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光电技术-华中科技大学光学与电子信息学院

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附3. 光学与电子信息学院硕士研究生课程简介

附3. 光学与电子信息学院硕士研究生课程简介

§ 3.3 光电子发射探测器与热探测器

§ 3.4 光电成像探测器件

§ 3.5 各类光电探测器的性能及应用比较

第四章光电信号处理

§ 4.1光电探测器的偏置放大电路与噪声

§ 4.2 微弱信号检测

§ 4.3 锁定放大器与光子计数器

第五章光电系统设计基础

§ 5.1光电系统设计考虑

§ 5.2系统的经济性考虑

§ 5.3 CCD尺寸测量系统

§ 5.4红外辐射测量系统

§ 5.5光电成像检测系统

使用教材:

叶嘉雄、常大定、陈汝钧编著,光电系统与信号处理,北京:科学出版社

主要参考书:

1、王庆友主编,光电技术,北京:电子工业出版社;

2、王庆友主编,光电传感器与应用技术,北京:电子工业出版社;

该课程所属基层教学组织(教研室、系)专家小组意见:(该课程是否适合硕士、博士研究生培养的需要?是否与本科生课程重复?是否有稳定的课程组和授课教师队伍?)

专家组长

专家年月日

2014华中科技大学工程力学试卷

华中科技大学 《工程力学实验》(A 卷,闭卷,90分钟) 2013-2014年第2学期(机械平台) 班级___________________ 学号____________________姓名____________________ 一.(本题共30分) 简答题(含选择和问答题) 1. 选择题(6分): 试件材料相同,直径相同,长度不同测得的断后伸长率δ、截面收缩率ψ是( )。 A .不同的 B. 相同的 C. δ不同,ψ相同 D .δ相同,ψ不同 2. 选择题(6分): 铸铁压缩实验中,铸铁的破坏是由( )引起的。 A 正应力 B 与轴线垂直的切应力 C 与轴线成45°的切应力 D 以上皆是 3. 选择题(6分): 铸铁圆棒在外力作用下,发生图示的破坏形式,其破坏前的受力状态如图( )。 4. 选择题(6分): 如图示,沿梁横截面高度粘贴五枚电阻应片,编号如图,测得其中三枚应变 片的应变读数分别为80εμ、 38εμ和-2εμ,试判断所对应的应变片编号为( )。 A .1、2、3; B .5、4、2; C .5、4、3; D .1、2、4。

5. 在电测实验中,应变片的灵敏系数为片K =2.16时,若将应变仪的灵敏系数设置为仪K =2.30,在加载后,应变仪读数ds ε=400 με (单臂测量情况下),则测点的实际应变ε为多少?(6分) 6. 分析低碳钢拉伸曲线与扭转曲线的相似处和异同点?(6分) 二.在低碳钢拉伸实验中,采用初始直径d 0=10mm 的标准圆截面试样,峰值载荷F b =35.01kN ,其断裂时的载荷F d =29.05kN, 断面收缩率为64.1%。请据此计算该试样的抗拉强度和断裂时破坏面的真实正应力。(15分)

最新《薄膜光学与技术》2012期末考试试题A-答案

2012-2013学年第1学期《薄膜光学与技术》期末考试试题(A 卷) 参考答案及评分标准 一、填空题 (每空1分,共24分) 1、在折射率为3.5的基底表面镀单层减反射膜,对于4000nm 的光波,理论上能 达到最佳减反射效果的薄膜折射率为: 1.8708 ,需要镀制的薄膜光学厚度 为 1000 nm 。 2、若薄膜的折射率为n ,光线在薄膜内的折射角为θ,则s 、p 光的修正导纳分 别为 ncos θ 、 n/cos θ 。 3、对于波长为λ的光来说,单层膜的光学厚度每增加 λ/4 ,薄膜的反 射率就会出现一次极值变化。当薄膜的折射率小于基底折射率时,出现的第一个 反射率极值是 极小 (极大、极小)值。 4、虚设层的形成条件是: 薄膜的光学厚度等于半波长的整数倍 。 5、周期性对称膜系(pqp)s 的等效折射率和 基本周期/pqp 的等效折射率完 全相同,其等效位相厚度等于 基本周期的s 倍 。 6、折射率为n 1,光学厚度为λ0/4,基底的折射率为n s ,那么,该单层膜与基底 的组合导纳为: s n n Y 21 7、介质高反射膜的波数宽度仅与两种膜料的 折射率 有关,折射率 差值越大 , 高反射带越宽。 8、热偶真空规是通过测量温度达到间接测量 真空 的目的。 9、镀膜室内真空度高表明气体压强 小 ,真空度低则气体压强 大 。 10、薄膜几何厚度的监控通常用 石英晶振 膜厚仪来实现,光学厚度常常采 用 光电 膜厚仪来监控。 11、采用PVD 技术制造薄膜器件时,薄膜折射率的误差主要来自三个方面: 膜 层的聚集密度 、 膜层的微观组织物理结构 、 膜层的化学成分 。 12、改善膜层厚度均匀性的措施包括 旋转夹具 和 膜层厚度调节板 。 13、采用光电极值法监控膜厚,如果需要镀制光学厚度为900nm 的薄膜,在 500-700nm 范围内,可以选取的监控波长为 600 和 514.3 nm 。

信息显示与光电技术专业大学生个人职业规划

信息显示与光电技术专业大学生个人职业规划 一、自我分析 1、价值观 我崇尚自由自在的生活,不喜欢被拘束。舒服安逸富裕的生活,是我的向往。从小就被教育要有团体合作精神,所以我一直认为,人最可贵的就是能团结合作,全力以赴。这样可以做到事半功倍。 我的职业价值观(进行过职业价值观测试):工作的目的和价值,在于不断创新,不断取得成就,不断得到领导与同事的赞扬或不断实现自己想要做的事、、获得优厚的报酬,使自己有足够的财力去获得自己想要的东西,使生活过得较为富足。希望一起工作的大多数同事和领导人品较好,相处在一起感到愉快,,是一种极大的满足。是一种极大的满足。 2、个人性格 比较外向,开朗,幽默,乐观的。也很率性。喜欢交朋友,擅长于与人沟通,人际关系佳,忠实可靠。 3、个人兴趣 平常喜欢打篮球,听音乐,逛街,交朋友。还喜欢上网,看些小说,喜欢看各种杂志类书籍。积极的培养各方面的兴趣,比

