水处理设备（超纯水系统） 操 作 说 明 书
目录 一、超纯水设备工艺流程图： (2) 二、工艺流程说明： (2) 1.原水箱 (2) 2.原水泵 (2) 3.多介质过滤器 (3) 4.活性碳过滤器 (3) 5.阻垢剂加药系统 (3) 6.软化器 (4) 7.精密保安过滤器 (4) 8.高压泵 (4) 9.两级反渗透RO机 (5) 10、二级纯水箱 (12) 11、EDI输送泵 (12) 12、前置紫外杀菌器 (13) 13、0.22μ微滤系统 (13) 14、EDI装置 (13) 15、EDI超纯水箱 (17) 16、输送泵 (17) 17、核级树脂 (17) 18、后置紫外线杀菌器 (18) 19、终端0.22μ微滤系统 (19) 三、设备操作指南： (19)
四、设备维护与保养：（以原水水质与纯水水质而定） (19) 附表1：水处理设备运行记录表 (21) 附表2：水处理设备维修保养记录表 (22) 附录3：售后服务承诺 (23) 一、超纯水设备工艺流程图： 二、工艺流程说明： 1.原水箱 原水箱作为储水装置，调节系统进水量与原水泵抽送量之间的不平衡，避免原水泵启停过于频繁，箱内设置液位，原水进水阀根据液位高低进行自动补水，原水泵根据水池液位情况自动启停。 操作：原水箱顶部设置手动及自动电动进水阀，可进行手动及自动补水； 手动补水时不受液位控制，只能手动控制。自动补水阀补水时受液位控制，
当水箱液位降到设定中液位时，自动阀开启自动补水；当水箱液位达到设定高液位时，自动阀关闭停止补水，从而达到自动的性能。 2.原水泵 作用：原水泵将原水增压后输送到下道工序，保证多介质过滤器、活性炭过滤的操作压力及运行流量。 操作：原水泵可分手动和自动操作，自动运行时，原水泵将与原水箱液位联动，原水箱液位低时原水泵停止运行，中水位时重新启动；手动操作时除原水箱液位液位不与原水泵连锁外，其他和自动一样；其他有关说明及注意事项详见水泵说明书。 3.多介质过滤器 作用：在水质预处理系统中，多介质过滤器压力容器内不同粒径的石英砂按一定级配装填，经絮凝的原水在一定压力下自上而下通过滤料层，从而使水中的悬浮物得以截留去除，多介质过滤器能够有效去除原水中悬浮物、细小颗粒、全价铁及胶体、菌藻类和有机物。其出水SDI15（污染指数）小于等于5，完全能够满足反渗透装置的进水要求。 操作：多介质过滤器的反洗操作采用自动控制器，过滤器应定期清洗。冲洗周期一般为5～7个工作日，具体将根据进水浊度而定。 4.活性碳过滤器 功能：在水质预处理系统中，活性炭过滤器能够吸附前级过滤中无法去除的余氯以防止后级反渗透膜受其氧化降解，同时还吸附从前级泄漏过来的小分
UP系列超纯水机 名称：超纯水机 型号：UP系列 品牌：本昂 产地：上海 厂家：上海本昂科学仪器有限公司 UP系列超纯水机滤芯和关键配件全部进口，出水水质：18.2 MΩ-cm 25℃，1个RO水出水口＋1个超纯水出水口，出水量：15L/h。 UP系列超纯水机详细介绍 UP系列超纯水机融合各种尖端水处理技术和过程控制方法于一体，将自来水直接转化为超纯水，出水水质完全符合ASTM、NCCLS I级、GB6682-92 I 级和GB/T11446-1997 I级等规定的用水要求。广泛适用于化学、生物、制药、医学、微电子、半导体等领域，满足光谱分析、色谱分析、细胞培养、蛋白纯化、分子生物学等的应用要求。 精选全球优质组件： ● RO膜：美国DOW陶氏、美国FCS ●泵、机箱：美国Kflow ●预处理组件：美国Kflow ●超纯化柱：美国Rohn&hass罗门哈斯、美国DOW陶氏 ● UF超滤组件、UV杀菌消解组件：美国Pall、国产精品 ●终端滤器：德国Sartorius赛多利斯公司 ●自动控制组件和安全保护装置：美国Kflow、美国Sciencetool 融入世界尖端科技： ●RO膜采用美国太空总署NASA研发的反渗透技术，脱盐率>99%，除菌率>99.5% ●二级混床保证出水水质，延长超纯柱寿命；特有内循环功能，时刻保证顶级水质 ●双波长UV组件有效降低细菌及TOC；高效MWCO5000超滤组件除去热源● 0.45/0.22 μm带预滤的高通量终端滤器；RO膜自动防垢冲洗，24小时全自动运行 ●长效预过滤器，2年不用更换，降低使用成本，延长后续过滤组件寿命 UP系列超纯水机(自来水为水源) ●进水要求：城市自来水：TDS<200，5-40℃，1.0～3.5Kg/cm2 ●全自动压力传感器控制，RO膜自动防垢冲洗，自来水断水自动停机，停机自动断水，储水桶自动补水，储水桶水满自动停机功能，可实现24小时无人看守工作。 ●超纯水出口带有德国Sartorius 0.22μm终端滤器
典型超纯水工艺流程设 计方案 集团标准化小组：[VVOPPT-JOPP28-JPPTL98-LOPPNN]
