硅片行业术语大全(中英文对照+A-H)
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半导体行业英文术语English:Some common terms in the semiconductor industry include:1. Integrated Circuit (IC): A small electronic device made out of a semiconductor material that can perform an extensive range of functions.2. Semiconductor manufacturing: The process of creating integrated circuits and semiconductor devices, including design, fabrication, and packaging.3. Wafer: A thin slice of semiconductor material used as the substrate for the fabrication of integrated circuits.4. Photolithography: A process used to transfer circuit patterns onto the wafer surface using light and photoresist materials.5. Die: A single piece of an integrated circuit, typically cut from a wafer after fabrication and packaging.6. Yield: The percentage of functional and operational semiconductor devices produced during the manufacturing process.7. Moore's Law: The observation that the number of transistors in a dense integrated circuit doubles approximately every two years, leading to exponential growth in processing power.8. Quantum tunneling: A phenomenon in which electrons penetrate through a potential barrier they classically shouldn't be able to cross, crucial for the operation of semiconductor devices.中文翻译:半导体行业的一些常见术语包括:1. 集成电路(IC):由半导体材料制成的小型电子器件,可执行广泛的功能。
1. acceptance testing (WAT:wafer acceptance testing)2。
acceptor: 受主,如B,掺入Si中需要接受电子3。
ACCESS:一个EDA(Engineering Data Analysis)系统4。
Acid:酸5. Active device:有源器件,如MOS FET(非线性,可以对信号放大)6。
Align mark(key):对位标记7。
Alloy:合金8。
Aluminum:铝9. Ammonia:氨水10。
Ammonium fluoride:NH4F11。
Ammonium hydroxide:NH4OH12。
Amorphous silicon:α-Si,非晶硅(不是多晶硅)13。
Analog:模拟的14。
Angstrom:A(1E—10m)埃15. Anisotropic:各向异性(如POLY ETCH)16。
AQL(Acceptance Quality Level):接受质量标准,在一定采样下,可以95%置信度通过质量标准(不同于可靠性,可靠性要求一定时间后的失效率)17。
ARC(Antireflective coating):抗反射层(用于METAL等层的光刻)18. Antimony(Sb)锑19. Argon(Ar)氩20. Arsenic(As)砷21. Arsenic trioxide(As2O3)三氧化二砷22。
Arsine(AsH3)23。
Asher:去胶机24. Aspect ration:形貌比(ETCH中的深度、宽度比)25。
Autodoping:自搀杂(外延时SUB的浓度高,导致有杂质蒸发到环境中后,又回掺到外延层)26。
Back end:后段(CONTACT以后、PCM测试前)27。
Baseline:标准流程28. Benchmark:基准29。
Bipolar:双极30. Boat:扩散用(石英)舟31. CD:(Critical Dimension)临界(关键)尺寸。
金属前介质层(PMD)金属间介质层(IMD)W塞(W PLUG)钝化层(Passivation)acceptor 受主,如B,掺入Si中需要接受电子Acid:酸actuator激励ADI After develop inspection显影后检视AEI After etching inspection蚀科后检查AFM atomic force microscopy 原子力显微ALD atomic layer deposition 原子层淀积Align mark(key):对位标记Alignment 排成一直线,对平Alloy:合金Aluminum:铝Ammonia:氨水Ammonium fluoride:NHFAmmonium hydroxide:NHOHAmorphous silicon:α-Si,非晶硅(不是多晶硅) amplifier 放大器AMU 原子质量数Analog:模拟的analyzer magnet 磁分析器Angstrom:A(E-m)埃Anisotropic:各向异性(如POLY ETCH)Antimony(Sb)锑arc chamber 起弧室ARC: anti-reflect coating 防反射层Argon(Ar)氩Arsenic trioxide(AsO)三氧化二砷Arsenic(As)砷Arsine(AsH)ASHER 一种干法刻蚀方式Asher:去胶机ASI 光阻去除后检查ASIC 特定用途集成电路Aspect ration:形貌比(ETCH中的深度、宽度比) ATE 自动检测设备Back end:后段(CONTACT以后、PCM测试前)Backside Etch 背面蚀刻Backside 晶片背面Baseline:标准流程Beam-Current 电子束电流Benchmark:基准BGA ball grid array 高脚封装Bipolar:双极Boat:扩散用(石英)舟Cassette 装晶片的晶舟CD:critical dimension 关键性尺寸,临界尺寸Chamber 反应室Chart 图表Child lot 子批chiller 制冷机Chip (die) 晶粒Chip:碎片或芯片。