如学吉他,对辩论方面的知识也很想去了解,想成为全方面人才。 4、个人能力 计算机应用,office软件应用,听从指挥,有计划有思考的 去完成一件任务。有责任心,上进心,做事认真投入,擅长想象 思维。可以充分发挥善于运用抽象思维、逻辑推理等能力来分析 解决问题的优势,发扬独立钻研的学习精神。由于参加学生会和 长期担任班干部,有丰富得管理经验,实践能力强。但缺乏耐心、毅力。 5、职业兴趣 我的职业兴趣很广泛,由于我是学管理的,对管理方面的知 识比较了解,可以学以致用。希望能够在企业人事行政管理方面 有所发展,自我表现和体现我的价值所在。 6、职业个性 喜欢独立地计划自己的活动和指导别人的活动,在独立的和 负有职责情景中感到愉快,喜欢对将来发生的事情作出决定,想 努力成位一位优秀的领导者。在工作中形成一定个人魅力,得到 大家的肯定及尊重。软硬兼用,以身作则。对自己未来有信心。 7、职业价值观 希望工作以团队合作的方式进行,大多数同事和领导在工作 中有融洽的人际关系,相处在一起感到愉快、自然,认为这就是 很有价值的事。重视工作中人与人之间的关系,希望能建立良好 的同事关系。愉快、协调的团队协作是我这种类型的人所追求的。

光学与电子信息学院2015级培养方案-光电信息科学与工程-光

光电信息科学与工程专业本科培养计划 Undergraduate Program for Specialty In Optoelectronic Information Science and Engineering 一、培养目标 Ⅰ.Program Objectives 培养德、智、体全面发展,具有系统、扎实的光电理论基础,在信息的获取、传递、处理及应用等方面具有较宽广的专业知识,英语应用能力和工程实践动手能力强,人文素质和创新精神优秀,并在激光科学与工程、光纤通信系统与技术、光电系统与信息处理、光电子集成器件技术等方向具有一定专长的高素质人才。毕业生能在研究院所、高等院校、信息产业部门及其相关领域从事信息科学与技术的研究、系统集成与设计、开发等方面的工作。 Aiming at preparing all-rounded, high-quality talents with international competence, this program will enable students to be solid grounded in basic theory, wide-ranged in specialized knowledge, capable of practical work and particularly specialized in Laser Science and Engineering, Optical Fiber Communication System and Technology, Optoelectronic System and Information Processing, Optoelectronic Integrated Devices. Students can be fit into jobs in IT department research centers and colleges. They can do research, design and develop the integrated system in Information Science and Technology area. 二、基本规格要求 Ⅱ.Learning Outcomes 毕业生应获得以下几个方面的知识和能力: 1.扎实的数理基础; 2.掌握光学与光电子学、电子与信息科学的基本理论和方法; 3.解决本学科领域内的科研及工程问题的能力; 4.了解本学科发展的前沿动态; 5.较强的英语语言能力; 6.优秀的文献检索、资料查询与综述,以及科技论文和研究报告撰写的能力;

华中科技大学光电学院2018年推免生推荐管理办法

光学与电子信息学院推荐优秀应届本科毕业生 免试攻读研究生管理办法(2018年) 第一条根据教育部有关规定和华中科技大学有关管理办法,为规范在本科生中推荐优秀应届毕业生免试攻读研究生(简称“推免生)工作,按照"公平、公正、公开"的原则,特制定该实施办法。 第二条学院成立由党政一把手、主管本科教学、研究生培养和学生工作的副院长、副书记任组长、副组长,相关领导、教务和学工组老师为成员的推免生工作领导小组,全面负责学院推荐工作。 第三条学院根据学校下达的指标总数、各专业应届本科生人数和当年本科专业评估情况按比例统一分配推免生名额。 第四条推免生推荐条件: 1.我校全日制普通本科应届毕业生; 2.加权平均成绩居本年级或专业排名的前50%;其它类型实验班按相应管理办法执行; 3.通过国家大学外语四级考试; 4.修读本专业核心课程无不及格记录(18门); 5. 无任何违法违纪处分记录; 6. 在同等条件下,在校期间参军入伍服役、到国际组织实习的学生优先。 第五条破格推免生: 对确有特殊学术专长或具有突出培养潜质的学生,执行破格推免制度,申请资料学院审核后由校级专家组评审,统一评审认定。 第六条推免生推荐程序: 1.学生本人申请并向学工组提交有关成果与奖励证明原件; 2. 学院按规定对学生进行综合评定、考核,择优确定推免生名单并在院内张榜 公布,公示期不少于三个工作日。 第七条推免生的推荐复试要求: 1.所有推免生均应参加推荐复试;首先根据学生前三年的平时加权排序,按照

推免指标1:1.5并且满足加权前50%划定入围资格,然后考虑奖励分计算得到平时综合成绩进行排序,按推免指标1:1.3确定复试资格。 2.根据下达的推免指标,不同专业分别独立进行排序,普通班和实验班分别独立进行排序,中法班、中法班分别独立进行排序; 3. 综合成绩:综合成绩由学生平时综合成绩和复试成绩组成,平时综合成绩占80%、复试成绩占20%; 4. 平时综合成绩=前三年必修课及专业选修课的历年加权平均成绩(百分制)+奖励分。加权平均成绩的计算均按第一次与同班同学一起考试的课程成绩确定; 5.复试成绩一般由业务课笔试(40%)、面试(40%)、外语听说能力测试(20%)三部分成绩组成; 6. 奖励分的计算公式:所在专业最高奖励分>5分时,按照等效奖励分计算,等效奖励分=(学生实际获得奖励分/当年所在专业奖励分最高分)*5;所在专业最高奖励分≦5分时,按照实际加分进行计算。 关于推免生综合评定中的奖励分,由学院推免生工作领导小组组织专家根据学生提交的有关成果与奖励证明原件,参照《华中科技大学关于推荐本科生免试攻读硕士和直接攻读博士学位研究生奖励细则》,讨论后决定申请者的奖励分,并公示奖励分的评比结果。 第八条经学校发文确定为推免生的,不纳入当年本科毕业生协议就业计划;留学出国生申请放弃保研资格,留学出国中将不出具成绩证明,并纳入诚信档案,寄送相关国外申请高校。 第九条推免生出现下列情况之一的,取消其推荐资格: 1.在申请推免生过程中发现有弄虚作假行为的; 2.违反校纪校规,受到学校纪律处分,或被追究法律责任的; 3.本科毕业时不能获得学士学位的。 第十条复试方法: 复试包括专业知识、综合素质和能力、外语听力及口语与思想政治品德等考核内容。 (1)专业考核:包括笔试和面试两部分

