字信号处理与模拟技术半导体供应商，亦是推动因特网时代不断发展的半导体引擎。 ----作为实时技术的领导者，TI正在快速发展，在无线与宽带接入等大型市场及数码相机和数字音频等新兴市场方面，TI凭借性能卓越的半导体解决方案不断推动着因特网时代前进的步伐！ ----TI预想未来世界的方方面面都渗透着 TI 产品的点点滴滴，您的每个电话、每次上网、拍的每张照片、听的每首歌都来自 TI 数字信号处理器 (DSP) 及模拟技术的神奇力量。 网址：https://www.doczj.com/doc/f04001382.html, 意法半导体（ST） LOGO： 意法半导体（ST）集团于1987年6月成立，是由意大利的SGS微电子公司和法国Thomson半导体公司合并而成。1998年5月，SGS-THOMSON Microelectroni cs将公司名称改为意法半导体有限公司 意法半导体是世界最大的半导体公司之一，2006年全年收入98.5亿美元，2007年前半年公司收入46.9亿美元。 公司销售收入在半导体工业五大高速增长市场之间分布均衡（五大市场占2007年销售收入的百分比）：通信（35%），消费（17%），计算机（16%），汽车（16%），工业（16%）。 据最新的工业统计数据，意法半导体是全球第五大半导体厂商，在很多市场居世界领先水平。例如，意法半导体是世界第一大专用模拟芯片和电源转换芯片制造商，世界第一大工业半导体和机顶盒芯片供应商，而且在分立器件、手机相机模块和车用集成电路领域居世界前列。 网址：https://www.doczj.com/doc/f04001382.html,
纯化水 Chunhuashui Purified Water H 2O 18.02 本品为饮用水经蒸馏法、离子交换法、反渗透法或其他适宜的方法制得的制药用水，不含任何添加剂。 【性状】本品为无色的澄清液体；无臭。 【检査】酸碱度取本品10ml，加甲基红指示液2滴，不得显红色；另取10ml，加溴麝香草酚蓝指示液5滴，不得显蓝色。 硝酸盐取本品5ml置试管中，于冰浴中冷却，加10%氯化钾溶液0.4ml与0.1%二苯胺硫酸溶液0.1ml，摇匀，缓缓滴加硫酸5ml,摇匀，将试管于50°C水浴中放置15分钟，溶液产生的蓝色与标准硝酸盐溶液[取硝酸钾0.163g，加水溶解并稀释至100ml，摇匀，精密量取1ml ,加水稀释成100ml，再精密量取10ml，加水稀释成100ml，摇匀，即得（每lml 相当于1吨NO 3)]0.3ml，加无硝酸盐的水4.7ml，用同一方法处理后纯化水的颜色比较，不得更深(0.000006%)。 亚硝酸盐取本品10ml，置纳氏管中，加对氨基苯磺酰胺的稀盐酸溶液（1→100）1ml 与盐酸萘乙二胺溶液（0.1→100）ml，产生的粉红色，与标准亚硝酸盐溶液[取亚硝酸钠0.750g(按干燥品计算），加水溶解，稀释至100ml，摇匀，精密量取1ml，加水稀释成100ml，摇匀，再精密量取1ml，加水稀释成50ml，摇匀，即得（每1ml相当于1叫NO2)]0.2ml，加无亚硝酸盐的水9.8ml，用同一方法处理后的颜色比较，不得更深（0.000002%)。 氨取本品50ml，加碱性碘化汞钾试液2ml，放置15分钟；如显色，与氯化铵溶液（取氯化铵31.5mg，加无氨水适量使溶解并稀释成1000ml)1.5ml，加无氨水48ml与碱性碘化汞钾试液2ml制成的对照液比较，不得更深(0.00003%)。 电导率应符合规定（通则0681)。 总有机碳不得过0.50mg/L(通则0682)。 易氧化物取本品100ml，加稀硫酸10ml，煮沸后，加高锰酸钾滴定液(0.02mol/L)0.1ml，再煮沸10分钟，粉红色不得完全消失。 以上总有机碳和易氧化物两项可选做一项。 不挥发物取本品100ml，置105℃恒重的蒸发皿中，在水浴上蒸干，并在105°C干燥至恒重，遗留残渣不得过1mg。
