集成电路布图设计合同纠纷
案件分类:（1）集成电路布图设计创作合同纠纷;（2）集成电路布图设计专有权转让合同纠纷; (3) 集成电路布图设计许可使用合同纠纷.
一、集成电路布图设计合同的含义
集成电路布图设计合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计的创作、有关权利的转让和许可使用等内容所订立的合同而发生的纠纷。集成电路布图设计创作合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计的创作所订立的合同而发生的纠纷。包括委托创作合同纠纷和合作创作合同纠纷。集成电路布图设计专有权转让合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计专有权的转让所订立的合同而发生的纠纷。集成电路布图设计许可使用合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计的许可使用所订立的合同而发生的纠纷。
二、集成电路布图设计合同纠纷的诉讼管辖
由于合同标的物所涉集成电路布图的特殊性，最髙人民法院对集成电路布图设计合同纠纷管辖作出了特殊规定，即相关案件的受理必须遵守最髙人民法院关于指定管辖和级别管辖的相关规定。根据最高人民法院《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》的规定，该通知第1条所列第（5）至（10）类案件，由北京市第一中级人民法院作为第一审人民法院审理；其余各类案件，由各省、自治区、直辖市人民政府所在地，经济特区所在地和大连、青岛、温州、佛山、烟台市的中级人民法院作为第一审人民法院审理。
三、确定集成电路布图设计合同纠纷案由应当注意的问題
集成电路布图设计相对而言是一类比较新型的知识产权。《规定》将涉及集成电路布图设计合同纠纷单列为一类知识产权合同纠纷，并在作为第三级案由的同时分列了3个四级案由。最髙人民法院《关于审理技术合同纠纷案件适用法律若干问题的解释》第46条第1款规定：“集成电路布图设计、植物新品种许可使用和转让等合同争议，相关行政法规另有规定的，适用其规定；没有规定的，适用合同法总则的规定，并可以参照合同法第十八章和本解释的有关规定处理。”该款规定只涉及集成电路布图设计合同案件的法律适用问题，不涉及案由确定问题。除非合同主要权利义务是关于利用集成电路布图设计提供咨询、服务和培训，不应将有关争议确定为《规定》中的技术合同纠纷。集成电路布图设计创作合同纠纷包括因合作创作和委托创作发生的合同纠纷，但涉及专有权权属纠纷的除外。对于当事人之间因集成电路布图设计专有权权属发生的争议，应当按照《规定》中集成电路布图设计专有权权属纠纷确定案由。实践中，还存在一种集成电路布图设计代理合同。集成电路布图设计代理合同是委托人与集成电路布图设计代理机构就办理集成电路布图设计登记申请或者办理其他与集成电路布图设计有关事务达成的协议。对于集成电路布图设计代理合同纠纷，《规定》未作出具体列举，但参照专利和商标代理合同纠纷的案由归类，也应当作为集成电路布图设计合同纠纷受理。
四、集成电路布图设计合同纠纷的法律适用
处理此类纠纷的法律依据主要是最高人民法院《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》第1条列举了11类集成电路布图设计纠纷。其中，第（2）项是“布图设计专有权转让合同纠紛案件”，即《规定》在本条确定的案由；第（1）项和第（3）项涉及权属和侵权纠纷，见《规定》集成电路布图设计专有权权属、侵权纠纷；第（4）项涉及临时措施，见《规定》申请诉前停止侵害知识产权案件和申请诉前财产保全；第（5）~(10）项属于行政纠纷。与集成电路布图设计创作合同相关的规定是《集成电路布图设计保护条例》第10条和第11条，最高人民法院《关于审理技术合同纠纷案件适用法律若干问题的解释》第46条第1款。与集成电路布图设计专有权转让合同和许可使用合同相关的规定是《集成电路布图设计保护条例》第22条和《集成电路布图设计保护条例实施细则》第10条第2款和第11条，最高人民法院《关于审理技术合同纠纷案件适用法律若干问题的解释》第46条第1款。与集成电路布图设计代理合同相关的规定是《集成电路布图设计保护条例实施细则》第4条。
五、集成电路布图设计保护的客体及保护要件
针对集成电路的知识产权保护，其客体为布图设计，这一点已是学界共识。因此我们在此需要讨论的是布图设计的内涵和外延，并且讨论的结果在以版权法为主导的保护模式下应当是合乎逻辑的解释。
依据《华盛顿条约》和我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，集成电路是指以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。相应地，《条约》和《条例》也阐释了布图设计的含义，布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互
连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。如果纯粹从字面意义出发来理解这两个概念，我们还是很难有比较直观且准确的认识。甚至可能误以为知识产权法保护的集成电路布图设计只是一种三维形态的工艺模型或
产品。所以我们有必要来了解一下整个集成电路芯片的设计过程。芯片的产生通常包括逻辑设计和工艺（布图）设计两个过程。所谓逻辑设计，顾名思义，是以问题解决或功能实现为目标而利用导线将诸如寄存器、存储器等基本的逻辑组件连接成一个网表的过程。这一过程基本上是对公知的科学原理的直接应用，从创作的角度看类似于公共素材的利用，设计者是不能将其据为己有的，因此这个步骤中不存在知识产权保护的问题。关键在于第二步骤，即布图设计的完成。布图设计是根据前一步骤的网表以及根据生产制作工艺的规范要求，对集成电路中所有元件及连接各元件之间的连线进行几何配置和布局。这些互连的层次应当尽量以最小的面积实现集成电路的设计要求和满足工艺规范。集成电路的布图设计也常被称为掩膜设计（另外还有布局设计、版图设计等），这是因为布图设计惯以一组类似于照相底片的图形表现出来。只有在布图设计完成之后，才能依据布图设计，通过多次光刻、腐蚀、扩散、离子注入、氧化和积淀等各种制作工序，将这些相关图形逐一叠加、套刻在半导体芯片上，形成三维的布局结构，最终实现集成电路的设计功能。从这一动态的考察中，我们至少可以得到的一点启示是，集成电路的布图设计不是一开始就是以三维的形态出现的，通常都是经过二维向
三维的转化过程的，因此法律所保护的布图设计是一种抽象的表达。理解了这一点，我们再回到法律对集成电路的界定就会发现，布图设计作为一种抽象无形的“设计”，可以为各种形式的载体所体现，故而法律要同时兼顾对中间产品和最终产品的保护。
既然我们倡导以版权法为主导的集成电路布图设计保护模式，就必须首先以构成作品的要件来确定法律保护的布图设计。版权法对作品的要求是具有“独创性”和可以以有形形式复制。而通过上述对布图设计开发过程的研究，我们可以发现一般的布图设计都是凝聚了设计者的艺术创造力并以各种有形形式表现的，即是符合版权法的一般要求的。但法律中总存在着原则与例外的对合及互动，在知识产权这样一个随技术发展而变迁的法域，这种对合与互动则更为明显。集成电路布图设计与传统的作品不同，它是一种工业作品，法律对它的保护要特别考虑工业上的应用性。否则，我们只需要在布图设计构成图形作品或其说明书构成文字作品时给予版权法上的一般保护就可以了。但现实的要求显然不是这样的，它希望我们可以有更为全面的保护体系。因此，对大多数的集成电路布图设计，我们视其为工业版权[15]的客体，提高对其独创性的要求。其实我国《集成电路布图设计保护条例》第4条已经阐释了这种独创性的高度，该条规定：“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”由此可见，集成电路布图设计的独创性要求应当是设计者“自己创造”并且为该领域的“非常规设计”。对于后者的判断属于技术层面的经验性问题，很难列出一般的规则。但有一点可以确定的是，这种“非常规”的要件不追求“非显而易见”的发明跨度，而只要求一定的比常规设计进步的差异性。