光学薄膜技术第三章 薄膜制造技术

第三章薄膜制造技术 光学薄膜可以采用物理汽相沉积(PVD)和化学液相沉积(CLD)两种工艺来获得。CLD工艺简单,制造成本低,但膜层厚度不能精确控制,膜层强度差,较难获得多层膜,废水废气对环境造成污染,已很少使用。 PVD需要使用真空镀膜机,制造成本高,但膜层厚度能够精确控制,膜层强度好,目前已广泛使用。 PVD分为热蒸发、溅射、离子镀、及离子辅助镀等。 制作薄膜所必需的有关真空设备的基础知识 用物理方法制作薄膜,概括起来就是给制作薄膜的物质加上热能或动量,使它分解为原子、分子或少数几个原子、分子的集合体(从广义来说,就是使其蒸发),并使它们在其他位置重新结合或凝聚。 在这个过程中,如果大气与蒸发中的物质同时存在,那就会产生如下一些问题: ①蒸发物质的直线前进受妨碍而形成雾状微粒,难以制得均匀平整的薄膜; ②空气分子进入薄膜而形成杂质; ③空气中的活性分子与薄膜形成化合物; ④蒸发用的加热器及蒸发物质等与空气分子发生反应形成 化合物,从而不能进行正常的蒸发等等。 因此,必须把空气分子从制作薄膜的设备中排除出去,这个 过程称为抽气。空气压力低于一个大气压的状态称为真空, 而把产生真空的装置叫做真空泵,抽成真空的容器叫做真空 室,把包括真空泵和真空室在内的设备叫做真空设备。制作 薄膜最重要的装备是真空设备. 真空设备大致可分为两类:高真空设备和超高真空设备。二 者真空度不同,这两种真空设备的抽气系统基本上是相同 的,但所用的真空泵和真空阀不同,而且用于真空室和抽气 系统的材料也不同,下图是典型的高真空设备的原理图,制 作薄膜所用的高真空设备大多都属于这一类。 下图是超高真空设备的原理图,在原理上,它与高真空设备 没有什么不同,但是,为了稍稍改善抽气时空气的流动性, 超高真空设备不太使用管子,多数将超高真空用的真空泵直 接与真空室连接,一般还要装上辅助真空泵(如钛吸气泵) 来辅助超高真空泵。 3.1 高真空镀膜机 1.真空系统 现代的光学薄膜制备都是在真空下获得的。普通所说的 真空镀膜,基本都是在高真空中进行的。 先进行(1)然后进行(2)。因为所有的(超)高真空泵只有在真空室的压力降低到一定程度时才能进行工作,而且在高真空泵(如油扩散泵)中,要把空气之类的分子排出,就必须使排气口的气体压力降低到一定程度。 小型镀膜机的真空系统 低真空机械泵+高真空油扩散泵+低温冷阱

2017电子信息工程考研方向:光电信息工程

2017电子信息工程考研方向:光电信息 工程 光电信息工程 主要课程:电路原理、模拟电子技术、数字电子技术、通信原理、信号与系统、数字信号处理、微机原理及应用、单片机、软件技术基础、物理光学、应用光学、信息光学、光电信息处理基础、光电检测技术、近代光学量测技术、传感器原理、激光技术、光纤通信、光电子学、数字图像处理等。 学制:4年。 授予学位:工学学士。 本专业培养以光电信息工程为主干的光电信号获取、光通信、光电信息处理、光存储、光显示及光电信息应用等信息光电子工程领域的基础知识、基础理论、基本技能,能在工农业生产、国防军工、生物医疗、环境监测、文化娱乐、科学研究等领域相关的行业与部门从事光电技术与系统相关产品的设计、制造、开发、应用、研究、教学、管理、营销等方面工作,德、智、体、美全面发展的复合型高级专门人才。 就业前景:主要在光电信息工程、光电子工程、光通信、计算机、等领域从事科学研究、相关产品设计与制造、科技开发与应用、运行管理等工作。 光电信息技术是由光学、光电子、微电子等技术结合而成的多学科综合技术,涉及光信息的辐射、传输、探测以及光电信息的转换、存储、处理与显示等众多的内容。光电信息技术广泛应用于国民经济和国防建设的各行各业。近年来,随着光电信息技术产业的迅速发展,对从业人员和人才的需求逐年增多,因而对光电信息技术基本知识的需求量也在增加。光电信息技术以其极快的响应速度、极宽的频宽、极大的信息容量以及极高的信息效率和分辨率推动着现代信息技术的发展,从而使光电信息产业在市场的份额逐年增加。在技术发达国家,与光电信息技术相关产业的产值已占国民经济总产值的一半以上,从业人员逐年增多,竞争力也越来越强。 提供此专业的院校: 清华大学、北京航空航天大学、天津大学、哈尔滨工业大学、浙江大学、电子科技大学、四川大学、杭州电子科技大学、中国计量学院、南京理工大学紫金学院、重庆大学、南京邮电大学、南京理工大学、华中科技大学、哈尔滨理工大学、长春理工大学、西安邮电学院、山东轻工业学院、中北大学、深圳大学、华南师范大学、西安工业大学、常熟理工学院、上海电力学院、上海理工大学、南昌航空大学、暨南大学、南昌理工学院、大连海事大学以及长沙大学等。 光电信息工程A++专业排名 1.浙江大学 2.清华大学 3.天津大学 4.哈尔滨工业大学 5.北京航空航天大学 6.复旦大学 这个排名是传统排名,随着各个学校的光电国家实验室的建设,各个排名也发生了不小