太阳能产业行业术语光伏产业链PV industry chain多晶硅原料-----单晶硅棒----单晶硅片----晶体硅电池----电池封装----系统集成----工程安装polycrystalline silicon raw material ---mono-crystalline silicon ingot---mono-crystalline silicon wafer---crystalline silicon cell—cells encapsulation---system integration---construction installation单词:1.单晶硅片mono-crystalline silicon wafer多晶硅片polycrystalline silicon wafer晶向orientation少数载流子寿命lifetime导电类型conductivity type位错密度dislocation硅单晶片厚度thickness硅单晶片的弯曲度surface camber准方单晶硅片: quasi-square mono-crystalline silicon wafer2.太阳电池solar cell3.薄膜太阳电池film solar cell4.光电转换photo-electricity conversion5.太阳电池组件solar module多晶硅太阳电池组件polycrystalline solar module单晶硅太阳电池组件mono-crystalline solar module6.太阳能户用系统solar home system(分为:太阳能直流户用系统;太阳能交流户用系统;太阳能交直流户用系统)7.太阳能电站solar power station(分为:离网型太阳能电站off-grid solar power station ;并网型太阳能电站grid-connected solar power station )8.太阳能热水器solar water heater9.太阳能热水系统:solar heating system10.太阳能直流式热水系统: solar direct heating system11.太阳能强迫循环热水系统solar compelling cycle heating system12.太阳能自然循环热水系统solar spontaneously cycle heating system13.真空管太阳能集热器vacuum tube solar centralized heating system14.平板型太阳能集热器flat type solar centralized heating system15.全玻璃真空太阳能集热器full-glass vacuum solar centralizedheating system16.热管式真空管太阳集热器heat-tube vacuum solar centralizedheating system17.采光面积: lighting area18.太阳能幅照度solar radiant intensity19.太阳能控制器:solar controller20.太阳能逆变器:solar inverter21.太阳能通讯基站solar telecommunication power systems22.石油和天然气管道太阳能阴极保护电站:solar power stations forcathode protection of the oil and gas feeding pipes23.太阳能电池方阵solar array24.太阳能通讯电源solar communication power station25.太阳能自动跟踪装置solar automatic tracker26.太阳能移动电源车(站)solar mobile electrical vehicle (station)27.光伏水泵solar pump28.太阳能杨水系统solar pumping system29.光—网---柴互补系统complementary system for solar –grid-dieseloil30.风---光互补系统complementary system for solar - wind31.太阳能交通信号灯solar traffic signal light32.太阳能交通警示标志solar traffic warning symbol33.太阳能道钉solar road mark34.太阳能庭院灯solar garden light35.太阳能路灯solar street light36.太阳能草坪灯solar lawn light37.太阳能广告牌solar billboard38.太阳能电话亭solar telephone booth短语:太阳能扬水和照明综合应用系统:the comprehensive utilization system of solar pumping and lighting变频调速交流异步电机:high-efficient frequency conversion alternating asynchronous motors(这个产品不是太阳能产品)送电到乡: Power Supply to Township丝绸之路光明工程:Silk Road Brightness Project太阳能亮化工程solar brightness project太阳能与建筑一体化integrate solar energy with building。
MFG 常用英文单字Semiconductor半导体导体、绝缘体和半导体主要依据导电系数的大小,决定了电子的移动速度。
导体:金、银、铜、铁、人、水……导电系数大,传导容易绝缘体:塑料、木头、皮革、纸……导电系数小、传导不容易半导体:硅中加锗、砷、镓、磷……平时不导电加特定电压后导电Wafer 芯片或晶圆:原意为法国的松饼,饼干上有格子状的饰纹,与FAB内生产的芯片图形类似.Lot 批;一批芯片中最多可以有25片,最少可以只有一片。