除了自己创作和非常规设计的实质要件之外，布图设计要获得知识产权保护还必须符合一定的形式要件。虽然在很大程度上集成电路布图设计可以被视为一种作品，但它毕竟是技术领域的产物，对社会经济的发展有着直接而巨大的影响。因此，与专利相似的是，布图设计要获得法律上确定的授权就必须以一定的方式向社会公众公示其想要保护的东西，从而使之在保护期已过的情况下能够继续增进社会福利。目前各国立法通常认可的两种方式为登记和首次商业利用，我国也不例外。其中对登记的申请采取如同实用新型和外观设计类似的“形式审查”的方式。笔者认为这些具体的有关布图设计保护的形式要件的规则是合理并应当予以维持的。
六、集成电路布图设计保护的内容即权利形态
当我们谈及著作权、专利权、商标权和商业秘密权等知识产权的时候，我们实际上是在描述一族一族不太相同的权利，它们却又有着共同的专有和排他的特性。我们倡导以版权法为主导的保护模式，本来完全可以将有关布图设计的知识产权称为布图设计著作权。但由于这种著作权的特殊性以及为了与目前学界对集成电路布图设计的研究建立对话的平台，笔者在此仍以集成电路布图设计专有权来表述这种新型的知识产权，毕竟这个称谓本身并无不合理的地方。而由于每一类型的知识产权都是一个“权利束”，因此研究其中的具体权能比较具有实践上的价值。
在现有的专门立法和国际公约中，集成电路布图设计专有权首先都只是经济权利的集合，并没有精神权利的存在。与一般作品往往由一个作者单独完成或少数几个作者合作完成不同，集成电路布图设计是在极其严密的分工体系下由一个团队集体完成的，同时还借助了计算机等先进的现代工艺设备。所以可能每一个参与者对整个布图设计的贡献都是微小的，立法者不愿付出过大的制度成本来赋予每一位创作者以精神权利。因为一旦进行这样的赋权，其后必然会牵涉集体管理和群体诉讼等复杂的法律实践难题。而且，诸如“修改权”和“保持作品完整权”这样的精神权利的存在会使集成电路产业技术的发展过多地受制于每一个布图设计专有权人，所以从立法政策的角度考量只能予以舍弃。另外，集成电路布图设计在大多数情况下是一种独特的法人工业作品，最终通过登记或商业利用获得专有权的往往不是这些创作者，而是雇佣他们的投资人，赋予该法人以精神权利显然是不适当的。但笔者个人认为，集成电路布图设计毕竟是智力创作的结晶，设计者可能有期望通过设计成果赢得社会荣誉的心理，所以对于像署名权这样的标表性人身权利可以仿照专利法那样赋予设计者。
按照现行的立法，集成电路布图设计专有权的首要内容就是复制权。因为复制是侵犯布图设计专有权的“源头”，没有未经许可的复制，也就不可能有其他侵权行为的发生。[16]但这里的复制要从实质意义上进行理解，因为在这一点上，我国著作权法第十条对复制权的规定是不甚恰当的。该条规定的复制权，是“以印刷、复印、拓印、录音、录像、翻录、翻拍等方式将作品制作一份或多份的权利。”而实际上，无论是对传统作品的复制还是对布图设计的复制都应当包括抄袭、改编、演绎等更为广泛的情形。这类似于英文的“reproduction”和“copy”的区别。[17]对复制权进行实质意义上的界定有助于集成电路布图设计保护上的周延性。一方面，布图设计作为抽象无形的“设计”，会以视觉图像形式、文字表达形式和物理实体形式等多种样态表现出来[18]，狭义的复制概念无助于判断侵权的存在；另一方面，布图设计作为集成电路的重要基础，只是中间形态的产品，而包含该布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品这些最终产品的保护也要借助对复制概念的宽泛解释。
现行法所规定的布图设计专有权的另一项内容是商业利用权。这是一个开放的概念，通常认为《集成电路布图设计保护条例》第30条第1款第（二）项是对该权利的一般解释。因此，布图设计的商业利用是指“为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计。”规定这一类权利的目的主要是将商业性利用的行为与非商业性利用的行为区别开来，因为后者通常不构成侵权。在某种意义上，我们可以说集成电路布图设计也可以被合理使用。后面笔者还将详细讨论对布图设计专有权的限制，这里不再赘述。笔者个人理解，商业利用权的规定还有另外一方面的操作上的意义，即在发生侵权纠纷时便于计算赔偿数额。因为单纯从布图设计被复制的份数，我们无法知道权利人的损失或侵权的获益。但借助了市场这个中介就比较容易了，具体而言，销售额和进口额就是两个最好的参照标准，以此为基础，权利人的潜在损失也可以合理预期了。回到我们所倡导的以版权法为主导的保护模式，这些权利形态也是完全可以融入其中的。关于复制权，只需要把我国版权法上的规定纠正过来就可以实现两者的一致性了。而销售权和进口权，虽然是接近于专利法上所规定的权利类型，但以发行权解释也并无不妥之处。至于“以其他方式提供布图设计的”权利，我们首先可以扩展版权
法上出租权和展览权的客体范围，其次以“等”字收尾的立法用语也足以涵盖未来可能出现的新的商业利用形态。
七、集成电路布图设计保护的例外即权利的限制
知识产权作为一种特殊的专有权，其在排他效力上不像有形物的所有权那样绝对和完整，因为所有的智力创造都是在汲取了已有的文明成果的基础上产生的，所以法律在进行保护时必然要考虑到社会公众的受益和文化传承的继续，即规定对权利的某些限制。现行法上集成电路布图设计专有权所受的限制主要有以下几个方面。
（一）、反向工程，又称还原工程，是指对他人的布图设计进行分析、评价，然后根据这种分类评价的结果创作出新的布图设计。反向工程之所以被视为合法，在于鼓励人们设计出功能相似但集成度更高、速度更快、成本更低廉的集成电路产品。[19]从产业发展的角度看，只有在相关技术领域形成了相当的一致性并且这种一致又成为该类技术下一步发展无法避免的基石的时候，法律才会允许反向工程的存在。因此，允许对计算机软件进行反向工程以开发兼容产品和允许对布图设计进行研究以开发同类产品的理由并无差异。然而，这相当于在法律为权利人构筑的护栏上打开了一个缺口，不能不谨慎待之。换言之，合法的反向工程本身也必须满足一定的条件。首先，构成反向工程的行为，其直接目的必须是对他人的布图设计进行分析、评价、用于教学或在他人布图设计的基础上创作新的布图设计。其次，对在反向工程过程中复制的他人的布图设计不能进行商业利用。再次，利用反向工程所创作出的新的布图设计必须符合独创性的要求。在这里，对这种“第二布图设计”的独创性的判断要求进行反向工程者出具相关证明文件和实验数据等作为证据。并且原则上它不能与被进行反向工程的集成电路布图设计完全相同。
（二）、合理使用，我们既然视集成电路布图设计为工业作品，那么版权法第22条有关对作品进行合理使用的规定则当然地适用。而我国现行的《集成电路布图设计保护条例》第23条第（一）项的规定也可以视为是有关合理使用的规定，即“为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的”可以不经布图设计权利人的许可，不向其支付报酬。值得注意的是合理使用与反向工程的关系，应该说两者的共同之处在于对他人的布图设计进行了非商业性的复制和使用；差异则在于一般的合理使用行为并不一定包含创造新的布图设计的过程，而反向工程则必然包含这个过程。因此，就某种意义而言，反向工程是一种特殊的合理使用行为，其最为特殊的地方就在于通过反向工程开发出来的新的布图设计可以投入商业使用。