专业光信息科学与技术光学与光电子基础实验授课计划表辅导模板

院( 系) 别: 光电工程学院/ 第二学期主讲: 丁松峰 专业: 光信息科学与技术光学与光电子基础实验授课计划表辅导: 丁松峰 班级: B080403 ( 考查) 审查(系、中心): 课程编号: B0402031C 学时: 24 学分: 1.5 批准(院系): 第1页填表日期: 2月 23 日

教材: 光学与光电子基础实验指导书.南京邮电大学光电工程学院( 自编) 参考书: [1] 周炳琨, 高以智等.激光原理( 第四版) .北京: 国防工业出版社, [2] 石顺祥, 张海兴, 刘劲松.物理光学与应用光学.西安: 西安电子科技大学出版社, [3] 杨之昌, 马秀芳.物理光学实验.上海: 复旦大学出版社, 1993

院( 系) 别: 光电工程学院/ 第二学期主讲: 孙晓芸 专业: 光信息科学与技术光学与光电子基础实验授课计划表辅导: 孙晓芸 班级: B080404 ( 考查) 审查(系、中心): 课程编号: B0402031C 学时: 24 学分: 1.5 批准(院系): 第1页填表日期: 2月 23 日

教材: 光学与光电子基础实验指导书.南京邮电大学光电工程学院( 自编) 参考书: [1] 周炳琨, 高以智等.激光原理( 第四版) .北京: 国防工业出版社, [2] 石顺祥, 张海兴, 刘劲松.物理光学与应用光学.西安: 西安电子科技大学出版社, [3] 杨之昌, 马秀芳.物理光学实验.上海: 复旦大学出版社, 1993

院( 系) 别: 光电工程学院/ 第二学期主讲: 沈骁 专业: 光信息科学与技术光学与光电子基础实验授课计划表辅导: 沈骁 班级: B080405 ( 考查) 审查(系、中心): 课程编号: B0402031C 学时: 24 学分: 1.5 批准(院系): 第1页填表日期: 2月 23 日

电子科技大学2018年《物理光学 》硕士研究生考研大纲_电科考研论坛

电子科技大学2018年《物理光学》硕士研究生考研大纲考试科目840物理光学考试形式笔试(闭卷) 考试时间180分钟考试总分150分 一、总体要求 主要考察学生掌握《物理光学》的基本知识、基本理论的情况以及分析和解决物理光学问题的能力。 二、内容及比例 1.光的电磁理论(约25%) 光波在各向同性介质中的传播特性(光波的波长或频率范围,光波区别于其它电磁波的特性,光强、折射率、时谐均匀平面波、光程) 光波的偏振特性(五种偏振光的概念以及之间的关联、左旋与右旋光波、偏振度) 光波在各向同性介质分界面上的反射和折射特性(反射定律和折射定律、菲涅耳公式、反射率与透射率、全反射、布儒特性定律、半波损失、附加光程差) 光波场的频率谱(时间频谱与空间频谱、实际光波与时谐均匀平面波的关联) 时谐均匀球面波(波函数) 2.光的干涉(约20%) 光的干涉现象及其基本原理(波叠加原理、相干与不相干) 光的相干条件和获得相干光的方法 双光束干涉(分波面与分振幅) 多光束干涉(高反射率膜、多层介质膜) 单层光学薄膜(增透或增反的条件) 迈克耳逊干涉仪和F-P干涉仪(结构、原理及应用) 光的相干性(部分相干、时间相干与空间相干性的起源和表征) 3.光的衍射(约20%) 光的衍射现象及其基本原理(衍射现象明显与否的条件、基尔霍夫衍射积分的近似条件、衍射的分类及处理方法) 夫琅和费单缝衍射、圆孔衍射、多缝衍射 光学成像系统的衍射和分辨本领 光栅(光栅方程、分光性能、闪耀光栅的特性) 菲涅耳圆孔和圆屏衍射、波带片 4.晶体光学(约25%) 光波在各向异性介质中的传播特性(介电张量、单色平面波在晶体中的相速度和光线速度、菲涅耳方程、光在单轴晶体中的传播、单轴晶体的折射率椭球和折射率面) 光波在单轴晶体界面的双反射和双折射

