煤制油技术现状,南非沙索公司与神华宁煤合作,国家政策
煤制油
一、政策导向
国家发展和改革委员会办公厅经报请国务院同意，于2008年8月4日印发《关于加强煤制油项目管理有关问题的通知》，有关内容如下：
（一）目前我国煤制油仍处于示范工程建设阶段，不能一哄而起、全面铺开。应坚持通过煤制油示范工程建设，全面分析论证，确定适合我国国情的煤制油技术发展主导路线，在总结成功经验的基础上再确定下一步工作。
（二）经我委报请国务院批准，目前可以继续开展工作的煤制油示范工程项目有已开工建设的神华集团公司煤直接液化项目。神华宁夏煤业集团公司与南非沙索公司合作的宁夏宁东煤间接液化项目，需在认真进行可行性研究后按程序报批，未获批准前不得擅自开工。除上述项目外，一律停止实施其他煤制油项目。各级政府投资主管部门要立即停止煤制油项目的核准，严禁化整为零、巧立名目、违规审批。
（三）对确定可以继续的示范工程项目，有关企业和科研机构要集中力量，加强关键技术和工艺研发，对技术可靠性、项目经济可行性、项目用水需求保障情况等进行充分论证，如具备核准条件，由省级发展改革委上报国家能源局，经国家能源局审查报请国家发展改革委审查，如可行需报请国务院批准后实施。
（四）在示范项目建设过程中，要采用有利于节约资源、提高能效、降低排放的先进技术，加快大型和专用设备自主化进程，注重知识产权制度建设，加强技术队伍培训，尽量减少示范过程中可能出现的问题，努力实现资源节约、环境友好和经济社会的协调发展。
2009年5月，国务院办公厅下发《石化产业调整和振兴规划细则》全文，明确要求要稳步开展现代煤化工示范，坚决遏制煤化工盲目发展势头。今后三年停止审批单纯扩大产能的焦炭、电石等传统煤化工项目，重点抓好现有煤制油、煤制烯烃、煤制二甲醚、煤制甲烷气、煤制乙二醇等五类示范工程。
2009年9月，国务院批转发展改革委等部门《关于抑制部分行业产能过剩和重复建设引导产业健康发展的若干意见》，要求严格执行煤化工产业政策，稳步开展现代煤化工示范工程建设，今后三年原则上不再安排新的现代煤化工试点项目。
在 2009 年 9 月 22 日召开的“煤代油技术及政策”国际研讨会上了解到：随着伊泰集团、潞安矿业集团、神华包头煤间接液化以及神华煤直接液化示范项目的成功投产，经过一段时间的试运行及摸索，在总结示范项目经验基础上，“十二五”期间国家应当会出台相关规划和政策，鼓励煤制油产业的发展。
二、中国煤炭液化发展的必要性
1.多煤、少气、缺油的资源结构。
在可预见的将来，中国以煤为主的能源结构不会改变。煤炭
是中国未来的主要可依赖能源。此外，从经济上看，煤炭也是最廉价的能源。中国是发展中国家，又是能源消费大国，经济实力和能源供应都要求中国的能源消费必须立足于国内的能源供应，这就决定中国的能源结构必须是以煤为主体。煤炭大量使用，引发了严重的环境污染问题。
2.石油进口迅速上升，已对中国的能源供应安全构成威胁。
石油是保障国家经济命脉和政治安全的重要战略物资。中国石油资源相对贫乏，由于国产石油无法满足需求，对进口油依存度越来越高。自 1993 年成为石油净进口国后，石油进口量迅速上升，进口量的剧增，依存度的加大，已对中国能源供应安全构成威胁。
中国原油产量与进口量（万吨）中国原油产量与进口量（万吨） 25000 20000 15000 10000 5000 0 2000年 2001年 2002
年 2003年 2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年产量进口数量
3.煤炭液化可增加液体燃料的供应能力，有利于煤炭工业的可持续发展。
煤炭通过液化可将硫等有害元素以灰分脱除，得到洁净的二次能源，对优化终端能源结构、减少环境污染具有重要的战略意义。煤炭液化可生产优质汽油、柴油和航空燃料，尤其是航空燃料，要求单体积的发热量高，即要求环烷烃含量高，而煤液化油的特点就是富含环烷烃，通过加氢处理即可得到优质航空燃料。
发展煤炭液化不仅可以解决燃煤引起的环境污染问题，充分利用中国丰富的煤炭资源优势，保证煤炭工业的可持续发展，满足未来不断增长的能源需求，而且更重要的是，煤炭液化还可以生产出经济适用的燃料油，大量替代柴油、汽油等燃料，有效地解决中国石油供应不足和石油供应安全问题。
三、经济性分析
经济性分析煤制油项目对油价有很强的依赖性，也和项目所在地的煤质情况、市场煤价都有关系。
以目前的工艺可以看出，每产一吨成品油，直接液化消耗原煤是 3-4吨，而间接液化则消耗4.5-5.5吨；每吨油品产出中，直接液化耗水量为5-6吨，间接液化项目的耗水量则是8-12吨。从单位投资金额计算，前者的每万吨成本是0.8亿-1.1亿元，而