（三）、权利穷竭，也称权利用尽或首次销售原则，是指布图设计专有权人或经其授权的人将布图设计或含有该布图设计的集成电路产品投放市场后，对与该布图设计有关的商业利用行为，不再享有控制权。权利穷竭原则是知识产权法诸领域相当普适的一个原则，其理由，从正面来讲，是因为权利人已经从首次的许可使用中收回了成本并获得了收益，其后的过程应当由销售商从含有该知识产权的有形商品中获取应有的利润；从反面来讲，是因为市场需要一定的自由度，
权利人不可以将合法的垄断权利的外延不适当地扩展至权利客体存在的一切空间，否则就构成了知识产权的滥用，会损害消费者的利益和阻碍商品的正常流通。
（四）、无知侵权，也有学者称之为善意买主，是指如果一个人不知情购买了含有非法复制的受保护的布图设计的集成电路产品，而将该产品进口、销售或从事其他商业利用，在其知情之前不追究其侵权责任。但是，购买人一旦知情，则应当向布图设计专有权人支付其原本应当支付的费用，才能继续先前的商业利用行为。无知侵权是对传统民法动产买卖中善意取得制度的借鉴和改造，因为考虑到布图设计的高度集成化特点，普通的买主即便尽了必要的勤勉和注意可能也无法辨别出在集成电路产品中有非法复制的布图设计的存在。然而在直接侵权人和无知侵权人的关系上，法律没有规定对无知侵权人的救济手段，不能不说是一种缺憾。笔者认为可以规定直接侵权人和知情销售商的权利瑕疵担保责任，以真正实现当事人之间的利益平衡。
（五）、强制许可，是指依据法律的规定，在国家出现紧急状态或者非常情况时，或者为了公共利益的目的，或者经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予补救时，国务院知识产权行政部门可以给予使用其布图设计的非自愿许可。有关强制许可的条款实际上是各国在进行知识产权的国内立法时所预留的最后“杀手锏”，以防止出现不可控制的危及国家和民族生存和发展的局面。到目前为止，专利的强制许可制度只在南非等少数几个非洲国家被实行过，而且引起了发达国家强烈的不满。而我国不管是在专利领域还是集成电路布图设计上都未有过强制许可的实践，如何利用以及在什么领域、何种程度上利用这一制度仍然是一个需要仔细研究的问题。
（六）、他人的独立创作。与所有的其他作品一样，布图设计专有权人不能排斥他人对自己独立创作的与其相同的布图设计进行复制或将其投入商业利用的权利。当然，该他人必须完成对自己“独立创作”的证明。而通常这样的证明是非常困难的。
集成电路制作合同修订版 Effectively restrain the parties’ actions and ensure that the legitimate rights and interests of the state, collectives and individuals are not harmed ( 合同范本 ) 甲方：______________________ 乙方：______________________ 日期：_______年_____月_____日 编号：MZ-HT-089793
集成电路制作合同修订版 立约人_________（以下简称甲方）与_________（以下简称乙方）。甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下：第一条标的物：委托芯片名称_________（ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。 第二条功能规格确认 一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。 二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM 为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。 三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。
四、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。 第三条样品试制进度 一、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。 二、原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力之情事，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。 第四条样品之确认 一、样品之确认以第二条之第二及三款之规定为依据，甲方不得对电气特性提出额外的样品确认标准，若因甲方之布局图（Layout）与TAPEOUTFORM不符，而致试制样品与甲方规格不符，因此所生损失概由甲方负责。 二、甲方应于收到标的物试制样品后肆拾伍日之内完成样品之测试。若该样品与甲方于委托制作申请单及TAPEOUTFORM中指定不
申请集成电路布图设计保护须知 大中小 依据《集成电路布图设计保护条例》（以下简称条例），在申请集成电路布图设计专有权登记过程中，我们应该注意如下事项。 什么样的布图设计具有独创性？ 要求保护的布图设计必须具有独创性，即该布图是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时，该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常规设计。 受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体同样应当具有独创性。 在这里，独创性评判的时间“创作时”为创作完成日；评判人为布图创作者和集成电路制造者；评判标准要视其是否是公认的常规设计。 特别应当指出的是布图设计仅保护根据网表设计出的布图，并不能延及思想、处理过程，操作方法或数字概念。同时，不登记不予保护。 谁能享有布图设计专有权？ 中国的单位、个人或者其他组织创作的布图设计，依照条例享有布图设计专有权。 对于外国人，要区别对待：外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照条例享有布图设计专有权；未在中国首先投入利用的布图设计，必须在中国参加WTO之后，才能申请。 港、澳、台地区的申请，按国内申请处理，但法人必须委托涉外代理机构办理。 根据条例规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，仍可向国家知识产权局提出登记申请。我国根据TRIPS协议，将这一专有权追溯到1999年10月1日。 国家知识产权局对布图设计的权利人采用推定原则，即认为凡是到国家知识产权局来申请的，都视其是有权利的人。若出现问题，应通过司法程序解决。 申请人应提交哪些文件和样品？ 申请人应提交的文件和样品包括布图设计登记申请表；布图设计的复制件或图样；布图已投入商业使用的，应提交含有该布图的集成电路样品；国家知识产权局规定的其他材料。