[2011-11-09] 全球10大半导体厂商排名及简介 全球10大半导体厂商排名: 1.英特尔(Intel) 2.三星(Samsung) 3.德州仪器(TI) 4.东芝(Toshiba) 5.台积电(TSMC) 6.意法半导体会(ST) 7.瑞萨科技(Renesas) 8.海力士(Hynix) 9.索尼(Sony) 10.高通(Qualcomm） 1.美国英特尔（Intel）公司，以生产CPU芯片闻名于世！ 2.三星(Samsung)电子公司成立于1969年，初期主要生产家用电子产品，如电视机和录像机等。七十年代始进入国际市场，逐渐发展成为全球五大电 子公司之一，产品也由家电扩展到计算机、通讯等诸多方面。九十年代由 于经济方面的原因，三星公司进行了大规模的战略重组。1978年，三星半 导体从三星电子公司分立出来而成为独立的实体，1983年起随着成功发展 了64K DRAM超大规模集成电路，从此在单一家电类半导体产品基础上发展了许多新的半导体产品，逐渐成为全球领先的半导体厂商。它的半导体产 品主要有DRAM、SRAM、闪速存储器、ASIC、CPU和TFF-LCD板等等。 3.德州仪器(TI)公司总部位于美国德克萨斯州达拉斯城，是一家全球性的 半导体公司，是世界领先的数字信号处理和模拟技术的设计商、供应商， 是推动电子数字化进程的引擎。主要IC产品有：数字信号处理器、模拟和混合信号器件、数字逻辑、ASIC、微控制器、语音和图形处理器、可编程 逻辑、军用器件等。 4.东芝(Toshiba)在国际市场上盛名远扬，家喻户晓。在日本之外，东芝拥 有100多家子公司和协作公司的庞大全球网络，仅海外子公司便拥有40,000 多名雇员，他们遍及全球各地，从事着从科研到采购、生产、销售以及市 场调研等工作。分布在世界各地的39个厂家构成东芝的生产网络，制造品种繁多的产品，包括最先进的半导体元件、显象管、彩色电视机、移动式 计算个人电脑、光?磁存储、消耗品及工业用发电机和变电装置。这些技术和设备均处世界领先地位的东芝生产厂家,强有力地保障着公司技术和整体 能力的发展，推动着电子工业的进步；同时也提供了更多的就业机会，进 一步促进了当地经济的蓬勃发展。 5.台积电(TSMC)成立于1987年，是全球最大的专业集成电路制造服务公司。身为专业集成电路制造服务业的创始者与领导者，TSMC在提供先进晶圆制程技术与最佳的制造效率上已建立声誉。自创立开始，TSMC即持续提供客户最先进的技术；2006年的总产能超过七百万片约当八寸晶圆，全年营 收约占专业集成电路制造服务领域的百分之五十。
世界主要国家和地区微电子技术 黄艳芳 1 美国 1.1 军用起家，以军促民，军民一体化 美国是世界微电子技术第一强国，也是军用微电子技术的霸主。美国的微电子技术是靠军用起家的，为发展微电子技术，美国政府通过军方采取了有力的措施，并由军方组织调研、制定战略，以及组织实施了一系列发展计划。 20世纪80年代到90年代，美国军方先后提出和组织实施了超高速集成电路（VHSIC）和微波毫米波单片集成电路（MIMIC）计划以及微波和模拟前端技术计划（MAFET）。 通过这些计划的实施，开发出许多先进的军用微电子产品，并顺利地应用于军用电子装备和武器系统，它对提高电子装备和武器系统的性能、效能和可靠性都产生了重大影响，同时对整个电子技术的发展作出了重大贡献。 美国一向重视基础研究和应用技术的开发，但对大规模、低成本生产技术的开发重视不足，导致在20世纪80年代中期美国的半导体市场优势逐渐让位于日本，在技术上的优势也发生动摇。为了重振半导体这一战略工业，1987年，在美国半导体工业协会（SIA）提议下成立了由政府资助和参与的半导体制造联合体SEMATECHSEMATECH计划是一项军民一体的半导体生产技术发展计划，目标是致力于开发先进的半导体制造技术、材料和生产设备，以保证美国半导体工业在制造技术方面的世界领先地位。