1纯化水工艺设计方案：（产水水质标准达到的标准：中国药典2005版纯化水标准） 自来水→预处理→一级反渗透→一级EDI→UV杀菌→超滤除热原设备→用水 自来水→预处理→一级反渗透→二级EDI→UV杀菌→超滤除热原设备→用水 2注射用水工艺设计方案：（产水水质标准达到的标准：中国药典2005版注射用水标准） 自来水→预处理→一级反渗透→一级EDI→微滤→多效蒸馏除热原设备→用水 自来水→预处理→一级反渗透→二级EDI→微滤→超滤除热源设备→用水 3电厂高压锅炉给水工艺设计方案（产水水质标准达到的标准：工业锅炉水质GB1576-2001） 自来水→预处理→一级反渗透→脱气装置→二级EDI→微滤→用水 自来水→预处理→一级反渗透→脱气装置→PH调节→二级反渗透→一级EDI→微滤→用水 4微电子/半导体级超纯水工艺设计方案（产水水质标准达到的标准：中国电子工业部高纯水水质试行标准） 自来水→预处理→一级反渗透→脱气装置→二级EDI→UV杀菌装置→超滤→用水 自来水→预处理→一级反渗透→脱气装置→PH调节→二级反渗透→一级EDI→抛光混床→UV杀菌装置→超滤→用水 5实验室用分析级纯水工艺设计方案（产水水质标准达到的标准：分析级实验室用水标准 GB6682-2000） 自来水→预处理→一级反渗透→二级EDI→UV杀菌装置→超滤→用水 自来水→预处理→二级反渗透→一级EDI→UV杀菌装置→超滤→用水 进水电导率在400～1000μs/cm的含EDI设备的典型超纯水工艺流程设计方案 1纯化水工艺设计方案：（产水水质标准达到的标准：中国药典2005版纯化水标准） 自来水→预处理→一级反渗透→二级EDI→UV杀菌→微滤→用水 自来水→预处理→一级反渗透→脱气装置→PH调节→二级反渗透→一级EDI→UV杀菌→微滤→用水 2注射用水工艺设计方案：（产水水质标准达到的标准：中国药典2005版注射用水标准） 自来水→预处理→二级反渗透→一级EDI→多效蒸馏除热源设备→用水 自来水→预处理→一级反渗透→二级EDI→UV杀菌装置→超滤除热源设备→用水 3电厂高压锅炉给水工艺设计方案（产水水质标准达到的标准：工业锅炉水质GB1576-2001） 自来水→预处理→一级反渗透→脱气装置→PH调节→二级反渗透→一级EDI→混床→微滤→用水自来水→预处理→一级反渗透→脱气装置→二级EDI→微滤→用水 4微电子/半导体级超纯水工艺设计方案（产水水质标准达到的标准：中国电子工业部高纯水水质试行标准） 自来水→预处理→一级反渗透→脱气装置→二级EDI→抛光混床→UV杀菌装置→超滤→用水
超纯水系统施工过程具体注意事项分析 一、超纯水系统总体介绍 随着电子工业的发展，在芯片的生产加工过程中，对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路，除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外，高纯水也是其中最关键的因素之一。 高纯水系统是将一般的市政用水处理成对不同离子的含量和颗粒度都有很高要求的超纯水。超纯水系统工程总体来说一般可分为三个部分：超纯水制造区(CUB部分)、超纯水抛光循环区(FAB部分)、超纯水输送管网(FAB各使用区)。其中超纯水制造区最为复杂其又可分为：预处理、一次纯水处理、超纯水处理三个部分。 预处理部分主要包括：沙滤、活性炭塔(有的厂商在沙滤前还增设反应槽、气浮池);一次纯水部分主要包括：阴阳离子交换塔、脱气塔(DG)、保安过滤器、紫外线杀菌器及多级反渗透;超纯水部分主要包括：MDG(脱氧膜组)、TOC-UV杀菌器、混床(MB)及终端过滤器。但是由于考虑到在向工艺线设备输送高纯水过程中，输水管道会对水质再次造成污染，因而在FAB内一般都设立抛光循环系统。抛光循环系统主要以MB为核心，再加上超滤设
备(UF)，以除去在向工艺生产线输送纯水的过程中，管网溶入水中的杂质。 二、超纯水系统中各阶段常用管材 在超纯水系统中管材的选用也非常重要，既要能做到保证水质、又应该做到经济合理。超纯水系统中常用管材主要包括：PVC、SGP、SGP(RL)、SUS304、CPVC、SUS316及PVDF等管材。一般在超纯水制造区预处理阶段多采用PVC管或SUS304管。设备面管一般采用内衬胶钢管(SGP RL)，对于水泵等产生震动的动力设备周边采用SUS304管;在一次纯水阶段主流程采用CPVC管或 SUS304管。高压泵与反渗透(RO)之间，由于压力高所以必须采用SCH80的SUS304管及耐压2.0Mpa级的法兰。由于RO对水温有一定的要求，因而一般在RO之前有热交换器，其周边也应该采用SUS304管;在超纯水制造阶段，主流程一般应采用SUS316管和CPVC管;抛光循环区主流程一般采用SUS316管(焊接连接，并要求双面成型)和PVDF管，超纯水回收管道采用CPVC管。 在以上水处理各阶段废水排放管道均采用普通PVC管;在纯水制造过程中酸碱等加药管线，应采用耐冲击PVC管;纯水系统中使用的氮气系统采用SUS304管，超纯水抛光系统所用氮气管道采用SUS316管;压缩空气系统在纯水系统中作为气动阀开关 动力，一般采用SUS304管或SGP管，当采用SGP管时进入电气盘前需加过滤器。
