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小木虫XPS经典问题集锦(第一期)-06,10,5

小木虫XPS经典问题集锦(第一期)-06,10,5
小木虫XPS经典问题集锦(第一期)-06,10,5

小木虫XPS问题集锦
(第一期)
2006 年 10 月 5 日

小木虫荣誉出品
目录
前言 ……………………………………………………………………………………… 问题-:xps 实战 ……………………………………………………………………… 问题二:哪里能进行XPS测试 ………………………………………………………… 问题三:XPS结合能 …………………………………………………………………… 问题四:XPS实验结果如何分析 ……………………………………………………… 问题五:如何将仅含两列数据的txt文件转化为XpsPeak4.1 可载入的des文件 … 8 问题六:XPS怎么算表面元素含量 …………………………………………………… 问题七:元素相对含量的计算 ………………………………………………………… 问题八:如何设置扫描参数和如何进行XPS分析 …………………………………… 9 9 9 5 5 7 1 2
问题九: XPS表征什么 ………………………………………………………………… 10 问题十:XPS与EDX在分析表面元素方面有什么区别 …………………………………11 问题十一:XPS研究中各种N的结合能 …………………………………………………12
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前言
通过在小木虫中检索关键词XPS,发现大多数提问及回答都很经典,而 且大多数问题都是我们常见的,为了对小木虫这些珍贵的资源做一保护, 也为了大家查询的方便,特此把大家的提问和回答进行了整理,做此电子 书发表,以后会继续整理此类资源,希望大家满意,多多支持! 由于本人水平有限,如有不足之处敬请各位虫友多多批评指正! 谢谢!
特此感谢所有在小木虫中发表XPS贴子及回贴的虫友! 大家辛苦了!
小木虫专用章
2006.10.01
编者:rabbit7708 2006 年 10 月 5 日
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问题-:xps 实战 runqi: 成为虫友几个月,斩获颇丰,找到了很多珍贵的资料。但是,总有一种消化不良的 感觉。书本都是一些最基本的原理分析,在实际科研上,往往需要更多的经验和技巧。 今天,我把以前的关于 xps 分析材料成分的一些经验简单总结一下,真诚欢迎虫友补充 和纠正。 1 简介 XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)又称 ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis), 能够分析出了氢,氦以外的所有元素。测定精确到 0.1at%, 空间 分辨率为 100um, X-RAY 的分析深度在 1.5nm 左右。 XPS 的样品一般是 10mm*10mm*5mm, 也可以更小些。 厚度不能超过 5mm. 一般我的样 品 5mm*5mm*1mm. XPS 分析室的真空度可以达到<10E-9 Pa, 因此样品要干燥,不能释放 气体。xps 的灵敏度很高,待测样品表面,绝对不能用手,手套接触。也不要清洗。 对于非导体样品,由于表面电荷的累计,我们需要打开 charge neutroliszer. 2 原理 这方面很多书上都介绍了,归根结底就是一个公式: E(b)= hv-E(k)-W E(b): 结合能(binding energy) hv: 光子能量 (photo energy) E(k): 电子的动能 (kinetic energy of the electron) W: 仪器的功函数(spectrometer work function) 通过测量接收到的电子动能,就可以计算出元素的结合能。 铝靶:hv=1486.6 eV 镁靶:hv=1253.6 eV 3 应用 由于元素的结合能是唯一标识的,因而我们可以用 xps 作: (1)组成样品的元素的标定 (2)各元素含量的计算 (3)元素的侧向分布 (4)化学态标定 (5)测量超薄(小于 5 纳米)样品的厚度 利用电子在不同材料的传播的平均自由程不同。 如果这对你还有一点点帮助的话,我就继续写,下一步分主要介绍我所分析过的一 些例子,注意什么事项等,暂停一下,让大家发言讨论