联合体由14家半导体企业和系统公司参加，由工业界经营管理，由国防部DARPA负责监督。每年研发费2亿美元，政府和产业各负担一半。整个SEMATECH计划原定用6年的时间，分3个阶段完成，分别以0.8、0.5和0.35μm工艺技术和4M、16M、64M DRAM等代表产品为目标。SEMATECH 于1992年按时达到了它的总目标：完全用美国设备制造出最新技术水平的半导体器件，使美国半导体制造技术能力大为增强，其世界市场份额于1993年又恢复到领先的地位。1992年SEMATECH达到全部目标后，大多数成员公司和DARPA 都决定继续保留联合体。因此，SEMATECH联合体至今仍存在，并继续开发先进的微电子技术。DARPA建议政府继续支持它的研究开发工作，还建议从1993财年开始把原来的专款改为项目款，每年为微电子制造研究开发项目拨款8000万美元，以满足国防部建立高性能信息系统的需要。由此可见，美国军方的支持对微电子工业的形成和发展，并使美国的微电子技术保持领先地位起到了举足轻重的作用。 1.2 完善的战略研究与实施体系 以军促民，军民一体化发展战略模式的成功，在相当大的程度上还得益于美国有一个较为完整的战略研究与实施体系。这个体系从政府部门延伸到非政府部门，由军方延伸到民间，有组织牵头机构，有咨询参谋机构，有实施执行机构，还有监督审计机构，这些机构相互配合，形成合力，共同推进美国的微电子工业的发展。 （1）独立的军用微电子体系，重大项目由国防部直接牵头、管理美国微电子技术的发展是从军用起家，然而，到20世纪80年代，民用电子系统已开始大量使用集成电路（IC），军品比重下降到8%，但是，为适应国防需求的快速变化以
CJ 94-1999 饮用净水水质标准CJ 94-1999 1主题内容与适用范畴 本标准规定了水源水中百菌清的最高容许浓度。 本标准适用于生产和使用百菌清周围的生活饮用水源水，以及大面积喷洒百菌清森林地区的生活饮用水源水。 2标准的限值 水源水中百菌清卫生标准（最高容许浓度）为0.01mg/L。 3监测检验方法 本标准采纳气相色谱法监测水源水中百菌清，见附录A（补充件）。 4标准的监督执行 各级卫生防疫站或各级环境卫生监测站负责监督本标准的执行。 附录 A 气相色谱法 （补充件） A1原理 百菌清农药在一定的色谱条件下，保留值不变，而出峰高度与该样品中含量成正比，因此以保留值为定性指标，以峰高为定量依据，运算出样品中百菌清农药的含量。 A2仪器 A2.1100型气相色谱仪。 A2.2氢焰离子化鉴定器。 A2.3KD浓缩器。 A2.4?1.5cm具塞、具玻璃砂芯层析柱。
A3试剂 A3.1苯（分析纯）。 A3.2环已烷（分析纯）。 A3.3硅藻土。 A3.4弗罗里硅土。 A3.5中性氧化铝(60～80目)。 A3.6无水硫酸钠。 A3.7氟橡胶Ⅱ。 A3.81，2－丙二醇已二酸酯。 A3.9上试101白色担体(60～80目)。 A3.10百菌纯洁品。 A4采样 A4.1采样用容器：5kg白色塑料壶。 A4.2取水样5L。 A5分析步骤 A5.1样品萃取：取水样1L，于分液漏斗中，分两次提取，每次加入苯50 mL，剧烈振摇150次，静置分层后，分出苯层，再于水层中加苯50mL，振摇150次，合并苯溶剂，于KD浓缩器中浓缩至约10mL，再进行纯化处理，如无浑浊现象，可连续浓缩至1mL。 A5.2纯化：将浓缩至约10mL萃取液，倒入装有吸附剂的层析柱中（柱中自下而上依次装入硫酸钠2cm，中性氧化铝2cm，弗罗里硅土2cm，酸性硅藻土［硫酸：发烟硫酸：硅藻土＝1:1:7(V:V:W)]2cm，无水硫酸钠2cm，并用淋洗剂（苯：环已烷＝8:2）淋洗后使用）。待萃取液液面降至上层无水硫酸钠层时，再用100mL淋洗剂分三次淋洗，收集淋洗液，同置于KD浓缩器中浓缩定容至1mL。 A5.3气相色谱分析 A5.3.1填充色谱柱：采纳1m不锈钢柱，内填充经分层涂布的上试101白色担体［第一层为5%(W/W)的氟橡胶Ⅱ丙酮溶液，第二层为4%1，2－丙二醇已二酸酯丙酮溶液］。装柱后于层析室温度180°C老化处理8h后使用。