我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。 电导率≤10μS/CM动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电导率≤4μS/CM电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化水、白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净水、普通化妆品生产用纯水、血透纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率5~10MΩ.CM锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率:10~15MΩ.CM动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥15 MΩ.CM医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率≥17 MΩ.CM磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水. 电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水，光伏光电行业。
超纯水设备制水工艺及详细技术方案 超纯水设备适用范围：本系统适用于树胶业清洗和生产用纯水。 工程类别：水处理系统销售、安装、服务。 系统总进水量：5m3/hr 系统产水量：2m3/hr@25℃ 系统回收率：55～70% 产水水质：电导率≤0.2μs/cm@25℃ 运行方式：自动运行(并具备手动操作功能)。 原水水源：自来水 原水设计温度：25℃ 制水工艺：RO反渗透+EDI连续电除盐〔或IX树脂离子交换〕主要配置： 预处理系统：原水箱、原水箱液位控制器、原水进水电磁阀、原水泵、PAM计量泵、多介质过滤器、活性炭过滤器、阻垢剂计量泵、管路、阀门。
RO反渗透系统：高压泵、反渗透膜、反渗透膜壳、膜架、控制系统、进水电磁阀、冲洗电磁阀、调压阀、高压开关、低压开关、精密过滤器。 储存系统：液位控制器、中间水箱。 EDI系统：〔工艺1)给水泵、模块、电源、流量计、压力表、电磁阀、在线电导仪、在线电阻仪、自动控制系统、机架。 IX系统：〔工艺2〕给水泵、再生泵、树脂容器、离子交换树脂、管路、阀门、机架。 工艺简介： 反渗透技术是一种高效率、低能耗能、无污染的先进技术，主要应用于纯水制备与海水淡化。反渗透技术是利用压力差为动力的膜分离过滤技术，通过压力差将H2O与源水中的无机盐、重金属离子、有机物、胶体、细菌、病毒等杂质严格分离。 EDI是一种电渗析技术和离子交换技术相融合的先进技术，系统能够通过电磁场通过阴、阳离子交换膜对阴、阳离子的选择性透过作用与离子交换树脂对离子的交换作用，在直流电场的作用下实现离子的定向迁移，从而完成水的深度除盐，系统能够完成树脂连续不断的自动再生，无需停机使用酸碱再生树脂，从而能连续制取高品质纯水。
超纯水系统 1.工作条件 1.1 环境温度：5-35℃ 1.2 相对湿度：20%-80% 1.3 电源：AC220V±10%, 50HZ 2.主要用途： 2.1玻璃器皿的最后冲洗，化学/生化试剂配制 2.2分析试剂及药品配制、稀释 2.3精密分析仪器用水(HPLC,IC,AA,TOC,MS等等) 3.技术规格 3.1该系统由分析级纯水或蒸馏水作进水，连续生产超纯水 3.2超纯水产水流速：50ml – 2000ml/min 3.3超纯水产水水质： 3.3.1电阻率：18.2 MΩ·cm＠25℃ 3.3.2总有机碳含量(TOC) ＜ 5ppb ； 3.3.3直径大于0.22μm的颗粒物数量: ＜1/ml 3.3.4微生物：＜ 0.1 cfu/ml； 3.3.5电阻率检测仪电极常数：0.01cm-1 3.4内置双波长(185nm＆254nm)紫外灯 3.5内置2个电导率监测仪，出水电导池常数应达到0.01 cm-1 3.6内置低噪音直流泵,1米处＜40db 3.7* 含LED水质指示灯活动支臂取水枪, 取水过程中无需用手固定容器,取水高度可调, 具有定量自动取水功能，可选配脚踏取水开关 3.8主机含液晶显示屏有中文操作界面,实时显示出水关键信息 3.9系统具有可自动检测,自动维护提示及自动报警等功能. 3.10耗材具有RFID芯片识别功能,保证系统安全. 3.11自动记录一整年水质资料,出水水质符合NCCLS﹑ASTM` CAP要求; 整机符合 GLP要求, 可直接与PC机或打印机相连. 3.12* 全系统可检附并可追溯至NIST的仪表校验证明书(ISO9001/ISO14001). 4.技术服务要求 4.1设备安装调试: 在买方指定的地点完成安装调试，并配合买方进行测试验收。 4.2质保期验收合格日起12个月。 4.3维修响应时间: 接到维修通知后，1个工作日内做出响应，3个工作日内到场排除故
光伏行业超纯水设备项目设计说明 2020年7月29日
进水水质：市政自来水/地下水 产水水质：国标/美标电子级超纯水 氮气要求：99.9999% 所需电源：稳定电源380V 50HZ 占地面积：根据产水量设计 公共条件：氮气要求：99.9999%进水管道清洁无污染进水压力0.3-0.4MPA持续稳定电源AC380V/AC220V地面设置排水设施设备间温度需10℃-30℃ 项目设计说明: 本系统配置设计根据客户提供水源水质设计，水质如下： 超纯水系统产水2×15吨(水量可根据用户需求定制)，产水达到美标E1.2的标准; 系统采用全自动智能控制程序，自动运行、停止、清洗、再生、报警、启动等一系列操作，系统运行可以实现全程无人值守运行。 工艺流程：