集成电路制作合同精装版 Clarify their rights and obligations, and ensure that the legitimate rights and interests of both parties are not harmed ( 合同范本 ) 甲方：______________________ 乙方：______________________ 日期：_______年_____月_____日 编号：MZ-HT-004577
集成电路制作合同精装版 立约人_________（以下简称甲方）与_________（以下简称乙方）。甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下： 第一条标的物：委托芯片名称_________（ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。 第二条功能规格确认 一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。 二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。 三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。
四、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。 第三条样品试制进度 一、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。 二、原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力之情事，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。 第四条样品之确认 一、样品之确认以第二条之第二及三款之规定为依据，甲方不得对电气特性提出额外的样品确认标准，若因甲方之布局图（Layout）与TAPEOUTFORM不符，而致试制样品与甲方规格不符，因此所生损失概由甲方负责。 二、甲方应于收到标的物试制样品后肆拾伍日之内完成样品之测试。若该样品与甲方于委托制作申请单及TAPEOUTFORM中指定不符，且
集成电路布图设计合同纠纷 案件分类:（1）集成电路布图设计创作合同纠纷;（2）集成电路布图设计专有权转让合同纠纷; (3) 集成电路布图设计许可使用合同纠纷. 一、集成电路布图设计合同的含义 集成电路布图设计合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计的创作、有关权利的转让和许可使用等内容所订立的合同而发生的纠纷。集成电路布图设计创作合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计的创作所订立的合同而发生的纠纷。包括委托创作合同纠纷和合作创作合同纠纷。集成电路布图设计专有权转让合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计专有权的转让所订立的合同而发生的纠纷。集成电路布图设计许可使用合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计的许可使用所订立的合同而发生的纠纷。 二、集成电路布图设计合同纠纷的诉讼管辖 由于合同标的物所涉集成电路布图的特殊性，最髙人民法院对集成电路布图设计合同纠纷管辖作出了特殊规定，即相关案件的受理必须遵守最髙人民法院关于指定管辖和级别管辖的相关规定。根据最高人民法院《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》的规定，该通知第1条所列第（5）至（10）类案件，由北京市第一中级人民法院作为第一审人民法院审理；其余各类案件，由各省、自治区、直辖市人民政府所在地，经济特区所在地和大连、青岛、温州、佛山、烟台市的中级人民法院作为第一审人民法院审理。 三、确定集成电路布图设计合同纠纷案由应当注意的问題 集成电路布图设计相对而言是一类比较新型的知识产权。《规定》将涉及集成电路布图设计合同纠纷单列为一类知识产权合同纠纷，并在作为第三级案由的同时分列了3个四级案由。最髙人民法院《关于审理技术合同纠纷案件适用法律若干问题的解释》第46条第1款规定：“集成电路布图设计、植物新品种许可使用和转让等合同争议，相关行政法规另有规定的，适用其规定；没有规定的，适用合同法总则的规定，并可以参照合同法第十八章和本解释的有关规定处理。”该款规定只涉及集成电路布图设计合同案件的法律适用问题，不涉及案由确定问题。除非合同主要权利义务是关于利用集成电路布图设计提供咨询、服务和培训，不应将有关争议确定为《规定》中的技术合同纠纷。集成电路布图设计创作合同纠纷包括因合作创作和委托创作发生的合同纠纷，但涉及专有权权属纠纷的除外。对于当事人之间因集成电路布图设计专有权权属发生的争议，应当按照《规定》中集成电路布图设计专有权权属纠纷确定案由。实践中，还存在一种集成电路布图设计代理合同。集成电路布图设计代理合同是委托人与集成电路布图设计代理机构就办理集成电路布图设计登记申请或者办理其他与集成电路布图设计有关事务达成的协议。对于集成电路布图设计代理合同纠纷，《规定》未作出具体列举，但参照专利和商标代理合同纠纷的案由归类，也应当作为集成电路布图设计合同纠纷受理。
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集成电路布图设计与著作权法保护方式比较集成电路布图设计是一种高科技的结晶，其中凝结了开发者大量创造性的脑力劳动，是智力成果的一种重要形式。由于知识产权是人们基于自己的智力活动创造的成果和经营管理活动中的经验、知识的结晶而依法享有的民事权利。因此，最初人们很自然地试图在各种已有的知识产权法律当中寻找合适的一种为集成电路布图设计提供保护。 著作权保护，集成电路布图设计的结果是一种图形，人们自然也寄望于著作权能予以保护。集成电路诞生在美国，可美国法院却在长时间内找不到保护集成电路布图设计的法律。1979年，美国伊利诺斯州北区联邦法院及第七巡回法院在处理一个仿制集成电路布图设计的诉讼案时，就感到本来应当在著作权法中找到判决的依据，而实际上却没有找到。对集成电路布图设计提供著作权保护的构想进行深入思考后，人们发现： (1)著作权保护客体的限制。著作权保护作品的表现形式，不保护作品的思想。作品是由语言、文字、图形或符号构成的，表现一种思想的智力成果。集成电路布图设计，既不是由语言文字，也不是由任何图形符号构成的，而是由一系列电子元件及连接这些元件的导线构成的立体布局。不论对各国立法及有关版权条约中的作品做出多么广泛的解释，均无法将集成电路的这种立体布图设计包括在内。 （2）著作权保护内容的限制。将版权法中的作品扩及集成电路布图设计，著作权法仍然无法提供充分有效的保护。著作权法对作品
提供保护的最重要的方式之一，就是禁止他人未经著作权人同意非法复制作品。但是许多国家著作权法规定，对立体作品的非接触复制，不被著作权法禁止。对集成电路布图设计的复制，恰恰就是这种对立体作品的非接触复制，因而在许多国家不被著作权法禁止。德国学者认为，工程设计、产品设计图一类的作品，著作权只保护到图纸的复制这一层，不禁止按照图纸施工，甚至将实施图纸后的客体再重新绘成图纸，只要是独立绘制而不是抄袭原图纸，都不违反法律规定。如果实施图纸后的产品属于著作权法保护的作品，例如建筑艺术作品，这种实施行为则是著作权法所指的复制行为，须经著作权人的许可。如果实施图纸后得到的客体是著作权保护的文学、艺术和科学作品，这种实施行为就属于著作权法所称的复制；如果得到的客体不是著作权保护的文学、艺术和科学作品，而是工业产品，则这种实施行为不在著作权法禁止之列。 ⑧著作权保护的前提过低。著作权保护的前提是“独创性”和“可固定性”，大陆法系对于“独创性”中“创造性”的要求比英美法系高。按照大陆法系关于“独创性”的标准来衡量，依然远较专利法的“先进性”标准为低，实践中布图设计均具有一定的“独创性”而无“先进性”，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，但却只是在布图设计创作者和集成电路制造者中公认的“常规设计”，类似于专利法中所称的“公知技术”，应处于人们自由使用的领域。可是按照著作权保护的要求，这类大量（甚至占全部集成电路一半以上）的“常规设计”均应受到著作权保护，这样势必限制集成电路产业的发