德州仪器 (TI LOGO ： 德州仪器（Texas Instruments），简称TI ，是全球领先的半导体公司，为现实世界的信号处理提供创新的数字信号处理(DSP及模拟器件技术。除半导体业务外，还提供包括传感与控制、教育产品和数字光源处理解决方案。TI 总部位于美国得克萨斯州的达拉斯，并在25多个国家设有制造、设计或销售机构。 德州仪器 (TI 是全球领先的数字信号处理与模拟技术半导体供应商，亦是推动因特网时代不断发展的半导体引擎。 ----作为实时技术的领导者，TI 正在快速发展，在无线与宽带接入等大型市场及数码相机和数字音频等新兴市场方面，TI 凭借性能卓越的半导体解决方案不断推动着因特网时代前进的步伐！ ----TI 预想未来世界的方方面面都渗透着 TI 产品的点点滴滴，您的每个电话、每次上网、拍的每张照片、听的每首歌都来自 TI 数字信号处理器 (DSP 及模拟技术的神奇力量。 网址：https://www.doczj.com/doc/f04001382.html, 意法半导体（ST ）
LOGO ： 意法半导体（ST ）集团于1987年6月成立，是由意大利的SGS 微电子公司和法国Thomson 半导体公司合并而成。1998年5月，SGS-THOMSON Microelectronics 将公司名称改为意法半导体有限公司 意法半导体是世界最大的半导体公司之一，2006年全年收入98.5亿美元，2007年前半年公司收入46.9亿美元。 公司销售收入在半导体工业五大高速增长市场之间分布均衡（五大市场占2007年销售收入的百分比）：通信（35%），消费（17%），计算机（16%），汽车（16%），工业（16%）。 据最新的工业统计数据，意法半导体是全球第五大半导体厂商，在很多市场居世界领先水平。例如，意法半导体是世界第一大专用模拟芯片和电源转换芯片制造商，世界第一大工业半导体和机顶盒芯片供应商，而且在分立器件、手机相机模块和车用集成电路领域居世界前列。 网址：https://www.doczj.com/doc/f04001382.html, 飞利浦半导体（PHILIPS ）
高纯水设备的本质介绍分析资料下载 一、高纯水设备(EDI)概述： EDI高纯水设备作为制取超纯水的设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，可以制取出高达10-18.2MΩ.CM。因此广泛用于微电子工业，半导体工业，发电工业，制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水，以及其它应用高纯水。 该技术资料由莱特莱德长沙高纯水设备厂家提供 二、高纯水设备的本质及原理
连续电除盐(EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization),是利用混和离子交换树脂吸附给水中 的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。这一过程离子交换树脂是电连续再生的，因此不需要使用酸和碱对之再生。这一新技术可以替代传统的离子交换装置，生产出高达18M-CM的超纯水。又可以比较清晰地描述如下：EDI是利用阴、阳离子膜，采用对称堆放的形式，在阴、阳离子膜中间夹着阴、阳离子树脂，分别在直流电压的作用下，进行阴、阳离子交换。而同时在电压梯度的作用下，水会发生电解产生大量H+和OH-，这些H+和OH-对离子膜中间的阴、阳离子不断地进行了再生。由于EDI不停进行交换——再生，使得纯水度越来越高，所以，轻而易举的产生了高纯度的高纯水。 三、EDI高纯水设备的组成部分 1、采用美国进口Electropure XL-400模块5块; 2、美国Hanna电阻率、电导率在线监侧仪表一组; 3、电源控制系统：主要电器元件为施乃得、欧姆龙及国产优质器件，采用PLC控制，电动球阀、施乃得电器元件; 四、EDI高纯水设备性能优势：