设备详细介绍 预处理系统 原水箱、原水泵、石英砂过滤器、活性炭过滤器、阻垢剂系统 反渗透除盐系统 保安过滤器、RO高压泵、反渗透 EDI系统 EDI的作用就是通过除去电解质(包括弱电解质)的过程，将水的电阻率从0.05～1.0MΩ.cm提高到5～16MΩ.cm。 抛光混床
抛光混床是超纯水在接触到半导体芯片前的最后一道化学精制的处理程序，选用品质好的核子级树脂，绝不能释出任何物质，进而污染到不能间断的超纯水供水系统。 脱气系统 是控制液体脱气、供气的中空纤维膜组件。具有致密表皮层的中空纤维不透过液体，只透过气体，适合用于液体的脱气、供气。 TOC系统 采用UV-180nm单波长紫外技术，并通过高剂量的UV-185紫外光催化，在水中产生。OH翔基自由基，对水中的有机物进行氧化降解，以达到降低水中TOC的含量。 设计优势 高性能高质量:完善工艺质量控制贯彻到每个功能单元，使产品水达到优于用水标准。 系统运行稳定:通过膜分离软件进行设计，设计参数准确，尽量降低工程投资和运行费用。 环保高效节能：设备选型做到合理、可靠、先进，布局力求紧凑、合理、简洁、美观。
工业电子超纯水设备设计方案 1.电子工业超纯水概述 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大 规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高， 线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为 18Mù.cm、15Mù.cm、10Mù.cm、2Mù.cm、0.5Mù.cm，以区分不同水质。 2.电子工业超纯水设备特点 电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理 系统、RO 反渗透主机系统、离子交换混床(EDI 电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间 水箱、RO 纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水 质检测控制仪表、电气采用PLC 可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户 要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。 3.电子工业超纯水的应用领域 1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水; 2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水; 3、实验室和中试车间用超纯水; 4、汽车、家电表面抛光处理; 5、光电子产品; 6、其他高科技精微产品; 工业电子超纯水设备工艺流程说明：
1、第一级预处理系统：采用石英砂多介质过滤器，主要目的是去除源水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、 悬浮物等颗粒在20 m以上对人体有害的物质，系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列 操作。 2、第二级预处理系统：采用果壳活性碳过滤器，目的是为了去除水中的色素、异味、生化有机物、降低 水的余氯值及农药污染和其他对人体有害的污染物。系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一 系列操作。 3、第三级预处理系统：采用阳树脂对水进行软化，主要是降低水的硬度，去除水中的钙、镁离子(形成 水垢的主要成分)，可有效延长反渗透膜的使用寿命，并可进行智能化树脂再生。 4、第四级预处理系统：采用5um 孔径精密过滤器，使水得到进一步的净化，使水的浊度和色度达到优 化。保证RO 系统进水条件要求，保证设备的产水质量，延长设备的使用寿命。 5、反渗透(超滤)设备主机：采用反渗透(超滤)技术进行深度脱盐处理(进口美国反渗透膜)去除钙、 镁、铅、汞等对人体有害的重金属物质及其他杂质，降低水的硬度，脱盐率达99%以上，生产出符合 国家标准的纯净水。 6、微过滤装置：安装该装置主要是为防止微粒树脂颗粒从布水中滤出，造成二次水质污染，这主要是运 用在对水质特别高的场合。 杀菌系统：采用臭氧发生器(或紫外线杀菌器)，减少细菌二次污染，灭菌率可达99%以上，同时臭氧溶 于水形成富氧水，保证水的纯鲜。采用水气混合器使臭氧充分与水混合，达到最佳浓度比。
2t/h超纯水处理设备 设 计 方 案 2012年3月 目 录 一、公司简介 (2) 二、设计依据 (2) 三、设计范围及原则 (3) 四、出水水质及水量要求 (3)
五、简易工艺流程 (4) 六、系统工艺要求及说明 (4) 七、设备性能 (9) 八、售后服务承诺 (18) 九、系统配置清单 (19) 十、工程造价 ................................................... 错误！未定义书签。 一、公司简介 二、设计依据 1、根据地区性水质条件设定水质条件，根椐用户地区同类厂家的水质资料及用水量等基础资料进行设计。 2、工业用水软化除盐设计规范GB 109-87。 3、RO系统设计参照《给排水设计手册》及美国陶氏 公司RO膜元件技术手册。