集成电路制作合同 立约人_________（以下简称甲方）与_________（以下简称乙方）。甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下： 第一条标的物：委托芯片名称_________（ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。 第二条功能规格确认 一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。 二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。 三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。 四、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。 第三条样品试制进度 一、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。 二、原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力之情事，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。 第四条样品之确认 一、样品之确认以第二条之第二及三款之规定为依据，甲方不得对电气特性提出额外的样品确认标准，若因甲方之布局图（Layout）与TAPEOUTFORM不符，而致试制样品与甲方规格不符，因此所生损失概由甲方负责。 二、甲方应于收到标的物试制样品后肆拾伍日之内完成样品之测试。若该样品与甲方于委托制作申请单及TAPEOUTFORM中指定不符，且甲方能证明失败之样品是缘由制程之缺失所造成，甲方应于肆拾伍日之测试期限内以书面向乙方提出异议。如甲方未于此肆拾伍日之期限内向乙方提出异议，则视为样品已为甲方所确认。 三、乙方应于收到甲方所提之异议书拾伍个工作日内，将该异议交由第三公正单位评定。若甲方所提出之异议经评定，其系可归责予乙方时，乙方应要求代工厂重新制作样品。新样品之测试与确认，仍依本合约第二条第二、三及四款规定行之。除本项规定重新制作之外，甲方对乙方不得为任何其它赔偿之请求。 四、如新样品仍与甲方指定之规格不符，则甲方得要求终止合约。惟甲方不得向乙方索回已付予乙方之费用，且不得就本合约对乙方为任何损害赔偿请求，乙方亦不得向甲方请求任何除已付费用外之补偿。 第五条试制费用试制费用依乙方订定之计费标准为准。
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集成电路制作合同范本正式版 使用说明：当事人在信任或者不信任的状态下,使用合同文本签订完毕，就有了法律依靠,对当事人多方皆有约束力。且在履行合作期间,有法可依,有据可寻，材料内容可根据实际情况作相应修改，请在使用时认真阅读。 立约人_________（以下简称甲方）与_________（以下简称乙方）。甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下： 第一条标的物：委托芯片名称_________ （ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。 第二条功能规格确认 一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。 二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。 三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。 四、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。 第三条样品试制进度 一、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方
集成电路布图设计登记申请表填表须知 一、申请表：需提交一式两份.一份为原本，一份为复印件.并要求使用中文填写， 表中文字应当打字或者印刷，字迹为黑色. 二、布图设计名称：应填写集成电路型号.例如：. 三、申请号和申请日：由国家知识产权局填写. 四、集成电路分类： 1.结构：双极；：金属－氧化物－半导体；：双极－金属－氧化物－半 导体；：集成光路；其他：不包括上述四类地结构. 2.技术：晶体管－晶体管逻辑电路； ：二极管－晶体管逻辑电路； ：发射极耦合逻辑电路； : 集成注入逻辑电路； 其他：不包括在上述四种之内地技术. 3.功能逻辑；存储；微型计算机；线性；其他. 4.以上（）（）（）三类，每一类中最多只能选择一种，并在内打“×”. 5.布图设计创作人：可以是自然人、法人或者其他组织. 6.完成创作日期：完成设计日. 7.首次商业利用日：首次投入商业利用之日. 8.申请人：申请人是单位地应填写单位全称,并与公章中名称一致.申请 人是个人地，应填写本人真实姓名，不得写笔名.申请人为多个，又未委托代理机构，填写在第一栏地申请人为第一署名申请人.申请人为单位地还应填写单位联系人姓名. 9.申请人地址：国内地址应写明省、市、区、街道、门牌号码、邮政 编码.外国人地址应写明国别、州（市、县）. 十、申请文件清单：除申请表一式两份，其余文件均为一式一份，凡是图纸应 使用计算机制图.其他图纸或复制件、文件、样品清单与所附清单严格一致. 集成电路布图设计登记收费项目和标准公告（第号） 根据《集成电路布图设计保护条例》地规定，向国家知识产权局申请
集成电路布图设计登记和办理有关手续，应当缴纳费用.按照国家发展和改 革委员会、财政部年月日发布地《国家发展和改革委、财政部关于集成电 路布图设计登记费等收费标准及有关事项地通知》（发改价格[]号）地规 定，现将集成电路布图设计登记收费项目和标准公布如下： 集成电路布图设计收费项目和收费标准（金额单位：人民币） 一、布图设计登记费，每件元 二、布图设计登记复审请求费，每件元 三、著录事项变更手续费，每件每次元 四、延长期限请求费，每件每次元 五、恢复布图设计登记权利请求费，每件元 六、非自愿许可使用布图设计请求费，每件元 七、非自愿许可使用布图设计支付报酬裁决费，每件元 本公告自月日起执行. 中华人民共和国国家知识产权局 二○○三年五月十六日 申请集成电路布图设计保护须知 廊清概念 集成电路是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件地两个以上元件和部分或者全部连线集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能地中间产品或者最终产品. 集成电路一般分为设计、制造、封装三个阶段.