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10032587 群,欢迎你 回答如下: nanohappyyou: 非常好!正如你所说:除了基础知识之外,在实际运用中,还有许多东西需要我们 去不断积累!其中“分析深度在 1.5nm 左右” ,不一定吧?一定要接着! runqi: 回复 nanohappyyou 影响分析深度因素很多,简单,比如,射线的功率,分析的材质等。还有就是电子 在材料中的平均自由程。总体而言,就是几个原子层大小。希望有 xps 经验的虫友来参 与讨论。这样大家都能够提高! ! 分峰 我个人认为,对于 xps 的分峰,不像 XRD 那样有标准的数据库。关键的问题是,能 用 xps 的结果来证明你自己的论点。 比如说,物理沉积得到的 TiN 中的 Ti, 目前有 2 大类分峰,一类认为由于 Ti 有 4 价,因而, 要分 8 个峰(2p 1/2, 4 个,2p 3/2 4 个) 。另一类认为, 只要分 6 个峰 就可以即,Ti-N, Ti-O-N, Ti-O. 因为 Ti 极易被氧化。 所以,分峰方式的选择,主要是考虑解释你观察的现象。 关于元素的 binding energy, 我的做法是,查 e-journal 中相应元素的值,应该有 一个整体范围。然后,你在这个范围内,选一个可以解释你的实验现象的位置就行了。 风枫: 好像很随意,不是很科学哟。 runqi: 是很随意,不过,数据可都有很严谨的。 XPS 的应用,还有很多问题。我曾经接触过得比如:作 depth profile 确定薄膜和 基材界面的时候,界面的粗糙度对测定值的影响?还有,前一段时间看到帖子,讲 xps 可以测定晶粒的粒度。
问题二:哪里能进行 XPS 测试 orange19821211:
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我需要进行 XPS(X-射线光电子能谱测试) ,但不知哪里能够进行,而且能够接受外 来样品。望予告知,谢谢先!急需! 回答如下: chevan: 我知道的就有厦门大学和清华大学啊,按小时计费。 Hqzhang: 吉林大学也行,我在那测过。 ssd218: 天津大学和河南大学,我在天津大学做过! liangzaili: 四川大学和成都科分院以及成都的另外一个研究所都可以做。每个样品 100 元 xiaozw: 中科大,150 个样,把样品寄过去就可以了,联系方式自己去大学的网站上找吧。 华南理工大学 xps 也刚到可以做了, jiangxinyu: 长沙中南大学粉冶所也可以做。 问题三:XPS 结合能 Daiqiguang: 一种氧化物如 CeO2 在反应后 Ce3d 结合能增加,意味着什么? 我知道如果向 CeO2 掺杂其他过渡金属等,由于相互作用会导致结合能增加,但是 反应后(没有其它的产物生成)结合能增加,为什么了?能说明什么问题?跟催化剂失 活有关? 回答如下: hanyu_cn: 我对你的这个反应不是很清楚,只能简单地说说我的看法,反应后 Ce3d 结合能增 加,肯定地说氧化物表面 Ce 的电子状态发生了变化,是否有高价态的 Ce 形成呢?反应 后没有其它产物生成不知道是什么意思。你可以看一看 O1s 的 XPS 峰的情况。同催化剂
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失活的关系, 我想主要还是要看催化剂的活性物种, 电子状态变化可能改变了催化剂 Ce 的表面性质,影响催化剂表面的活性中心。失活的因素很多,要看哪一个是主要的。这 是我的看法,也不一定合适。 westwolf: 1)要确认是结合能增加,如对污染物 C1s 定标。 (主要是确定有没有荷电问题! ) 2)如果确实有结合能增加的问题,主要有下面因素有关 a)化学态的变化,此时表明 Ce 原子失去更多的电荷。 b)局域点态的变化,可能与催化剂的表面形貌(几何结构等) ,表面污染物等因 素有关。如果催化剂是纳米粒子 i,可能与粒子的晶体结构(如趋向,相结构等)和大小 的变化等有关。 所以一定要确认是结合能确实变化了,再来分析其具体的原因。有时需要配合其它 分析方法一起确认和分析。 daiqiguang: 谢谢两位的回答,受益匪浅! 我的 XPS 是在中科大作的,那里的老师告诉我肯定 Ce 的价态没有变,都是+4,我 查文献也发现确实没有变化。