4、系统排水按室外排水设计规范GBJ14-87。 5、建筑给排水设计规范GBJ15-88。 6、反渗透设备标准按《反渗透水处理设备标准》CJ/T119-2000。 7、电气装置安装工程电气设备按试验标准GB50150-91。 8、管道的设计按纯化水用水标准进行设计。 9、通用电器设备配电设计规范GB50055-93。 10、城市区域环境噪声标准GB3096—93； 11、电气安装工程盘柜及二次回路接线工程施工及验收规范GB50171-92 三、设计范围及原则 1、进入纯水站的水源为自来水，根据客户地区的水质情况，其变化系数K≤1.5，处理系统排放的浓废水可直接排入市政综合管网。 2、纯水处理设施具有较大的适应性、应急性，可以满足水质及水量的变化，并考虑在突发或事故状态下的各种应急用水。 3、采用工艺具有可靠性，运行稳定，运转费用低，管理维护量特别小，纯水系统采用集成电路控制,自动化程度高。 4、系统管道均采用UPVC管路。 5、系统处理过程中选用工作泵均为多级离心泵，具有启动及运转功率小，无死角，噪音低，工作稳定等特点。 6、本工程设计范围为接入纯水处理站的给水管道起纯水出口为止的整个处理工艺、基础、电气等各专业的设计。 四、出水水质及水量要求 1、设计规模 系统工程设计规模为2.0t/h。 2、出水水质要求 系统出水水量 小时设计产水量为2.0t/h 系统出水水质 在线监测5MΩ以上 系统产水温度 60C°-70C°
超纯水系统 设 计 方 案 目录
一、设计条件及出水水质 3 二、设计基本资料 4 三、主要组件设备说明 5 四、工艺方案流程及说明 11 五、调试及售后服务内容 12 一、设计条件及出水水质 进水主要水质指标：东莞市自来水 用户对出水要求： 出水量：超纯水9吨/小时 出水水质：主机系统超纯水：电阻率≥18MΩ.㎝@25℃；
出水温度：常温。 水质检测：随机自带有电导率仪，出水电导率在线显示。 设备最终产水量：纯水10吨/小时@25℃；超纯水9吨/小时@25℃；系统总进水量：15m3/h； 一级反渗透的回收率≥60%； 第一级反渗透的浓水直接排放； CEDI装置回收率：85～95%,浓水回收为RO系统原水。 控制方式： PLC自动&手动控制。 二、设计基本资料 设计依据 （1）《中华人民共和国环境保护法》 （2）《中华人民共和国水污染防治法》 （3）《给排水构筑物施工及验收规范》（GBJ125-1989） （4）《给排水管道工程施工及验收规范》（GB50268-1997） （5）《给排水工程结构设计规范》（GBJ69-1984） （6）《低压电器设计规范》（GB50054-1995） （7）《水处理设备制造技术条件》（JB|T2932-1999）
（8）相关反渗透膜生产厂家所提供技术资料。。 、设计原则 1．采用成熟、先进的工艺，运行可靠，操作简单方便。 2．对反渗透膜清洗系统目前的建设投资于今后的运行费用做综合技术经济分析，尽可能用最少的资金达到理想要求。 3．根据厂方的实际情况，采用先进设备，占地少，投资省，运行费用低，操作管理方便。 4. 对回收统总费用投入的增量与回收系统运行的可靠性及发生故障时对环境的危害性作综合技术经济分析，尽可能用最少的资金投入达到系统运行安全可靠，操作简单方便。 5. 认真执行国家经济建设方针、政策和国家现行的技术标准、规范，遵守法律、法规。 三、主要组件及设备说明
实验室超纯水设备简介 电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、 10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。 对水质的要求： 新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。 超纯水制备工艺： 1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→ 用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺) 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺) 3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(最新工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象 (≥15MΩ.CM)(最新工艺) 5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
方 案 书 目录