光电技术与实验

《光电技术》课程是光电信息科学与工程类专业(包括光信息科学与技术、电子信息科学与技术、电子科学与技术、信息工程、测控技术与仪器、光电信息工程和应用物理学)的专业基础必修课。是一门以光电子学为基础,将光学技术、现代微电子技术、精密机械及计算机技术紧密结合,成为获取光信息或借助光提取其他信息的重要手段。对培养光电信息科学与工程类人才的基本工程技术能力非常重要。 它将电子学中的许多基本概念与技术移植到光频段,解决光电信息系统中的工程技术问题。这一先进技术使人类能更有效地扩展自身的视觉能力,使视觉的长波延伸到亚毫米波,短波延伸紫外、X射线、射线,乃至高能粒子,并可在飞秒级记录超快现象的变化过程。光电技术在现代科技、经济、军事、文化、医学等领域发挥着极其重要的作用,以此为支撑的光电子产业是当今世界争相发展的支柱产业,是竞争激烈、发展最快的信息技术产业的主力军。光电技术迅速发展,半导体激光器、上千万像素的CCD与CMOS固体图像传感器、PIN与APD光电二级管及液晶显示等在工业与民用领域随处可见,热成像技术也已广泛应用于军事和工业领域。光电技术不断渗透到国民经济的各个方面,成为信息社会的支撑技术之一。该课程以基本物理理论为基础,讲解光电器件的工作原理及特性,使学生掌握应用这些光电器件的方法。在光电变换与信号处理中,以光电器件的应用为主导,课堂讲解与辅助作业相结合的形式,引导学生应用光电器件来解决光电变换与信号处理问题,使学生能够把握光电技术的总体框架,有兴趣、有信心地投入到创新活动实践中,培养学生独立思考的习惯和解决实际工程问题的能力。 在教育部高等学校光电信息科学与工程类专业指导性专业规范中,《光电技术与实验》是该类专业的专业基础必修课。因此,我校光信息科学与技术、电子信息科学与技术及电子科学与技术等专业自2000年起开设了《光电技术》课程并延续至今。我院的光信息科学与技术、电子信息科学与技术两个专业都开设了光电技术课程,内容主要是光电器件和红外,但在理论深度和范围上有所区别,光信息科学与技术专业由于开设了光学、半导体光电子学等课程,有良好的基础,因为课程的理论深度更深,涉及的光电技术领域也更广。此外,对于光信科和电信科两个专业,讲授内容方面各有侧重,对光信息专业,在光电器件方面讲授的内容多一些。 为适应新世纪人才培养,2004年学校对本科教学计划进行了较大的调整,为了适应新的改革形势,保证教学质量,我院将光电信息科学类课程整合作为一个重要教研项目进行立项研究,这次调整强调了光电技术课程的重要性,在“厚基础、宽口径”的培养战略指导下,搭建起以光电技术为核心的光信息平台,作为光信息科学与技术专业的专业必修课。光电技术课程理论课学时调整到40学时,实验部分单独设课,加强到24学时,强化了综合实验的内容,强调基本技能训练和学生综合能力的培养,并使学生的创新意识和动手能力得到训练和加强。同时为适应课程的改革需要,光电技术课程组自编了《光电信息技术实验》和《光电技术》部分讲义,实验教材中突出了与信息学科相关的光电技术知识以及光电器件在信息技术中的应用知识。目前光电信息技术实验作为开放性实验面向全校供相关专业选修。 近10年来,伴随着专业建设和发展,光电技术课程已发展成为拥有一支素质良好、勇于创新的教师队伍,先进的教学体系、教学方法和教学手段的重要基础课程,光电技术课程建设和发展将为培养面向二十一世纪的新型复合型人才做出更大的贡献。

光电技术与光电检测技术概述

光电技术与光电检测技术概述 摘要:光电技术是以激光,红外,微电子等为基础的,由光学、精密机械、电子和计算机技术结合而成的高新技术。光电检测技术是光电技术中最主要最核心的部分,它主要包括光电变换技术、光信息获取与光信息测量技术 以及测量信息的光电处理技术等。如用光电方法实现各种物理量的测量,微光、弱光测量,红外测量,光扫描、光 跟踪测量,激光测量,光纤测量,图象像测量等。它集中发展了光学和电子固有的技术优势,形成了许多崭新功能和良好的技术性能,在国民经济、国防、科学研究等各方面有着广泛的应用和巨大的潜力,成为新技术革命时代和信息社会的重要技术支柱,受到了各方面重视,从而得到了快速发展。 关键词:光电技术光电检测技术 引言 在当前信息化社会中,光电技术已成为获取光学信息或提取他信息的手段。它是人类能更有效地扩展自身能力,使视觉的长波延长到亚毫米波,短波延伸至X射线、γ射线,乃至高能粒子。并且可以在飞秒级记录超快速现象,如核反应、航空器发射等的变化过程。而且光电检测技术是一种非接触测量的高新技术,是光电技术的核心和重要组成部分。通过光电检测器件对载荷有被检测物体信息的光辐射进行检测,并转换为电信号,经检测电路、A/D变换接口输入微型计算机进行运算、处理,最后得出所需检测物的几何量或物理量等参数。因此,光电检测技术是现代检测技术的重要手段和方法,是计量技术的一个重要发展方向。 一、光电技术与光电检测技术的含义 现代科学技术发展的一个显著性特点是纵横交叉,彼此渗透,边缘科学不断露头和进展迅速。由于光学现象可以进行近似线性化使它可以采用有关线性系统的一般原理,因此在电系统中的许多行之有效的理论和分析方法都可以移植到光学中来。随着大规模集成电路的发展,光学也开始向集成化发展。 光电技术是以激光,红外,微电子等为基础的,由光学、精密机械、电子和计算机技术结合而成的高新技术。它集中发展了光学和电子固有的技术优势,形成了许多崭新功能和良好的技术性能,在国民经济、国防、科学研究等各方面有着广泛的应用和巨大的潜力,成为新技术革命时代和信息社会的重要技术支柱,受到了各方面重视,从而得到了快速发展。 光电检测技术是光电技术中最主要最核心的部分,它主要包括光电变换技术、光信息获取与光信息测量技术以及测量信息的光电处理技术等。如用光电方法实现各种物理量的测量,微光、弱光测量,红外测量,光扫描、光跟踪测量,激光测量,光纤测量,图象像测量等。 光电检测技术将光学技术与电子技术相结合实现对各种量的测量,是21世纪的尖端科学,它将对整个科学技术的发展起着巨大的推动作用。同时它本身涵盖了众多的科学技术,它的发展带动了众多科学技术的发展,并在交流与发展的过程中,形成了巨大的光电产业。 二、光电技术与光电检测技术的发展 光电技术与光电检测技术的发展主要是在1960年成功研制红宝石激光器以后,接着又发明了He-Ne激光的气体激光器和GaAs半导体激光器等。激光器的发明为光电技术与光电检测技术的发展给与了革命性的推动,因为它不断给光电检测器提供主动照明的可能,而且有了传送、接收和加工

华科工程力学考试试卷

一、如图所示结构,杆AC 、CD 、DE 铰链连接。已知AB=BC=1m ,DK=KE ,F =1732kN ,W =1000kN ,各杆重量略去不计,试求A 、E 两处的约束力。(12 分) 一、如图所示结构,杆AB 、CD 、AC 铰链连接,B 端插入地内,P =1000N ,作用于D 点,AE=BE=CE=DE=1m ,各杆重量略去不计, 求AC 杆内力?B 点的反力?(12分) D

二、 如图,阶梯钢杆的上下两端在T 1=5℃时被固定,杆的上下两段的面积分别为A 1=5cm 2, A 2=10cm 2,当温度升至T 2=25℃时,求各杆的温度应力。(线膨 胀系数C 0 610512/.-?=α,钢杆材料弹性模量E=200GPa ,不计杆自重,) (12 分)