新鲜催化剂和反应后(也就是失活催化剂)的 XPS 没有任 何区别,除了失活催化剂的结合能增加外,包括 O1s 的。由此我觉得,结合能的增加不 是由于价态的变化而引起的。而 westwolf 提出的第二种因素表面污染可能是我的催化 剂结合能增加的原因, 因为我其他的实验以及表征都表明催化剂表面吸附有大量的其它 副产物,但是没有积碳。 再次请教 westwolf, 您有没有第二种因素造成结合能增加相关的具体资料, 能不能 提供一些,谢谢! ! hanyu_cn 提出的“同催化剂失活的关系,我想主要还是要看催化剂的活性物种,Ce 电子状态变化可能改变了催化剂的表面性质,影响催化剂表面的活性中心”对我有很大 的启发,我发现我的催化剂失活得真正原因在于催化剂表面性质发生了变化,由于吸附 有大量反应过程中产生的副产物,堵塞了活性位,一直苦于没有直接的表征手段对其做 出解释,看样子我可以从 XPS 入手,找一些突破,谢谢,十分感谢 hanyu_cn。 westwolf: 两个问题没有清楚:1)Ce 结合能增加时,你有没有发现 O1s 结合能也增大,2)吸附物 是什么?如果其电负性比氧的大,Ce 结合能增加时很正常的,吸附诱导的电荷密度转移. 另外你的化学位移值有多大,结合能用什么定标的?(因为你说没有吸附碳).吸附和其它
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物理结构变化引起的结合能的变化较小,一般在 0.4eV 内. 此外,如果有大量吸附产物, 将直接影响 CeO2 的表面功函数,也能引起结合能的增加. 在彻底搞清楚你的问题前,先得知道上述问题.. daiqiguang: 1)O1s 结合能也增大; 2)吸附物是 Cl-或 Cl2。 化学位移为 0.45-0.5eV,用 C1s 定标, 我所说的没有碳主要是说催化剂失活与常见的积碳无关 听了 westwolf 的分析,结果越来越明朗了,再次感谢 westwolf 的解答 hanyu_cn: westwolf 的 分 析 真 的 很 好 , 对 我 也 有 很 大 启 发 , 非 常 感 谢 westwolf, 以 及 daiqiguang 提出的问题。催化剂失活比较复杂,要想彻底弄清楚要做很多工作,单靠 XPS 恐怕不易,很多时候大家都是笼统地推测“反应过程中的副产物,堵塞了活性位” , 实际表征起来比较困难。 daiqiguang: hanyu_cn 说的很对, 催化剂失活太复杂了, 而且找到合适有效的表征手段真的很不 容易,这也是一直困扰我的问题。我当初做 XPS 根本没有向催化剂失活方向考虑,只是 狭隘地去表征氧化物的价态,但是做了之后觉得好像不是太容易解析,所以上来请教各 位,这一请教的确增长了不少知识,受益匪浅! ! 问题四:XPS 实验结果如何分析 conquerus: 我做了 xps 的实验,但不会的分析,实验员给出的数据格式都是*.dat,其中一个是 全谱,还有一个是碳的,其他的均为各掺杂元素的,请问这些文件我用什么可以打开,然 后怎样进行处理分析,需要看哪本书能快速提高这方面的知识? (我做 xps 主要是想分析所做试样的结合键) 回答如下: neilxing: XPSpeak 软件,或者 origin 建议看《电子能谱学(XPS-XAES-UPS)引论〉
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conquerus: 请问那个碳的文件有什么用,我实验中没有这种元素啊。 neilxing: 样品可能被含碳物质污染,一般都有碳峰。有时候以碳峰作为参考。 Conquerus: 请问我怎样可以知道每个峰处所对应的物质、元素? Avad: 碳是用来定标的,就是以 C 的 284.6 或 284.4 为标准,与实验所得的碳进行比较,得 到差值.其他元素的峰值。要加上或减去此差值.*.dat 文件是用写字板打开,倒入 origina 软件.建议每次做实验之前,要先弄清楚实验的目的和可能的结果. Nuaazw: 可能要查 XPS 手册,其上有每一种元素所可能产生的峰(峰位置) 一般作 XPS 的,都会有这本书 C. D. Wagner, W. M. Riggs, L. E. Davis, et al., Handbook of X-ray photoelectron spectroscopy [M], (G. E. Muilenberg, editor) Perkin Elmer Corporation (Physical Electronics), 1979。