设计总则 (4) 第二章技术规范要求 (6) 1、设备制作规范及要求 (6) 2、设备制作规范通则 (8) 3、工艺系统设计依据 (9) 4、控制系统设计依据 (9) 5、电气系统设计依据 (10) 1、工艺流程图 (11) 纯水站工艺流程简图 (11) 第五章检验和标准 (19) 1、设备制造工艺和材料 (19) 设备的制造工艺和材料符合下列标准和规定的最新版本的要求： (19) ● 《钢制压力容器》 GB150-1998 (19) 2、对外接口法兰 (19) 3、衬里钢管和管件 (19) 4、现场仪表和控制系统 (20) 5、电气系统 (20) 第六章乙方技术文件交付 (21) 1、总则 (21) 2、资料交付内容及进度 (21) 3、技术资料的交付形式 (22) 4、说明 (22) 第七章技术培训与服务承诺 (23) 1、技术培训 (23) 2、服务承诺 (23) 1、设备交货与预验收 (25) 2、设备安装与验收 (25) 3、设备调试、试车及验收 (25) 第九章项目预算 (28) 1、项目报价 (28) 2、付款方式 (28) 3、设备功耗 (29) 4、运行费用 (29) 1）、电费明细： (29)
第十二章触摸屏流程图展示 (34) 第十四章原水水质报告 .......................................... 第十五章企业资质证书............................................................... ........................ 企业简介 北京海德能水处理设备制造有限公司坐落于首都经济新技术开发中心－－北京亦庄，交通十分便利，地理位置优越。公司占地面积4000平方米，软硬件设施配套齐全。公司拥有工程技术人员40人，高级工程师8人，工程师20人，其他员工50余人。海德能公司是专业从事水处理设备研制、开发、生产、销售的科技型生产制造企业，公司主要产品有纯净水设备、电子化工超纯水设备、酒店宾馆供纯水设备、实验室用超纯水设备、农村饮用水设备、商用投币机设备、矿泉水设备。公司拥有先进的机械加工设备，并承揽各种非标水处理设备的制作、安装，公司年产值3000万元左右。海德能公司在设备加工方面严格按照ISO9001质量保证体系中的有关规范实施产品控制，从而奠定了海德能公司在水处理行业领域中的优势地位。 海德能公司以人为本、追求卓越、求真务实、勇于创新，以高技术、高质量的产品，本着“以质量求生存，以技术求发展”的宗旨，凭借雄厚的技术和不断开拓创新的精神，为用户提供最先进的技术和最满意的服务。
Advanced系列超纯水机功能介绍 产品名称：Advanced系列实验室专用超纯水机 型号：Advanced-I-06 Advanced-I-12 Advanced-I-24 Advanced-I-32 Advanced-I-40Advanced-II-04 Advanced-II-08 Advanced-II-12 Advanced-II-16 Advanced-II-24 Advanced-II-32 Advanced-II-40 适用范围：详见技术参数 主要功能特点 ▲微电脑全自动控制，配备Advanced专用主板，人性化设计，具备人机对话功能 ▲系统具备故障监测指示功能(液晶屏显示RO检测、UP检测、泵检测、阀检测、仪表检测、UV检测、UF检测)，能自动检测修复主机微电脑控制系统的各项错误程序 ▲系统具备Advanced专用遥控控制和遥控设置定量取水功能，免除人工来回奔跑和取水等候。 ▲配有多功能手持式红外线遥控器，使主机拥有两套控制操作系统，设备操作更方便、可靠。 ▲系统具备Advanced专用三路水质检测显示功能，可同时检测和显示：进水电导率(μs/cm)和温度，RO 纯水电导率(μs/cm)温度和取水时间，UP超纯水的电阻率(MΩ.cm)温度和取水时间。 ▲系统具备Advanced专用内置总有机碳量(TOC)检测装置与显示功能，设计符合USP(§643)要求检测范围0-999ppb,检测精度±1ppb ，提供在线的TOC检测 ▲系统具备精确测量功能：电导池的温度补偿为±0.10C，灵敏常数为0.01/CM ▲系统具备漏水检测、报警、显示功能 ▲系统具备耗材失效自动报警并提醒更换功能 ▲系统具备原水压力检测显示并校正功能 ▲系统具备密码设置保护功能 ▲内置静音隔膜泵，1米处< 30db. ▲独特的智能真彩色大屏幕LED液晶显示器和独有的多行显示系统，所有运行状况清楚明白，操作控制简单轻松。 ▲一机两用设计，可同时制备取用超纯水和纯化水，全面满足各类清洗、实验、分析、科研等用水 ▲具备开机自检、缺水保护报警、停电自动复位、纯水桶满水后自动停机、超低压保护、RO自动冲洗功能;
附 1 中国国家电子级超纯水规格GB/ 电阻 >1μ m 率硅铜锌镍钠钾氯细菌磷酸根 颗粒硝酸根硫酸根 25℃≤μ≤μ≤μ≤μ≤μ≤μ≤μ≤个≤μTOC≤μ g/L ≤个≤ g/L ≤μ g/L MΩg/L g/L g/L g/L g/L g/L g/L /ml g/L /ml *cm EW-I ≥ 18* 2 1 1 1 1 20 ≥1 EW-II 10 0 0 1 2 2 1 5 1 1 1 100 ** 注* （ 95％时间不低于17）， ** （ 95％时间不低于13） 中国国家电子级超纯水GB/－ 1997 标准 指标级别EW－ⅠEW－ⅡEW－ⅢEW-Ⅳ 18 以上，（95％时间）不低 电阻率MΩ， cm(25℃ ) 15，（ 95％时间）不低于13 于17