二、如图,杆二端固定,横截面面积为A =10cm 2,在截面C 、D 处分别作用F 和2F 的力,F =100kN ,弹性模量E=200GPa 。不计杆自重,求各段应力。(12分) 解: 受力分析如图, 建立平衡方程, A B AC CD DB A A AD CD B BD A B A AC A CD B BD 23(2)0 (3)0.4 ()0.50.37 :116.7kN 6 183.3kN (4)AC : 116.7MPa()()CD : 6.7MPa() BD :183.3MPa(F F F F F F F F EA EA F EA F F F F A F F A F A δδδδδδσσσ+=+=++=?-?==-?======-====变形协调条件, 力与变形的物理关系, 联立求解得各段的应力为,段拉段拉段)压 2 F B F D 2B F A

光电成像原理与应用复习资料

1、光电效应应按部位不同分为内光电效应和外光电效应,内光电效应包括(光电导)和(光伏效应)。 2、真空光电器件是一种基于(外光电)效应的器件,它包括(光电管)和(光电倍增管)。 3、光电导器件是基于半导体材料的(光电导)效应制成的,最典型的光电导器件是(光敏电阻)。 4、硅光电二极管在反偏置条件下的工作模式为(光电导),在零偏置条件下的工作模式为(光伏模式)。 5、变象管是一种能把各种(不可见)辐射图像转换成为(可见)图像的真空光电成像器件。 6、固体成像器件电荷转移通道主要有两大类,一类是(SCCD),另一类是(BCCD)。 7、光电技术室(光子技术)和(电子技术)相结合而形成的一门技术。 8、场致发光有(直流)、(交流)和结型三种形态。 9、常用的光电阴极有(正电子亲合势光电阴极)和(负电子亲合势光电阴极),正电子亲和势材料光电阴极有哪些(Ag-O-Cs,单碱锑化物,多碱锑化物)。 10、根据衬底材料的不同,硅光电二极管可分为(2DU)型和(2CU)型两种。 11、像增强器是一种能把(微弱)增强到可以使人眼直接观察的真空光电成像器件,因此也称为(微光管)。 12、光导纤维简称光纤,光纤有(纤芯)、(包层)及(外套)组成。 13、光源按光波在时间,空间上的相位特征可分为(相干)和(非相干)光源。 14、光纤的色散有材料色散、(波导色散)和(多模色散)。 15、光纤面板按传像性能分为(普通OFP)、(变放大率的锥形OFP)和(传递倒像的扭像器)。 16、光纤的数值孔径表达式为(),它是光纤的一个基本参数、它反映了光纤的(集光)能力。 17、真空光电器件是基于(外光电)效应的光电探测器,他的结构特点是有一个(真空管),其他元件都置于(真空管)。 18、根据衬底材料的不同,硅光电电池可分为(2DR)型和(2CR)型两种。 19、根据衬底材料的不同,硅光点二、三级管可分为(3DU)型和(3CU)型两种。 20、为了从数量上描述人眼对各种波长辐射能的相对敏感度,引入视见函数V(f), 视见函数有(明视见函数)和(暗视见函数)。 21、PMT有哪几部分组成?并说明店子光学系统的作用是什么?PMT的工作原理? PMT主要由入射窗口、光电阴极、电子光学系统、电子倍增系统和阳极五个主要部分组成。 电子光学系统的主要作用有两点: 1、使光电阴极发射的光电子尽可能全部汇聚到第一倍增极上,而将其他部分的杂散热电子散射掉,提高信噪比. 2 . PMT的工作原理 1.光子透过入射窗口入射在光电阴极K上 2.光电阴极K受光照激发,表面发射光电子 3.光电子被电子光学系统加速和聚焦后入射到第一倍增极D1上,将 发射出比入射电子数更多的二次电子。入射电子经N级倍增后, 光电子数就放大N次. 4.经过倍增后的二次电子由阳极P收集起来,形成阳极光电流I p,在负载R L上产生信号电压U0。 22、PMT的倍增极结构有几种形式?个有什么特点? 鼠笼式,盒栅式,直线聚焦型,百叶窗式,近贴栅网式,微通道板式。 23、什么是二次电子?并说明二次电子发射过程的三个阶段是什么?光电子发射过程的三步骤? 答:当具有足够动能的电子轰击倍增极材料时,倍增极表面将发射新的电子。称入射的电子为一次电子,从倍增极表面发射的电子为二次电子。 二次电子发射过程的三个阶段: 1) 材料吸收一次电子的能量,激发体内电子到高能态,这些受激电子称为内二次电子; 2) 内二次电子中初速指向表面的那一部分向表面运动,在运动中因散射而损失部分能量; 3) 到达界面的内二次电子中能量大于表面势垒的电子发射到真空中,成为二次电子。 24、简述Si-PIN光电二极管的结构特点,并说明Si-PIN管的频率特性为什么比普通光电二极管好?p69 25、简述常用像增强器的类型?并指出什么是第一、第二和第三代像增强器,第四代像增强器在在第三代基础上突破的两个技术室什么?p130 1). 级联式像增强器2) 第2代像增强器(微通道板像增强器)3).第3代像增强器4).第4代像增强器 26、什么是光电子技术?光电子技术以什么为特征? 光电子技术是:光子技术与电子技术相结合而形成的一门技术。主要研究光与物质中的电子相互作用及其能量相互转