集成电路制作合同 甲方：__________________________ 住所：__________________________ 统一社会信用代码：______________ 联系方式：______________________ 乙方：__________________________ 住所：__________________________ 统一社会信用代码：______________ 联系方式：______________________ 甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下： 第一条标的物：委托芯片名称_________（ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。 第二条功能规格确认 一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。 二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。 三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。 四、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之失误，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。 第三条样品试制进度 一、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。 二、原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力之事由，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。
集成电路布图创作合同 甲方：乙方： 法定代表人：法定代表人： 甲乙双方为集成电路试制事宜，双方经过平等协商，特订立本合同。 一、标的物：委托芯片名称_________，甲方同意由乙方代为寻找适合的代工厂，就标的物进行集成电路试制。 二、功能规格确认 1.甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。 2.甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。 3.标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。 4.如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。 三、样品试制进度 1.甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。 2.原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。 四、样品之确认 1.样品之确认以第二条之第二及三款之规定为依据，甲方不得对电气特性提出额外的样品确认标准，若因甲方之布局图（Layout）与TAPEOUTFORM不符，而致试制样品与甲方规格不符，因此所生损失概由甲方负责。 2.甲方应于收到标的物试制样品后日之内完成样品之测试。若该样品与甲方于委托制作申请单及TAPEOUTFORM中指定不符，且甲方能证明失败的样品是由于制程的缺失所造成，甲方应于日之测试期限内以书面向乙方提出异议。如甲方未于此期限内向乙方提出异议，则视为样品已为甲方所确认。 3.乙方应于收到甲方所提之异议书日内，将该异议交由第三公正单位评定。若甲方所提出之异议经评定，其系可归责予乙方时，乙方应要求代工厂重新制作样品。新样品之测试与确认，仍依本合约第二条第二、三及四款规定履行。除本项规定重新制作之外，甲方对乙方不得为任何其他赔偿请求。 4.如新样品仍与甲方指定之规格不符，则甲方得要求终止合约。甲方不得向乙方索回已付给乙方的费用，且不得就本合约对乙方为任何损害赔偿请求，乙方亦不得向甲方请求任何除已付费用外的补偿。
集成电路布图设计权的保护期限 为了保护布图设计创作人的权利和利益，各国制定了法律，从而产生了布图设计权。但是布图设计权在保护时间上不能是无限的，否则将不利于充分发挥其对社会的作用，也不利于集成电路的技术发展，因此对布图设计应予以一定的保护期限。 由于保护期限直接关系到集成电路开发商的利益，因而在保护期限上发达国家与发展中国家展开了激烈的争论。最早保护布图设计的美国在《半导体芯片保护法》中规定保护期为10年。发展中国家则认为保护期过长，经勿良苦的努力，终于在《华盛顿条约》中将保护期减少为8年，但由于发达国家的抵制，在TRIPS协议中又将保护期延长到10年。我国《条例》第十二条规定:‘布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。” 对于保护期限，陈家骏先生认为:“惟如科技工业之场合，其造成进步之原动力之一即在于互相观摩及利用他人之创作，从而激活自己脑力而创造出其他新技术，故如从人类文明福社之均沾及促进社会整体利益而言，科技产物之保护期实不宜太长，是以10年为妥。”对布图设计权保护期限的规定既应考虑社会公共利益，又要照顾布图设计创作人及开 发商的利益，还要考虑发展中国家的利益，以及集成电路技术更新的速度。只有找到这些因素的平衡点，才能恰当规定布图设计的保护期。
尤其是集成电路技术的更新速度越来越快，从长远的利益来看，10年的保护期似乎过长了些。但当今世界是大国主宰的世界，既然TR 工PS已规定了10年的保护期，我们也只有与其保持一致。
集成电路制作合同 甲方（委托方）： 法定代表人： 地址： 联系方式： 乙方（受托方）： 法定代表人： 地址： 联系方式： 上述各方经平等自愿协商，签订本合同以共同遵守。 一、标的物 委托芯片名称，甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。 二、功能规格确认 1、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。 2、甲方的布图资料，概以甲方填写为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图作任何计算机软件辅助验证。 3、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试值为准，甲方不得作特殊要求。 4、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。