全硅，最大值 , μ g/L 2 10 50 1000 ＞ 1μ m微粒数，最大值，个 /mL 5 10 500 细菌个数，最大 10 100 ，个 /mL 铜，最大值，μ g/L 1 2 500 锌，最大值，μ g/L 1 5 500 镍，最大值，μ g/L 1 2 500 钠，最大值，μ g/L 2 5 1000 钾，最大值，μ g/L 2 5 500 氯，最大值，μ g/L 1 1 10 1000 硝酸根，最大值，μg/L 1 1 5 500 磷酸根，最大值，μg/L 1 1 5 500 硫酸根，最大值，μg/L 1 1 5 500
总有机 201002001000 ，最大值，μg/L 电子级超纯水中国国家标准（GB/） >1μm微 项目 比电阻 MΩ.cm@25℃硅≤粒数 < 个细菌个数氧≤硝酸根≤磷酸根≤硫酸根总有机碳级别 μg/L /ml < 个/ml 铜≤μ g/L 锌≤μ g/L 镍≤μ g/L 钠≤μ g/L 钾≤ g/L μg/L μg/L μg/L ≤μg/L ≤μg/L 18（ 95%的时间不低于 EW-Ⅰ 2 1 1 1 1 20 17） 15（ 95%的时间不低于 EW-Ⅱ10 5 1 1 1 2 2 1 1 1 1 100 13）
超纯水设备满足电子级超纯水制取 需求
根据相关统计数据，2019年全球人工智能芯片市场规模将达到110亿美元。随着人工智能技术的成熟和数字基础设施的不断完善，人工智能芯片市场也迎来了快速增长期。预计2025年全球人工智能芯片市场将达到726亿美元。 2020年光电子产业博览于2020年11月30日-12月2日在北京国家会议中心举办。本届博览会覆盖光电子领域全产业链，聚焦行业应用，为制造商提供新思路及解决方案，终端买家精准对接，近年来，由于芯片制程对设计规则之需求朝更精密更细小的趋势发展，因而对行业用水的水质要求也越趋严格，在此背景下，莱特莱德超纯水设备已经成为行业用水新“潮流”。 超纯水设备通常由石英砂过滤器，活性碳过滤器，阻垢剂、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。 超纯水设备工艺流程 自来水进入原水箱，通过原水泵增压，经砂滤器、炭滤器、阻垢剂加药、保安过滤器，到达反渗透单元，经两级反渗透过滤进入EDI
单元，抛光混床单元，EDI出水进入纯水水箱，此时水质的电阻率是15兆欧，经过抛光混床后，产水电阻率达到18兆欧，但是不进入水箱，直接进入用水点。因为水箱中若出现产水滞留，会影响产水水质。纯水供水设计为循环方式，经纯水供水泵增压，通过紫外线消毒器、抛光混床接入纯水供水管，到达使用点。 AI芯片经过数年的探索，已经开始在多个市场应用中初露锋芒。在这个过程当中，AI芯片发展的挑战和技术方向也逐渐明晰了起来。莱特莱德超纯水设备能连续稳定地制备出高质量的超纯水，不会因树脂再生而停止运行。设备的结构设计比较紧凑，占地面积很小，可以为企业节省大量空间。设备出厂前需要进行检验，设备故障概率小，日常维护和维修操作非常简单。
500L/H超纯水设备方案 书 （双级RO+EDI） （采用美国反渗透膜原件） （编号：SD-1100707） 三达水（北京）科技有限公司 2019年10月5日 公司简介 三达水（北京）科技有限公司，是一家专业从事软化水、纯水、超纯水、污水处理技术开发、制造、营销和服务于一体的高科技实体。致力水环保领域的工程承包、项目运营及环保技术、产品的研发、制造。业务领域涉及给水处理、污水处理、生活小区水环境规划、工业废水处理、工业用水处理。以自己的核心技术和市场开拓能力为依托，充分利用社会资源，推动水环保事业的发展。公司聚科、工、贸于一体，为各类客户群提供专业的、全面的、集中的服务。 三达公司以人为本，以用为本，竭诚提供优质新型的水处理设备。拥有先进的水处理技术、可编程全自动水处理设备及相关设备；
拥有合理的工艺流程和计算机辅助管理软件为支撑的专利技术解决方案；完善的服务体系、专业精良的服务队伍及通畅的渠道，在方案提供设计、项目设计、工程施工、项目运营等方面为用户提供全方位的服务。 三达公司凭着优质的性能和服务，在市场上建立了良好的口碑。我公司愿和各界人士携手同道，永续共荣。 一、设计基础 1.1本方案涉及的流程及设备是为了满足：贵公司生产工艺用水项目，要求 如下： 1.1.1产水用途：结晶提纯用水 1.1.2系统总进水量：预处理：1. 5m3/hr 1.1.3系统出力：一级RO纯水处理：0.8m3/hr；回收率：60%； 二级RO纯水处理：0.6m3/hr；回收率：75%； 25%的浓水回流至一级RO纯水系统 EDI纯水处理：0.5m3/hr；回收率: 90%； 10%的浓水回流至二级RO纯水系统 1.1.4终端产水水质：EDI电阻率：≥15MΩ.CM 1.1.5运行方式：自动运行（并具备手动操作功能）。 1.1.6供水方式：连续产出（24小时运行）。 1.2本方案主要依据如下： 1.2.1原水水源：自来水 1.2.2原水设计温度：6℃ 1.2.3原水水质分析：用户提供的原水水样（水质分析报告见附件）。 1.2.4设计界线：原水箱装置进口至成品水箱出口（详见控制点的工艺流 程图）。 1.2.5其他涉及的设计基础条件将在技术讨论中确定。 1.3系统对外界要求：
半导体生产用EDI超纯水设备技术工艺介 绍 2019年8月27日