纯水水质指标,超纯水水质指标 水质指标推荐使用行业 电导率≤10μS/CM 动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净纯水用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电导率≤4μS/CM 电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化纯水、白酒生产用纯纯水、啤酒生产用纯纯水、民用饮用纯净纯水用纯水、普通化妆品生产用纯水、血透纯纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率5~10MΩ.CM 锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率:10~15MΩ.CM 动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥15 MΩ.CM 医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯纯水、尖端磁性材料用纯纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥17 MΩ.CM 磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥18 MΩ.CM ITO 导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水。 超纯水的PH值及Cao、Mgo化验指标 我国电子工业部高纯水水质试行标准 化学指标单位：μg/L 序号水质项目一级高纯水指标二级高纯水指标 1 电阻率（25℃）MΩ·cm≥15 ≥10 2 电导率，μs/cm 0.05 0.1 3 PH值6.8～7.2 6.6～7.4 4 细菌总数，个/mL ＜3 ＜9 5 微粒（直径＞0.5μm，粒/mL）＜150 ＜300 6 二氧化硅＜10 ＜20 7 有机物（以COD计）＜0.3 ＜0.5 8 钠Na ＜0.5 ＜2
全球著名电子厂商商标https://www.doczj.com/doc/f04001382.html, 简介:爱特美尔公司1984年成立，专业设计、生产、销售一系列高性能半导体器件，包括逻辑器件、非易失存储器、混合信号IC 和射频IC。也是为数不多的能够在一个芯片上集成高密度存储、逻辑和模拟功能的厂家之一。公司采用最先进的晶片工艺制造芯片，包括BiCMOS、CMOS和新兴的SiGe技术。爱特美尔公司总部设在美国加州圣约瑟市，在美国、欧洲有多家制造工厂，其中包括设在法国的世界一流的8英寸、0.25微米晶片制造厂。公司在全球设立了多个办事处。此外，公司的产品还通过遍布全球的授权销售代... 网址:https://www.doczj.com/doc/f04001382.html, 简介:美国国家半导体公司成立于1959年，是著名的模拟和混合信号半导体制造商，也是半导体工业的先驱。公司总部设在美国加州。国家半导体公司致力于利用一流的模拟和数字技术为信息时代创造高集成度的解决方案。它的生产网点遍布全球，在美国德克萨斯州、缅因州和苏格兰建有晶片制造厂，在马来西亚和新加坡建有检验中心和装配厂，共有员工大约11,000名。该公司的产品已被广泛应用于计算机、计算机外围设备、通讯以及消费类电子产品。主要生产的产品有放大器、比较器、显示电路、接口电路、传感器等通用模拟... 