三、样品试制进度 1、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。 2、原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力之情事，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。 四、样品之确认 1、样品之确认以第二条之第二及三款之规定为依据，甲方不得对电气特性提出额外的样品确认标准，若因甲方之布局图（layout）与tapeoutform不符，而致试制样品与甲方规格不符，因此所生损失概由甲方负责。 2、甲方应于收到标的物试制样品后肆拾伍日之内完成样品之测试。若该样品与甲方于委托制作申请单及tapeoutform中指定不符，且甲方能证明失败之样品是 缘由制程之缺失所造成，甲方应于肆拾伍日之测试期限内以书面向乙方提出异议。如甲方未于此肆拾伍日之期限内向乙方提出异议，则视为样品已为甲方所确认。 3、乙方应于收到甲方所提之异议书个工作日内，将该异议交由第三公正单位评定。若甲方所提出之异议经评定，其系可归责予乙方时，乙方应要求代工厂重新制作样品。新样品之测试与确认，仍依本合约第二条第二、三及四款规定行之。除本项规定重新制作之外，甲方对乙方不得为任何其它赔偿之请求。 4、如新样品仍与甲方指定之规格不符，则甲方得要求终止合约。惟甲方不得向乙方索回已付予乙方之费用，且不得就本合约对乙方为任何损害赔偿请求，乙方亦不得向甲方请求任何除已付费用外之补偿。 五、费用 试制费用试制费用依乙方订定之计费标准为准。
试论我国集成电路布图设计的知识产权保护[摘要]：集成电路布图设计的知识产权保护是近年来各国法律界都比较关心的问题，我国已于2001年制定了《集成电路部图设计保护条例》。本文分析了集成电路布图设计的概念及特点，论述了其作为特殊的知识产权客体而受到专门保护的必要性，并阐述了我国集成电路布图设计保护的理论体系，对其中的一些问题提出了自己的一些看法。当今世界，计算机的发展已成为领导工业现代化进程的潮头军，自1946年世界第一台电子计算机诞生以来，短短的五十多年间，计算机作为一种现代化的高级工具以惊人的速度迅速地渗透到了社会生活的各个领域，引起了全球的技术革命。计算机技术的飞速发展离不开另一门产业的发展，即集成电路产业。因为集成电路的出现才使计算机摆脱了电子管、晶体管等原材料构件的束缚，逐步走向小型化，轻型化，高智能化，迅速走向了社会，走入了家庭。集成电路产业的飞速发展，产生了许多新的法律问题，由于传统知识产权法的局限性以及集成电路及其布图设计本身存在着的特殊性，集成电路布图设计的法律保护问题也引起了法学界的极大关注。各国也纷纷就集成电路布图设计进行立法，以保护此种特殊性质的知识产权不受侵害。我国早在1991年国务院就已将《半导体集成电路布图设计保护条例》列入了立法计划，经过10年的酝酿，我国的《集成电路布图设计保护条例》终于于2001年3月28日由国务院第36次会议通过，并于2001年10月1日起施行。这是目前我国保护集成电路布图设计知识产权的一部重要法规。虽然它是一部行政法规，但经过试行一段时间到条件成熟后，将之上升为法律的形式是必然的趋势。我国采用专门立法的形式保护集成电路布图设计既尊重了国际知识产权保护的原则，又便于与国际法律接轨，而且这部条例既保护了集成电路布图设计专有权人的权益，又考虑到了国家和公众的利益，使技术进步不受到人为的限制。这一条例初步建立了我国集成电路布图设计的知识产权保护的理论体系，进一步完善了我国的知识产权法律制度。一、集成电路和布图设计的概念与特点集成电路是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。一块集成电路通过控制电流在其电路中的流动来实现其功效。在计算机发展的初期，每个电路元件（如晶体管、电阻、电容等）都是用引线同电路中的其它元件相连接的。这种做法须耗费大量的劳动力与工时，且计算机制作成本很高，大量连线的存在使电流的流动距离增长，不仅影响了计算机工作的速度和可靠性，还引起电路功耗的增加，从而带来电路的散热以及要求有较高电压的电源等一系列的问题。这也正是最初计算机体积庞大、耗电量大、速度慢的根本原因。采用集成电路以后，这些问题就得到了解决：由于电路元件及连线实质上已成为一体，作为一块电路板上的不同元件，它们之间的电流交换速度大大增强，且电路的功耗亦大幅度降低，不仅提高了计算机的性能，还大大降低了计算机的成本。由于生产集成电路的主要原材料硅、铝、水等一些化合物并不昂贵，但经过加工以后得到的集成电路产品的价值往往可以达到其材料价值的几十倍，几百倍甚至上千倍。在其价值成本中，大部分都是知识、技术与信息所增加的附加价值。这种附加价值主要集中在以集成电路为载体而体现出来的人类智慧的结晶-布图设计的价值上。就象相同的磁带因为录制不同的歌曲其价值就会不同一样，用相同的技术工艺在同样的芯片上依不同的布图设计所制作出的集成电路，其价值也是不同的。好的布图设计制作出的芯片往往能具备更高的性能和工作速度。因此，集成电路的法律保护问题，归根结底在于对其布图设计的保护。[!--empirenews.page--] 对布图设计，世界各国的称呼各有不同：美国称之为掩膜作品，（MaskWork），日本称之为电路布局（CircuitLayout），欧洲国家采用的是另一个英文单词Topography（拓朴图），而世界知识产权组织（WIPO）于1987年2月通过的《关于集成电路知识产权保护条约》（简称《WIPO条约》或《华盛顿条约》）中则采用了Layout-design（布图设计）一词。这些词语字面上的表示虽各不相同，但其真正的含义都是相同的，即指集成电路中各种元件的三维配置。许多人认为布图设计只是一种设计图，就象建筑工程设计图一
集成电路布图设计权 一九四七年二月二十三日，在美国的贝尔实验室，巴丁、布拉顿和肖克莱发明了世界上第一只晶体管。在当时，谁也不曾料到，这小小晶体管的发明竟然拉开了二十世纪后半叶新技术革命的序幕。五十年代，人们发明了平面工艺，很快制出了集成电路。在此后三十多年的时间里，集成电路以令人瞠目的速度迅猛发展，集成规模由小规模发展到中规模，继而又发展为大‘规模、超大规模。今天，人们已可在一块平方毫米的硅片上集成亿个元件（64MDRAM的集成度）。技术的进步大大地拓宽了集成电路的应用领域；发挥着巨大的作用，因此，世界各国都投入了大量人力、物力研究和开发集成电路技术。与此同时，也有一些厂商以各种方式获取他人的技术，利用他人的技术成果牟取暴利。正是在这样一种情形下，集成电路酌法律保护问题开始受到有关各界以及发的关注，为此，一些工业发达国家相继颁布关保护集成电路保护的法律，保护集成电成为世界的共识。我国对集成电路知识产，保护一直采取积极的态度，为集成电路同护制度作出了重要的贡献，并已在一九八九年五月通过的世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权条约》文本上签字。集成电路的知识产权保护问题已摆在了我们面前，有必要文进行认真的研究。 一、集成电路布图设计的概念 集成电路的布图设计是指一种体现了集成电路中各种电子元件的配置方式的图形。集成电路的设计过程通常分为两个部分：版图设计和工艺。所谓版图设计是将电子线路中的各个元器件及其相互连线转化为一层或多层的平面图形，将这些多层图形按一定的顺序逐次排列构成三维图形结构；这种图形结构即为布图设计。制造集成电路就是把这种图形结构通过特定的工艺方法，“固化”在硅片之中，使之实现一定的电子功能。所以，集成电路是根据要实现的功能而设计的。不同的功能对应不同的布图设计。从这个意义上说，对布图设计的保护也就实现了对集成电路的保护。 集成电路作为一种工业产品，应当受到专利法的保护。但是，人们在实践中发现，由于集成电路本身的特性，大部分集成电路产品不能达到专利法所要求的创造性高度，所以得不到专利法的保护。于是，在一九七九年，美国众议院议员爱德华（Edward）首次提出了以著作权法来保护集成电路的议案。但由于依照著们法将禁止以任何方式复制他人作品，这样实施反向工程也将成为非法，因此，这一议案在当时被议会否决。尽管如此，它对后来集成电路保护的立法仍然有着