21世纪的光电技术

21世纪的光电技术 1.1光电技术 光电技术是光学技术与电子学技术相结合而形成的一门技术。它是将传统的光学技术与现代微电子技术和计算机技术紧密结合在一起的一门高新技术。 首先,微电子技术的概况。 微电子的发展最早起源于1954年巴丁,肖克莱等人在美国贝尔实验室发明了固态晶体管。经过近半个世纪的发展,微电子技术已成为信息技术的基石。 在微电子技术中,信息的存储,传输,处理等都是靠电子,严格说是电子流来完成的。 所以,微电子技术的特征是以电子作为信息的载体。 我们用的手机,计算机和其他的一些家用电器中都用到了微电子技术。 其次,在微电子技术蓬勃发展的同时,人们发现可以利用光电各自的优势为我们服务。比如光电探测器,激光器,太阳电池如等方面都需要光电结合。这就是早期的光电子学。极光形成 极光(Aurora、Aurora Borealis、Polar light或Northern light)出现于星球的高磁纬地区上空,是一种绚丽多彩的发光现象。而地球的极光,来自地球磁层和太阳的高能带电粒子流(太阳风)使高层大气分子或原子激发(或电离)而产生。极光产生的条件有三个:大气、磁场、高能带电粒子。这三者缺一不可。极光不只在地球上出现,太阳系内的其他一些具有磁场的行星上也有极光。 随着科技的进步,极光的奥秘也越来越为我们所知——原来,这美丽的景色是太阳与大气层合作表演出来的作品。在太阳创造的诸如光和热等形式的能量中,有一种能量被称为“太阳风”。太阳风是太阳喷射出的带电粒子,是一束可以覆盖地球的强大的带电亚原子颗粒流,因而属于等离子态。太阳风在地球上空环绕地球流动,以大约每秒400公里的速度撞击地球磁场。地球磁场形如漏斗,尖端对着地球的南北两个磁极,因此太阳发出的带电粒子数位合成画面沿着地磁场这个“漏斗”沉降,进入地球的两极地区。两极的高层大气,受到太阳风的轰击后会发出光芒,形成极光。在南极地区形成的叫南极光,在北极地区形成的叫北极光。 1.2光电技术发展简史 第一部分:光电探测器问世(光电转换的器件) 1873年英国W.R.史密斯发现了硒的光电导特性 1888年德国H.R.赫兹观察到紫外线照射到金属上时,能使金属发射带电粒子 1890年勒纳对带电粒子的电荷质比的测定,证明它们是电子,由此弄清了外光电效应的实质1929年L.R.科勒制成银氧铯(se)光电阴极,出现光电管 1939年苏联V.K.兹沃雷制成实用的光电倍增管 30年代末PbS(硫化铅)红外探测器问世,室温下探测到3μm波长的辐射 40年代出现了用半导体材料制成的温差型红外探测器和测辐射热计 50年代末美国将探测器用于代号为响尾蛇的空空导弹 50年代中可见光波段的硫化镉(CdS),硒化镉(CdSe)光敏电阻和短波红外硫化铝光电探测器投入使用 1958年英国劳森等发明镉汞(MCT)红外探测器

《薄膜光学与技术》期末测验试题A答案

《薄膜光学与技术》期末测验试题A答案

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2012-2013学年第1学期《薄膜光学与技术》期末考试试题(A 卷) 参考答案及评分标准 一、填空题 (每空1分,共24分) 1、在折射率为3.5的基底表面镀单层减反射膜,对于4000nm 的光波,理论上能达到最佳减反射效果的薄膜折射率为: 1.8708 ,需要镀制的薄膜光学厚度为 1000 nm 。 2、若薄膜的折射率为n ,光线在薄膜内的折射角为θ,则s 、p 光的修正导纳分别为 ncos θ 、 n/cos θ 。 3、对于波长为λ的光来说,单层膜的光学厚度每增加 λ/4 ,薄膜的反射率就会出现一次极值变化。当薄膜的折射率小于基底折射率时,出现的第一个反射率极值是 极小 (极大、极小)值。 4、虚设层的形成条件是: 薄膜的光学厚度等于半波长的整数倍 。 5、周期性对称膜系(pqp)s 的等效折射率和 基本周期/pqp 的等效折射率完全相同,其等效位相厚度等于 基本周期的s 倍 。 6、折射率为n 1,光学厚度为λ0/4,基底的折射率为n s ,那么,该单层膜与基底的组合导纳为: s n n Y 21 7、介质高反射膜的波数宽度仅与两种膜料的 折射率 有关,折射率 差值越大 ,高反射带越宽。 8、热偶真空规是通过测量温度达到间接测量 真空 的目的。 9、镀膜室内真空度高表明气体压强 小 ,真空度低则气体压强 大 。 10、薄膜几何厚度的监控通常用 石英晶振 膜厚仪来实现,光学厚度常常采用 光电 膜厚仪来监控。 11、采用PVD 技术制造薄膜器件时,薄膜折射率的误差主要来自三个方面: 膜层的聚集密度 、 膜层的微观组织物理结构 、 膜层的化学成分 。 12、改善膜层厚度均匀性的措施包括 旋转夹具 和 膜层厚度调节板 。 13、采用光电极值法监控膜厚,如果需要镀制光学厚度为900nm 的薄膜,在

南京理工大学2016年电子工程与光电技术学院春电A1类综合实验课程安排

南京理工大学2016年电子工程与光电技术学院春电A1类综合实验课 程安排 115104000450李文男A1电子工程与光电技术学院 115104000454张婷女A1电子工程与光电技术学院 115104000460张峻乾男A1电子工程与光电技术学院 115104000463肖悦女A1电子工程与光电技术学院 115104000513朱炳斐女A1电子工程与光电技术学院 515104001627郑南女A1电子工程与光电技术学院 515104001647林天衣女A1电子工程与光电技术学院 115104000519彭安男A1电子工程与光电技术学院 115104000521席家祯男A1电子工程与光电技术学院 115104000522王凯男A1电子工程与光电技术学院 115104000523余启迪男A1电子工程与光电技术学院 115104000524周宏健男A1电子工程与光电技术学院 115104000526张明男A1电子工程与光电技术学院 115104000527张慧莎女A1电子工程与光电技术学院 115104000528徐艳卉女A1电子工程与光电技术学院 115104000529滑亚腾男A1电子工程与光电技术学院 115104000530施雁佳女A1电子工程与光电技术学院