或新版本。 问题五:如何将仅含两列数据的*.txt文件转化为XpsPeak4.1 可载入的*.des文件 tianhesen: 我下载了 XpsPeak4.1 软件,但是我的 XPS 数据是*.txt 格式,几乎只有数据。但是 XpsPeak4.1 软件载入不了(可载入*.des 格式文件) ,所以就无法进行分峰处理。我用 UltraEdit 软件将*.txt 格式载入,令存为*.des 格式,但还是不行。我该怎么办呢? 回答如下: qingmiao: 打开 XpsPeak4.1 软件,在上面窗口的 data 目录中,选中 Import(ASCII),就可以 载入*.txt 数据了。 问题六:XPS 怎么算表面元素含量 simonzrh:
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自己完成了分峰,要算表面元素含量怎么办?有灵敏度因子/峰面积信息了,该用 一个元素的总峰面积还是主峰面积?峰面积乘还是除灵敏度因子啊?晕了 回答如下: wanglidong2006: Using one peak info for one element. For example, SiO2, you will get Si2s and Si2p, choose one for Si. simonzrh: 但是一个元素如 Si 2p 也是两个峰,是不是用总峰面积啊,面积除灵敏度吗? penfee: 就用所有分峰面积加和做总面积.呵呵.最近做了大量的 XPS。 Simonzrh: 我是根据资料文献刚做了初步的分峰啦,还谈不上计算和分析。按照 penfee,我就 把 Co2P3/2 和 Co2p1/2 一起加和来算啦,除上灵敏度因子归一法算。谢谢哈 问题七:元素相对含量的计算 scuslm: 我做的 XPS 实验,想分析 Mn3+和 Mn4+的相对含量,其中它们的结合能和对应的 面积均已知,但只知道 Mn 的校正因子,不知道 Mn3+和 Mn4+的校正因子,请各位帮忙 告诉一下它们的校正因子以及具体该怎么算。另外,O1s 的 XPS 图谱也显示了两种不同 的 O 物种,假设分别是 O1 和 O2,它们的结合能和对应的面积也均已知,怎样计算其相 对含量。 回答如下: jiazang: 同种元素不同价态的分子,不需要校正因子,可直接根据积分面积确定相对含量! 不同元素间才会用到校正因子,但是其相对含量还是不能很准确的换算出来! 问题八:如何设置扫描参数和如何进行 XPS 分析 麻雀-handan: 现在想做 Cu 的 XPS, 可是怎么样的扫描参数和怎么样来分析都没有头绪, 请各位高
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手帮帮忙吧! !穷学生做一次这么贵的表征不容易,一定要一次性就弄得 Ok 一些才好 啊!! ! 回答如下: rabbit7708: 你是做 CuO 的 XPS 吧?还有其他的氧化物吧?XPS 主要是通过元素价态变化来说明 问题的,还有峰形的变化,出峰位移。这些在表征相关书籍中都有介绍,还有相关文献 中也有分析过程。基本上制样有两种,一是粉未直接粘在导电 Cu 胶带,很薄的一层就 可以,一种是压片制成片状。就看你去做的时候他们的要求了。做的时候收集谱先获得 全谱,看看有什么元素。再针对存在的元素进行高分辩谱的收集。需要根据谱的形状进 行谱峰分解。 wangmz_xmc: XPS 是做元素价态分析的,首先你要保证样品不受污染。相关的书籍你可以看一下 固体表面化学方面的书籍。但一般这些书的理论都讲得很深,很难懂。我们研一下学期 学过这门课,清华可以做,每小时200元左右。曹立礼老师在清华理化楼二楼,你可 以去向他请教,他水平挺高,人也挺好。 daiqiguang: "怎么样的扫描参数和怎么样来分析",这些都不需要你来做,数据处理也有专门的 软件如果你到中科大(合肥)作,都会帮你分析,分峰等一切处理!我在那做过很多样 品,以前 200 块一个样,现在 300,好像是去年或今年买了一新仪器,所以价格涨了, 哈哈。Cu 我也做过!具体到和你反应相关的分析,最简单的方法就是参照相关的文献进 行分析,主要集中在价态以及结合能方面! ! 问题九:XPS 表征什么 feifeichong: 各位做催化的老大,对于 XPS 的表征到底分析什么?哪位师兄师姐们可以给小弟 讲讲啊?或者介绍点专业点的知识。谢谢了! 回答如下: sawm: 楼上的 MM,你读工业催化,找任何一本催化表征的书籍来看都讲的非常之详细,不 需要这里问的。辛勤主编《固体催化剂研究方法》和《多相催化的研究方法》 。