半导体行业的生产对水质要求非常严格，半导体生产用超纯水设备采用先进制水技术，保证设备出水水质符合行业用水需求。 半导体行业用超纯水设备工艺 预处理→UF系统→一级反渗透→PH调节→级间水箱→二级反渗透→中间水箱→中间水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→EDI装置→氮封水箱→增压水泵→抛光混床→循环增压泵→用水对象(≥18MΩ.CM) 半导体的生产过程中，涉及到的用水有生产用水和清洗用水。它的用水要求必须是超纯水，因为只有超纯水才能符合水质的标准，因此半导体生产用超纯水设备起到重要作用，已经得到广泛认可。下面莱特莱德小编来为大家分享半导体生产用超纯水设备工艺流程： 原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透系统→二级RO纯水箱→EDI增压泵→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→EDI纯水箱→纯水泵→抛光混床→0.22u膜过滤器→生产线用水点半导体生产用超纯水设备工作原理 超纯水装置供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜外的离子，树脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。 半导体生产用超纯水备工艺 1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象 2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象 3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm 精密过滤器-用水对象 4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)
电子行业水质标准 1.电子工业与超纯水 在半导体制作工艺中，80%以上的工序要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水；在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降成品率低。 电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm (25℃),已极其接近理论纯水水质 MΩ.cm(25℃)。对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。如256 兆位的动态随机储存器生产工艺，光刻线条宽已达微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒径就得≤μm,而且≥μm 不得超过500 个/升超纯水。2、水质标准 超纯水水质标准大多数由中科院半导体所主要制定。 电子级水国家标准:详见表
3、超纯水中杂质的污染源 制备超纯水的水源 由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2, 还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。 材料的影响: 制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。一些高分子材料在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂紫外吸光剂着色剂，引入大量的金属、非金属杂质、同时还会带来有机污染。 材质的污染主要以污染值来衡量，所谓污染值是指，单位面积的材料使单位体积的纯水电阻率的增加值。表分别列出了各种材料的污染值和TOC 的溶出值。 表各种材料的污染值(TOC 的溶出值) 4水的电阻值 在测定水的导电性能时，与水的电阻值大小有关，电阻值大，导电性能差，电阻值小，导电性能就良好。根据欧姆定律，在水温一定的情况下，水的电阻值R大小与电极的垂直截面积F成反比，与电极之间的距离L成正比。 水的电阻率的大小，与水中含盐量的多少，水中离子浓度、离子的电荷数以及离子的运动速度有关。因此，纯净的水电阻率很大，超纯水电阻率就更大。水越纯，电阻率越大。 水的电导率 由于水中含有各种溶解盐类，并以离子的形态存在，当水中插入一对电极时，通电之后，在电场的作用下，带电的离子就产生一定方向的移动，水中的阴离子移向阳极，阳离子移向阴极，使水溶液起导电作用。水的导电能力的强弱程度，就称为电导度S（或称电导）。电导度反映了水中含盐量的多少，是水的纯净程度的一个重要指标。水越纯净，含盐量越少，电阻越大，电导度越小。超纯水几乎不能导电。电导的大小等于电阻值的倒数。即S=1/R，S=(1/ρ)·(F/L)。1/ρ就称为电导率，其国际制单位为西·米-1(S·m-1) 理论上,水中由于水本身的电解作用而只存在两种离子即 H+和OH-, 其浓度如下 [H+] = [OH-] = 10-7 eq/l (or 10-10 eq/ml) 这些浓度的离子经计算而得到理论的电导率为: ?=?S/cm 在 25°C 电阻率为电导率的倒数,所以 R=18. 2MΩ.CM在25°C