115104000531赵艳飞女A1电子工程与光电技术学院115104000533张杭鸿男A1电子工程与光电技术学院115104000534印倩女A1电子工程与光电技术学院115104000535季晓宇男A1电子工程与光电技术学院115104000536吴章辉男A1电子工程与光电技术学院115104000537荣志鹏男A1电子工程与光电技术学院115104000538陈全刚男A1电子工程与光电技术学院115104000539高磊男A1电子工程与光电技术学院115104000540顾竹鑫男A1电子工程与光电技术学院115104000541徐海艳女A1电子工程与光电技术学院115104000542杨俊翔男A1电子工程与光电技术学院115104000543李文荣男A1电子工程与光电技术学院115104000544陈东旭女A1电子工程与光电技术学院115104000545罗晨男A1电子工程与光电技术学院115104000547薛光男A1电子工程与光电技术学院115104000548殷秋鹏男A1电子工程与光电技术学院115104000549陈栋志男A1电子工程与光电技术学院115104000550孙朦朦女A1电子工程与光电技术学院115104000551许传栋男A1电子工程与光电技术学院

华中科技大学工程力学实验题

(2010年4月23-25南京基础力学实验研讨会交流专用) 题目1-6:含内压薄壁圆筒受弯、扭组合载荷时内力素的测定 如图所示薄壁圆筒用不锈钢1C r 18N i 9T i 制造,材料弹性模量202G P a E =,泊松比 0.28μ=,圆筒外径D =40mm ,内径d =36.40mm 。采用5个60N 砝码逐级加载。 1. 计算每个载荷增量下图中I-I 截面内力的理论值: 答案: 3 60100.31860600.2515600.2615.6I I II II T F l N m F F N M M F l N m M M F l N m =?=??=?====?=?=?==?=?=?理Q 理理理 2. 为了测量图中I-I 截面弯矩,可采用什么形式的测量电桥?用图形表示测量电桥,并推导出测量仪器应变读数与所求弯矩之间的关系。 答案:由m 和n 两点的应变片组成半桥测量,电桥图略。 () 3 4 162 1M du M z E M M W D εσπα= = = - () ()()3 4 3 4 9 6 1(N m )64 0.0410.91 20210 10 64 0.1994(με) M du M du M du ED M παεπεε--∴?= ??-??= ??=? 3. 为了测量图中I-I 截面扭矩,可采用什么形式的测量电桥?用图形表示测量电桥,并推 导出测量应变仪器读数与所求扭矩之间的关系。 答案:由e 、f 和g 、h 点组成全桥测量电路。对于e 、f 和g 、h 点,是纯剪切应 支架 放气栓 注油接头 k 270 260 250 240 300 F m be cn d fah g(a) 水平线 水平线h g amb ec ndf 5 4o 4o5 ⅠⅠ-Ⅱ-ⅡⅡⅡ ⅠⅠ图1-1 薄壁圆筒实验装置 (b) g h am bec nd f (c) 图1 薄璧圆筒弯扭实验装置

现代光电技术的发展及探讨

天津大学网络教育学院 专科毕业论文 题目:现代光电技术的发展及探讨完成期限:2013年7 月5 日至2013年11 月5 日 学习中心福建共赢年级 专业光电子技术指导教师 姓名学号112211473011

摘要 光电子是指光波波段,即红外线、可见光、紫外线和软X射线(频率范围 3×1011Hz~3×1016Hz或波长范围1mm~10nm)波段的电子。在经过80年代与其相关技术相互交叉渗透之后,90年代,其技术和应用取得了飞速发展,在社会信息化中起着越来越重要的作用。本篇论文以光电子技术作为核心,阐述了光电子产生的原理,光电子在现代技术的应用以及近年光电子技术的新的研究与发现。最后对现代光电子技术在未来的发展方向进行了思考和探讨。 关键字:光电子;技术;应用;发展

现代光电技术的发展及探讨 一、光电子 (一)光电子产生的原理 光(电磁波)束具有粒子性而电子流(尤其是高能电子流)具有波动性,所以光电子的传播方式大致与光的传播方式相同。所以我首先总结一下光的传播[1]。 从波动性的方面讲:1. 光的传播是首先一种横波的传播,电场、磁场的振动方向与传播方向两两正交由右手螺旋定则确定,由此导致了光的偏振性;2. 光的传播满足费马的最快路径原理,由此导致了折射定律,也就有了光电子技术中常用的晶体双折射现象;3. 光的波动性决定了光能够干涉衍射。从粒子性的方面讲:1. 光子有能量,有质量,有动量,所以在扭曲的引力场中会弯曲,并且在内光电效应中会有一个最小频率以及反向截止电压;2. 光子有自旋,且自旋的量子数为整数。从光子与电子传播的区别方面:最关键的区别在于光的传播不必有介质且可在非金属导体中传播而电子的传播必须有金属导体传导。 光孤子是光电子,孤立波的特性就是传播很远的距离而不减弱。我们数学中最常用的两个例子是神经中信号的传导由Hudgkin-Huxley Equation确定界面是孤立子以及浅水波KdV (Kortweg-de Vries)的界面也是孤立子。在光纤的反常色散区,由于色散和非线性效应相互作用,可产生一种非常引人注目的现象-光学孤子。孤子是一种特别的波,它可以传输很长的距离而不变形,特别适用于超长距离、超高速的光纤通信系统[2]。 (二)光电子种类和光电子学 光电子是光子和电子的结合的一种电磁波,电磁波可以按照频率由小到大划分为以无线电波、微波、紫外线、可见光、红外线、x射线、γ射线等。光波代替无线电波作为信息载体,实现光发射、控制、测量和显示等。通常有关无线电频率的几乎所有的传统电子学概念、理论和技术,如放大、振荡、倍频、分频、调制、信息处理、通信、雷达、计算机等,原则上都可延伸到光波段。 由光学和电子学相结合而形成的新技术学科。电磁波范围包括X射线、紫外线、可见光和红外线。它涉及将这些辐射的光图像、信号或能量转换成电信号或电能,并进行处理或传送;有时则将电信号再转换成光信号或光图像。它以光波代替无线电波作为信息载体,实现光发射、控制、测量和显示等。通常有关无线电频率的几乎所有的传统电子学概念、理论和技术,如放大、振荡、倍频、分频、调制、信息处理、通信、雷达、计算机等,原则上都可以延伸到光波段。在激光领域中,激光器提供光频的相干电磁振荡源,光电子学是指光频电子学。光电子学有时也狭义地专指光- 电转换器件及其应用的领域。光电子学还包括光电子能谱学。它是利用光

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