ID Identification的缩写.用以辨识各个独立的个体,就像公司内每一个人有自己的识别证。
Wafer ID 每一片芯片有自己的芯片刻号,叫Wafer ID.Lot ID 每一批芯片有自己的批号,叫Lot ID。
Part ID 各个独立的批号可以共享一个型号,叫Part ID。
WIP Work In Process,在制品。
从芯片投入到芯片产品,FAB内各站积存了相当数量的芯片,统称为FAB内的WIP .一整个制程又可细分为数百个Stage和Step,每一个Stage所堆积的芯片,称为Stage WIP。
Lot Priority 每一批产品在加工的过程中在WIP中被选择进机台的优先级。
Super Hot Run的优先级为1,视为等级最高,必要时,当Lot在上一站加工时,本站便要空着机台等待Super Hot Run。
Hot Run的优先级为2,紧急程度比Super Hot Run次一级.Normal的优先级为3,视为正常的等级,按正常的派货原则,或视常班向生产指令而定.Cycle time 生产周期,FAB Cycle Time 定义为:从芯片投入到芯片产生的这一段时间。
Stage Cycle Time:Lot从进站等候开始到当站加工后出货时间点截止。
Spec。
规格Specification的缩写.产品在机台加工过程中,每一站均设定规格。
机台加工后,产品或控片经由量测机台量测,该产品加工后,是否在规格内。
太阳电池 solar cell通常是指将太阳光能直接转换成电能的一种器件。
硅太阳电池silicon solar cell硅太阳电池是以硅为基体材料的太阳电池。
单晶硅太阳电池single crystalline silicon solar cell单晶硅太阳电池是以单晶硅为基体材料的太阳电池。
非晶硅太阳电池(a—si太阳电池)amorphous silicon solar cell用非晶硅材料及其合金制造的太阳电池称为非晶硅太阳电池,亦称无定形硅太阳电池,简称a—si太阳电池。
多晶硅太阳电池polycrystalline silicon solar cell多晶硅太阳电池是以多晶硅为基体材料的太阳电池。
聚光太阳电池组件photovoltaic concentrator module系指组成聚光太阳电池,方阵的中间组合体,由聚光器、太阳电池、散热器、互连引线和壳体等组成。
电池温度cell temperature系指太阳电池中P-n结的温度。
太阳电池组件表面温度solar cell module surface temperature系指太阳电池组件背表面的温度。
大气质量(AM)Air Mass (AM)直射阳光光束透过大气层所通过的路程,以直射太阳光束从天顶到达海平面所通过的路程的倍数来表示。
太阳高度角 solar 太阳高度角 solar elevation angle太阳光线与观测点处水平面的夹角,称为该观测点的太阳高度角。
辐照度 irradiance系指照射到单位表面积上的辐射功率(W/m2)。
总辐照(总的太阳辐照)total irradiation (total insolation)在一段规定的时间内,(根据具体情况而定为每小时,每天、每周、每月、每年)照射到某个倾斜表面的单位面积上的太阳辐照。
直射辐照度direct irradiance照射到单位面积上的,来自太阳圆盘及其周围对照射点所张的圆锥半顶角为8o的天空辐射功率。
硅片行业术语大全(中英文对照 I-Z)Ingot - A cylindrical solid made of polycrystalline or single crystal silicon from which wafer s are cut.晶锭 - 由多晶或单晶形成的圆柱体,晶圆片由此切割而成。
Laser Light-Scattering Event - A signal pulse that locates surface imperfections on a wafer.激光散射 - 由晶圆片表面缺陷引起的脉冲信号。
Lay - The main direction of surface texture on a wafer.层 - 晶圆片表面结构的主要方向。
Light Point Defect (LPD) (Not preferred; see localized light-scatterer) 光点缺陷(LPD) (不推荐使用,参见“局部光散射”)Lithography - The process used to transfer patterns onto wafer s.光刻 - 从掩膜到圆片转移的过程。
Localized Light-Scatterer - One feature on the surface of a wafer, such as a pit or a scratch that scatters light. It is also called a light point defect.局部光散射 - 晶圆片表面特征,例如小坑或擦伤导致光线散射,也称为光点缺陷。
Lot - Wafer s of similar sizes and characteristics placed together in a shipment.批次 - 具有相似尺寸和特性的晶圆片一并放置在一个载片器内。
太阳电池 solar cell通常是指将太阳光能直接转换成电能的一种器件。
硅太阳电池silicon solar cell硅太阳电池是以硅为基体材料的太阳电池。
单晶硅太阳电池single crystalline silicon solar cell单晶硅太阳电池是以单晶硅为基体材料的太阳电池。
非晶硅太阳电池(a—si太阳电池)amorphous silicon solar cell用非晶硅材料及其合金制造的太阳电池称为非晶硅太阳电池,亦称无定形硅太阳电池,简称a—si太阳电池。
多晶硅太阳电池polycrystalline silicon solar cell多晶硅太阳电池是以多晶硅为基体材料的太阳电池。
聚光太阳电池组件photovoltaic concentrator module系指组成聚光太阳电池,方阵的中间组合体,由聚光器、太阳电池、散热器、互连引线和壳体等组成。
电池温度cell temperature系指太阳电池中P-n结的温度。
太阳电池组件表面温度solar cell module surface temperature系指太阳电池组件背表面的温度。
大气质量(AM)Air Mass (AM)直射阳光光束透过大气层所通过的路程,以直射太阳光束从天顶到达海平面所通过的路程的倍数来表示。