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rabbit7708: 可以多看些有关你做的方向的催化文献,特别是近几年的,上面基本都有 XPS 的表 征知识,而且和你做的东东比较相近,这样比较直观,也能看懂一些。看书要有目的地 去看,不能盲目,不然肯定看不懂。 moonbigboy: 你应该是看催化反应前后,催化剂表面化合物变化情况把,例如,如果反应吸附了 SO2, 你应该从 xps 上看反应后是不是生成了 SO4 离子或者是亚硫酸根离子在 origin 中 做出的图,要拷贝到 Word 中,可以在 Edit 中选择 copy page,然后在 Word 中建一个文本 框,点鼠标右键,复制即可。 wangmz_xmc: 我们刚学过固体表面化学这门课,清华大学曹立礼老师讲的,他最近正准备出一本类似 的表面科学的书,其中单独有一章讲 XPS 原理及应用,如果有问题可去向他请教,他在清 化理化楼二楼,退休的老教授,水平很高。 主要用于分析化学物质的价态,其他复杂的 XPS 可以用 XAES 伴峰谱图。分析,建议你先看一下他编的书。 问题十:XPS 与 EDX 在分析表面元素方面有什么区别 gcn: 最近想做表面分析,但不知道用那个好一点,请高手指教! 回答如下: nanotech: 如 XPS 要高级一些,XPS 不光可以分析出何种元素,什么含量,还可以知道该元素 是何种价态,比如金属表面,可以知道它是否被氧化,生成物是什么;而 EDX 只能知道 何种元素,各元素含量,看你需要选择用哪种,如果看看玩玩就选 EDX 吧,这个便宜不 少。 nanotech: 峰 XPS 一般采样深度为几个纳米,如果用角分辨 XPS 可以到十几个纳米,用深度剖 析可以达到几百个纳米;一般 EDX 打入的深度只有零点几到几个微米。 xilidge:
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XPS 主要是为了看元素价态,而 EDS 可以做全面元素分析,兼有扫描电镜的功能(可以 看到电镜照片,不过稍微模糊一点) 。 wang3555991896: xps 除了看价态以外,还可以得出相应的成键情况,进而得出相应原子的电子云分 布状况和杂化情况,这一点可以从很多文献中看到。edx 是能量散射谱,它主要和扫描 电镜一起使用,现在扫描电镜的分辨率都在 3nm,所以可以看得很细,但能谱是一种半 定量的分析手段,得到的数据不是很准,建议用 xps。 问题十一:XPS 研究中各种 N 的结合能 asyouplease: 请问是否有人熟悉各种 N 的结合能,比如我的产品中可能有 RNH2、RCN、RCHNH 以 及它们与金属表面的配位等,它们的结合能好像都很近的,如何确定并给它们分峰?没 有找到这方面的文献,不知是否有人有?非常感谢,也非常着急希望能获得帮助 回答如下: westwolf: 请查一下下面的数据库,有很多 https://www.doczj.com/doc/3c18638106.html,/xps/elm_in_comp_res.asp?elm1=N 有很多与你的问题相关。这应该是最好的 XPS 数据库了.希望对你有用。最好的情 况是 XPS 再辅助 FTIR.结果会更可靠。 asyouplease: 其实,我就是根据 FTIR 的结果分析可能含有氰基、亚胺等的,所以我希望获得 XPS 结果的支持。但因为 N 含量很低,数据中噪音很大(不知是否和 RAMAN 一样,由脉冲引 起的?) 。数据通过 origin 中 smooth 处理后,在 N 的范围内看出来有好几个峰。 另外,我总觉得 NIST 数据库也有不足。不加选择和适当验证的收录所有数据,有 点让人无所适从,对于同一环境下的某元素它会给出很多不同数据,其实很多是矛盾的 或者是有条件的。我觉得 https://www.doczj.com/doc/3c18638106.html,/database/elementxps.php 也有 不错之处,给出一个 BE 值和范围,它会给出一系列可能的物质。 westwolf: NIST 数据库和 Lasurface 的数据 都是来自于发表的文献,不是他们自己获得的。 基本上是一样的。你需要阅读相关的文献才能确定自己的答案。
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