集成电路布图设计电子申请快速入门手册 新申请提交 1.登录系统后，点击"提交新申请"，打开基本信息填写页面。 a)布图基本信息填写 b)申请人信息填写 c)联系人信息填写
d)代理机构信息填写 依次录入上述基本信息后，点击"保存",将自动跳转到申请文件上传页面。 2.在打开的申请文件上传页面中 a)选择上传的文件类型，上传文件，点击"确认"按钮。 b)点击已经上传的"图样"，可以在页挑选列表中，通过"设置为页"按钮设置为页。 c)文件上传完毕后,点击"提交",采集数据将在线提交至专利局集成电路审查系统进行审查。 注:图样、图样的目录为首次申请必须提交的申请文件。 中间文件提交
登录系统后，点击"其它文件提交"，点击"普通中间文件"打开中间文件上传页面。 a）选择"表格下载"，将需提交的中间文件表格下载到本地电脑。 b)填写中间文件表格,并制作成符合规定的电子图形文档。（制作方法参见《图形文档的制作》） b)输入案件申请号; 选择上传的文件类型，上传文件点击"确认"按钮。 c)文件上传完毕后,点击"提交",中间文件将在线提交至专利局集成电路审查系统进行审查。 著录项目变更请求
1.登录系统后，点击"著录项目变更请求"打开著录项目变更请求页面。 通过申请号、布图设计名称,查询可进行著录项目变更的案件信息. 2.选中相关案件,点击"著录项目变更",进入著录项目变更操作页面.
a)可对基本信息进行"修改"操作。 b)可对申请人、联系人、代理机构进行"新增、删除、修改"操作。 c)可对变更后容进行"取消"操作. d)上传著变证明文件. (无证明文件也可直接点击"提交") e)点击"提交",填写的著录项目变更信息将在线提交至专利局集成电路审查系统进行审查. 注: 此处的"提交"按钮,是将所有著变的信息提交审查系统,并不是单独指提交上传的"著变证明文件"。
集成电路布图设计5大侵权行为 集成电路布图设计侵权行为是指非法侵犯布图设计权利人的复制权、商业实施权等权利，依法应当承担法律责任的行为。 目前，世界许多围家和国际组织通过国内立法或国际条约，明确规定了一系列布图设计侵权行为。WTO的《与贸易有关的知识产权协议》第36条规定，缔约方应将未经权利所有者同意而进行的下属行为认作是非法行为，即为了商业目的而进口、出售或推销受到保护的布图设计，一种采用了受到保护的布图设计的集成电路，或者一种采用了上述集成电路的产品，只要它仍然包括了一个非法复制的布图设计。2001年4月2日，我围颁布实施的《集成电路布图设计保护条例》第30条也明确规定了侵犯他人布图设计的行为：未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分；未经布图设计权利人许可，为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路以及含有该布图设计的物品。 广东长昊律所集成电路专业律师认为，随着高新技术的发展，布图设计侵权的方式、手段将会更加多样化。在实践中，主要有以下几种类型：①未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计的全部。侵权人往往采用翻拍、拷贝等多种方法复制权利人的布图设计；②未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计中具有独创性的部分。受保护的布图设计必须具有创造性，但这是就布图设计的整体而言，并不意味着布图设计的每一个部分都具有独创性。事实上，绝人
多数的布图设计，只有其中的某些部分具有独创性。法律只保护布图设计中具有独创性的部分。未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计中不具有独创性的部分，并不构成侵权；③非法进口、销售、提供受保护的布图设计。布图设计作为智力成果，凝聚着权利人的人量劳动和投入，未经布图设计权利人许可，为商业目的进口、销售、提供受保护的布图设计，必将严重侵犯权利人的民事权利；④非法进口、销售、提供含有受保护的布图设计的集成电路。集成电路是融布图设计和工艺技术于一体的综合性法制园地技术成果，布图设计内涵在集成电路之中。为了商业目的，未经权利人许可，直接将他人的布图设计用于制作集成电路，并且进行销售或者提供该集成电路，是一种较为隐蔽的侵权行为；⑤非法进口、销售或提供含有受保护的布图设计的产品。此类侵权的隐蔽性更强，它一般表现为，侵权人出于商业目的，不经布图设计权利人许可，直接将含有受保护的布图设计的集成电路用于某些产品之中，并将这些产品投入商业经营。所涉集成电路可能是侵权人自己制造的，也可能是侵权人从别处非法购入的。
集成电路布图设计解答 1、什么是集成电路布图设计专有权？ 集成电路布图设计专有权是根据《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）对具有独创性的集成电路布图设计进行保护的一种知识产权。它与专利权、著作权等一样，是知识产权的分支。 2、获得集成电路布图设计专有权有什么好处？ 获得集成电路布图设计专有权后，未经布图设计权利人许可，他人不得： (一)复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分； (二)为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。 有上述行为之一的，被认为侵犯布图设计专有权。行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。 3、集成电路布图设计专有权的保护期限？ 布图设计专有权的保护期为10年，起算日是布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《条例》保护。 4、哪些产品可以获得集成电路布图设计专有权？ 《集成电路布图设计保护条例》中对集成电路的定义仅限于芯片（IC芯片）的布图设计，电路板（PCB板）设计不属于《条例》保护的范围。 5、如何获得集成电路布图设计专有权？ 集成电路布图设计专有权经国家知识产权局登记产生。要想获得布图设计专有权，需向国家知识产权局提出登记申请并办理相关手续。 6、申请人办理集成电路布图设计登记时应提交哪些文件？ (一）必须提交的文件： ①集成电路布图设计登记申请表一份（相关表格可登录国家知识产权局网站下载）。 ②图样一份。 ③图样的目录一份。 (二）可能需要提交的文件： ①布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件样品。 ②申请人委托代理机构的，还应提交集成电路布图设计登记代理委托书。