太阳高度角 solar 太阳高度角 solar elevation angle太阳光线与观测点处水平面的夹角,称为该观测点的太阳高度角。
辐照度 irradiance系指照射到单位表面积上的辐射功率(W/m2)。
总辐照(总的太阳辐照)total irradiation (total insolation)在一段规定的时间内,(根据具体情况而定为每小时,每天、每周、每月、每年)照射到某个倾斜表面的单位面积上的太阳辐照。
直射辐照度direct irradiance照射到单位面积上的,来自太阳圆盘及其周围对照射点所张的圆锥半顶角为8o的天空辐射功率。
AA, Ampere的缩写, 安培a-Si:H, amorph silicon的缩写, 含氢的, 非结晶性硅.Absorption, 吸收.Absorption of the photons:光吸收;当能量大于禁带宽度的光子入射时,太阳电池内的电子能量从价带迁到导带,产生电子——空穴对的作用,称为光吸收。
Absorptionscoefficien t, 吸收系数, 吸收强度.AC, 交流电.Ah, 安培小时.Acceptor, 接收者, 在半导体中可以接收一个电子.Alternating current, 交流电,简称“交流. 一般指大小和方向随时间作周期性变化的电压或电流. 它的最基本的形式是正弦电流. 我国交流电供电的标准频率规定为50赫兹。
交流电随时间变化的形式可以是多种多样的。
不同变化形式的交流电其应用范围和产生的效果也是不同的。
以正弦交流电应用最为广泛,且其他非正弦交流电一般都可以经过数学处理后,化成为正弦交流电的迭加。
AM, air mass的缩写, 空气质量.直射阳光光束透过大气层所通过的路程,以直射太阳光束从天顶到达海平面所通过的路程的倍数来表示。
当大气压力P=1.013巴,天空无云时,海平面处的大气质量为1。
amorphous silicon solar cell:非晶硅太阳电池(a—si太阳电池)用非晶硅材料及其合金制造的太阳电池称为非晶硅太阳电池,亦称无定形硅太阳电池,简称a—si太阳电池。
Angle of inclination, 倾斜角,即电池板和水平方向的夹角,0-90度之间。
Anode, 阳极, 正极.BBack Surface Field, 缩写BSF, 在晶体太阳能电池板背部附加的电子层, 来提高电流值.Bandbreak, 在半导体中, 价带和导带之间的空隙,对于半导体的吸收特性有重要意义.Becquerel, Alexandre-Edmond, 法国物理学家, 在1839年发现了电池板效应.BSF, back surface field的缩写.Bypas-Diode, 与太阳能电池并联的二极管, 当一个太阳能电池被挡住, 其他太阳能电池产生的电流可以从它处通过.CCadmium-Tellurid, 缩写CdTe; 位于II/VI位的半导体, 带空隙值为1,45eV, 有很好的吸收性, 应用于超薄太阳能电池板, 或者是连接半导体.Cathode, 阴极,或负极,是在电池板电解液里的带负电的电极,是电池板电解液里带电粒子和导线里导电电子的过渡点。
硅片行业术语大全(中英文对照 A-H) Acceptor - An element, such as boron, indium, and gallium used to create a free hole in a semiconductor. The acceptor atoms are required to have one less valence electron than the semiconductor. 受主 - 一种用来在半导体中形成空穴的元素,比如硼、铟和镓。受主原子必须比半导体元素少一价电子 Alignment Precision - Displacement of patterns that occurs during the photolithography process. 套准精度 - 在光刻工艺中转移图形的精度。 Anisotropic - A process of etching that has very little or no undercutting 各向异性 - 在蚀刻过程中,只做少量或不做侧向凹刻。 Area Contamination - Any foreign particles or material that are found on the surface of a wafer. This is viewed as discolored or smudged, and it is the result of stains, fingerprints, water spots, etc. 沾污区域 - 任何在晶圆片表面的外来粒子或物质。由沾污、手印和水滴产生的污染。 Azimuth, in Ellipsometry - The angle measured between the plane of incidence and the major axis of the ellipse. 椭圆方位角 - 测量入射面和主晶轴之间的角度。 Backside - The bottom surface of a silicon wafer. (Note: This term is not preferred; instead, use ‘back surface’.) 背面 - 晶圆片的底部表面。(注:不推荐该术语,建议使用“背部表面”) Base Silicon Layer - The silicon wafer that is located underneath the insulator layer, which supports the silicon film on top of the wafer. 底部硅层 - 在绝缘层下部的晶圆片,是顶部硅层的基础。 Bipolar - Transistors that are able to use both holes and electrons as charge carriers. 双极晶体管 - 能够采用空穴和电子传导电荷的晶体管。 Bonded Wafers - Two silicon wafers that have been bonded together by silicon dioxide, which acts as an insulating layer. 绑定晶圆片 - 两个晶圆片通过二氧化硅层结合到一起,作为绝缘层。 