网址:https://www.doczj.com/doc/f04001382.html, 简介:仙童半导体公司的历史可以追溯至1957年，当时，Sherman Mills Fairchild，仙童公司的创立者，组织了一些科学家在美国加州研究晶体管制造新工艺，其中有Robert Nevce和Gordon Moore,就是现在Intel公司的创立者。1959年研究成功平面工艺制造技术，从此，平面技术成为晶体管制造的基本方法。多年来，仙童公司总是以不断的技术革新而赢得世界的目光，从工业领先技术如FAST&8432、先进肖特基TTL逻辑系列到今天的ASSP EEPROM、AC... 网址:https://www.doczj.com/doc/f04001382.html,/ 安森美半导体(ON Semiconductor，美国纳斯达克上市代号：ONNN)拥有跨越全球的物流网络和强大的产品系列，是电源、汽车、通信、计算机、消费产品、医疗、工业、手机和军事/航空等市场客户之首选高能效电源解决方案供应商。公司广泛的产品系列包括电源、模拟、数字信号处理器、混合信号、先进逻辑、时钟管理和标准元器件。公司的全球总部位于美国亚利桑那菲尼克斯，并在北美、欧洲和亚太地区等主要市场运营包括制造厂、销售办事处和设计中心的强大网络。 2007年预计22亿美元的收入 模拟及混合信号技术与设计的领先供应商 电源管理业界的领先供应商 汽车产品领先供应商 医疗、军事/航空和工业等终端市场应用的领先定制产品 世界级、高产量、高性价比的制造 汽车、计算、消费和通信等终端市场应用的领先标准产品 简介:JRC公司成立于1915年，是全球著名的射频和无线电技术先驱，也是全球最大的双极型和CMOS线性IC制造商之一。公司总部设在日本东京，有员工约3800人。生产的产品包括单片IC、微波IC、混合IC、高密度表面贴装器件、SAW滤波器等。New JRC(New Japan Radio Company)是1959年由JRC和Raytheon Company共同投资成立，主要生产、销售雷达和卫星通讯用微波产品和半导体器件，如运算放大器、手持电话LCD控制器及驱动IC等。 网址:https://www.doczj.com/doc/f04001382.html,
简述电子超纯水设备工艺步骤内容详解 超纯水设备可以将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。设备产水电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。集成电路工业中超纯水设备用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水设备产出的超纯水。 依各种原水水质和用户要求的不同，超纯水设备的工艺大体可分为预处理、脱盐和精处理三步。 预处理包括砂滤、多介质过滤、软化、加氯、调节pH、活性碳过滤、脱气等。过滤可除去 1～20微米大小的颗粒，软化和调节pH可防止反渗透膜结垢，加氯是杀菌。活性碳过滤是除去有机物和自由氯，脱气是清除溶于水中的CO2等。 脱盐包括反渗透、离子交换。反渗透是渗透现象的逆过程,在浓溶液上加压力,使溶剂从浓溶液一侧通过半透膜向稀溶液一侧反向渗透，脱盐可达98%，并能除去99%的细菌颗粒和溶解在水中的有机物。离子交换的原理是当水通过阳离子交换树脂时，水中的阳离子被阳离子交换树脂吸附，树脂上可交换的阳离子如
H离子被置换到水中，并和水中的阴离子结合成相应的无机酸，如超纯水： 这种含有无机酸的水，当下一步通过阴离子交换树脂层时，水中的阴离子被阴离子交换树脂吸附。树脂上可交换的阴离子如OH离子被置换到水中,并与水中的H离子结合成水，即超纯水精处理包括紫外线杀菌、终端膜过滤和超滤。紫外线消毒器紫外线杀菌是因生物体的核酸吸收紫外线光的能量而改变核酸 自身结构,破坏核酸功能而使细菌死亡。杀菌最强的光谱波长为2600埃。各种膜过滤能除掉直径大于 0.2微米的颗粒，但对于清除有机物则不如反渗透和超滤有效。反渗透设备超滤是把各种选择性的分子分离。在超滤过程中，水在压力下流过一个卷式或中空纤维膜棒。膜孔径在10～200埃范围内,薄膜厚度为0.1～0.5微米,附在一个中孔的纤维棒内壁上，超滤能除去细菌和 0.05微米的粒子。 电子工业超纯水概述 超纯水设备广泛应用于半导体、花式棉花糖集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。反渗透设备目前我国电子工业
我国纯净水指标以及水质标准 我国的水资源比较丰富，出水量比较大，在我国的饮用水标准比较严格。并严格的规定了饮用水的各项标准。 水的硬度标准 未经过处理的水中含有比较多的金属离子和杂质。通常把水中的这些金属离子的浓度成为水的硬度。水中含有的金属离子主要是钙离子和镁离子。在水加热的过程中，蒸发浓缩，会形成白色的水垢。原水中存在着碳酸根离子(Co32-)、碳酸氢根离子(HCO3-)、硫酸根离子(SO42-)、氯离子(Cl-)、等负离子，这些负离子会与水中正离子钙、镁离子发生反应产生硝酸盐等有害物质。 水的电阻值 水有一定的导电性，水的电阻值与导电性成反比，电阻值越高导电性能要差，相反，电阻值低导电性能好。水的电阻值与水中所含有的盐、离子浓度、离子的运动有很大的关系。在经过处理的水中，以超纯水电阻最大，其中所含有的离子非常少，纯净水其次。矿物质水含有丰富的矿物质元素，因此导电性最好啊。 水的电导率 水的电导率采用公式：S=1/R，S=(1/ρ)?(F/L)来计算，1/ρ就称为电导率。水中含有一定量的盐，在通 电的情况下带电的离子就会产生移动，负离子向阳极运动，阳离子向阴极运动，这就形成了水的导电。电导率就是水的导电能力的强度。电导率反映了一种税的含盐量情况。 硬度的单位常用的有mmol/L或mg/L。过去常用的当量浓度N已停用。换算时，1N=0.5mol/L
由于硬度并非是由单一的金属离子或盐类形成的，因此，为了有一个统一的比较标准，有必要换算为另一 种盐类。通常用Ca0或者是CaCO3的质量浓度来表示。当硬度为0.5mmol/L时，等于28mg/L的CaO，或 等于50mg/L的CaCO3。此外，各国也有的用德国度、法国度来表示硬度。1德国度等于10mg/L的CaO，1 法国度等于10mg/L的CaCO3。0.5mmol/L相当于208德国度、5.0法国度。常用硬度单位之间的关系如下 表： 硬度单位mmol/L mN 德国度法国度CaO(mg/L) CaCO3/(mg/ mmol/L 1 2 5.6077 10.0086 56.077 100.086 mN 0.5v 1 2.8039 5.0043 28.039 50.043 德国度0.17833 0.35665 1 1.7848 10.0000 17.848 法国度0.09991 0.19983 0.5603 1 5.6029 10.0000 CaO(mg/L) 0.017833 0.025665 0.1000 0.17848 1 1.7848 CaCO3/(mg/L) 0.009991 0.01998 0.05603 0.1000 0.5603 水的pH值 水的pH值是表示水中氢离子浓度的负对数，表示为：pH=-lg［H+］ pH值有时也称为氢离子指数。由水 中氢离子的浓度可以知道水溶液是呈碱性、中性或是酸性。由于氢离子浓度的数值往往很小，在应用上很 不方便，所以就用pH值，这一概念来作为水溶液酸、碱性的判断指标。而且，氢离子浓度的负对数值就 恰能表现出酸性、碱性的变化幅度的数量及的大小，这样应用起来就十分方便。并因此得到： (1)中性水溶液，pH=-lg［H+］=-lg10-7=7 (2)酸性水溶液，pH<7，pH值越小，表示酸性越强 (3)碱性水溶液，pH>7，pH值越大，表示酸性越强 如果按pH值(酸、碱性)将水质进一步详细分类，可以得到： (1)强酸性水溶液，pH<5.0