Bonding Interface - The area where the bonding of two wafers occurs. 绑定面 - 两个晶圆片结合的接触区。 Buried Layer - A path of low resistance for a current moving in a device. Many of these dopants are antimony and arsenic. 埋层 - 为了电路电流流动而形成的低电阻路径,搀杂剂是锑和砷。 Buried Oxide Layer (BOX) - The layer that insulates between the two wafers. 氧化埋层(BOX) - 在两个晶圆片间的绝缘层。 Carrier - Valence holes and conduction electrons that are capable of carrying a charge through a solid surface in a silicon wafer. 载流子 - 晶圆片中用来传导电流的空穴或电子。 Chemical-Mechanical Polish (CMP) - A process of flattening and polishing wafers that utilizes both chemical removal and mechanical buffing. It is used during the fabrication process. 化学-机械抛光(CMP) - 平整和抛光晶圆片的工艺,采用化学移除和机械抛光两种方式。此工艺在前道工艺中使用。 Chuck Mark - A mark found on either surface of a wafer, caused by either a robotic end effector, a chuck, or a wand. 卡盘痕迹 - 在晶圆片任意表面发现的由机械手、卡盘或托盘造成的痕迹。 Cleavage Plane - A fracture plane that is preferred. 解理面 - 破裂面 Crack - A mark found on a wafer that is greater than 0.25 mm in length. 裂纹 - 长度大于0.25毫米的晶圆片表面微痕。 Crater - Visible under diffused illumination, a surface imperfection on a wafer that can be distinguished individually. 微坑 - 在扩散照明下可见的,晶圆片表面可区分的缺陷。 Conductivity (electrical) - A measurement of how easily charge carriers can flow throughout a material. 传导性(电学方面) - 一种关于载流子通过物质难易度的测量指标 。 Conductivity Type - The type of charge carriers in a wafer, such as “N-type” and “P-type”. 导电类型 - 晶圆片中载流子的类型,N型和P型。 Contaminant, Particulate (see light point defect) 污染微粒 (参见光点缺陷) Contamination Area - An area that contains particles that can negatively affect the characteristics of a silicon wafer. 沾污区域 - 部分晶圆片区域被颗粒沾污,造成不利特性影响。 Contamination Particulate - Particles found on the surface of a silicon wafer. 沾污颗粒 - 晶圆片表面上的颗粒。 Crystal Defect - Parts of the crystal that contain vacancies and dislocations that can have an impact on a circuit’s electrical performance. 晶体缺陷 - 部分晶体包含的、会影响电路性能的空隙和层错。 Crystal Indices (see Miller indices) 晶体指数 (参见米勒指数) Depletion Layer - A region on a wafer that contains an electrical field that sweeps out charge carriers. 耗尽层 - 晶圆片上的电场区域,此区域排除载流子。 Dimple - A concave depression found on the surface of a wafer that is visible to the eye under the correct lighting conditions. 表面起伏 - 在合适的光线下通过肉眼可以发现的晶圆片表面凹陷。 Donor - A contaminate that has donated extra “free” electrons, thus making a wafer “N-Type”. 施主 - 可提供“自由”电子的搀杂物,使晶圆片呈现为N型。 Dopant - An element that contributes an electron or a hole to the conduction process, thus altering the conductivity. Dopants for silicon wafers are found in Groups III and V of the Periodic Table of the Elements. 搀杂剂 - 可以为传导过程提供电子或空穴的元素,此元素可以改变传导特性。晶圆片搀杂 剂可以在元素周期表的III 和 V族元素中发现。 Doping - The process of the donation of an electron or hole to the conduction process by a dopant. 掺杂 - 把搀杂剂掺入半导体,通常通过扩散或离子注入工艺实现。 Edge Chip and Indent - An edge imperfection that is greater than 0.25 mm.