间接液化则是1.1亿 -1.3亿元。而且直接液化的经济性比间接液化更为明显（见表1）。
表1 煤炭价格（元/吨）煤炭价格与成本原油价格对比 100 500 60～70 36～46 600 67～77 40～50 700 74～84 45～55 800 80～90 49～59 间接液化（美元/桶） 35～45 直接液化（美元/桶） 20～30 4 / 14
首先，煤炭价格的上涨将降低煤制油的经济性。从表1可见，当煤炭价格为500元／吨，原油价格6O～70美元／桶时，间接液化有经济性。当煤炭价格为800元／吨，原油价格在8O～9O美元／桶时，间接液化才有经济性。直接液化对煤炭价格的敏感性也同样明显。
其次，环境成本的提升也将降低煤制油的经济性。在当前10美元／吨的C02排放交易价下，原油价格在67～77美元／桶以上，间接液化法具有经济性。但如果CO2排放交易价提高到5O美元／吨，对应的原油价格必须达到96～106美元／桶以上，间接液化法才具有经济性。
据神华煤制油化工有限公司方面透露：在现在的煤价下，如果国家油价维持在 65～70 美元一桶，按照既有的设计条件运转下来，直接液化项目能够盈利，至少不会亏损。
但是，国家发改委能源研究所高级顾问周凤起算过一笔账，每生产 1 吨煤制油，将消耗 4 吨煤炭，比如生产发热量10000 大卡的石油，将消耗 4 吨 5000 大卡的煤炭，在转化过程中，能量消耗一半。当煤炭价格达到 1000 元/吨时，煤制油成本价将达 10000 元/吨，折算成原油价格将在 120 美元/桶左右。而且新上一个产量为 100 万吨／年的煤制油项目，还要投资 100 亿元人民币。因此，发展煤制油从经济效益上看并不划算。
此外，煤制油项目还受到各种因素制约，特别是能源、市场、投资能力、科研力量和国际合作等因素。煤制油项目未能解决的设备问题和技术稳定问题也是其商业化运作的制约因素。因此，除南非曾因禁运而大规模商业性开发煤制油项目外，美国、德国、日本虽纷纷投巨资研究煤制油项目，建设试验工程，但没有真正投入商业运行。
四、工艺技术发展状况
1.间接液化技术
（1）Sasol 工艺
间接液化已有 70 多年历史，1943 年 F-T 合成技术实现工业化， 1956 年在南非形成了规模化工业生产，是成熟可靠的煤液化技术。至今，在南非已建成了 3 个大厂，年耗原煤 4600 万吨，生产液体烃类产品 760 多万吨，其中油品近 500 万吨。Sasol 已成为世界煤化工装置的典范。
神华集团、宁夏煤业集团与南非 Sasol 公司合作，计划投资 300 亿元在宁夏建设煤间接液化项目。建成投产后，每年将生产 320 万吨油品。神华宁煤与沙索公司合作的间接液化煤制油项目可行性研究报告于 2009 年 11 月通过预审，该项目环境影响报告书也已编制完成，并于 12 月开展了环评公示。该项目目前正在进行可行性研究，和南 6 / 14 非 Sasol 公司已签署第二阶段合作补充协议和执行计划。而另一间接液化项目—陕西榆林项目已暂停。
表2 公司机构工艺名主要间接液化工业应用情况单体最大规应用情况模 Sasol Shell SSPD、SAS SMDS 100 万吨/年 50 万吨/年 1.25 万桶/d 10 万吨/年 18 万吨/年 Sasol 工业化、神华筹建来西亚 Bintulu 工业化新西兰工业化晋煤工业化伊泰、潞安工业化，神华试运行兖矿高低温 F-T 5000 吨/年山东枣庄的鲁南化肥厂中试中石化 F-T 合成3000 吨/年 RFI-1 催化剂镇海炼化建设的中石化第一套 GTL 中试 Exxon-Mobil MTG 德国伍德中国科学院 MTG F-T 浆态床
（2）荷兰 Shell 公司的 SMDS 工艺
SMDS 工艺包括造气、合成、 F-T 中间产品转化和产品分离 4 部分，主要产品是柴油、航空煤油、石脑油和蜡。 1993 年在马来西亚 Bintulu 建成 50 万吨/年的工厂。
（3）Exxon-Mobil 的 MTG 工艺
Mobil 甲醇-汽油（MTG）间接液化工艺利用两个截然不同的阶段从煤或天然气中生产汽油。
1984 年 Mobil 公司在德国波恩附近的 Wesseling 建成了一套 100 桶/d 汽油的 MTG 工艺固定床示范装置，之后又建成一套同样规模的流化床示范装置。
新西兰建造了一座 1.25 万桶/d 的商业化液化厂，处理从Maui 矿区生产的气体。尽管这座液化厂仍进行着生产，但是只生产甲醇，目前这样的经济性最好。
（4）德国伍德公司的 MTG 生产工艺
晋煤集团与中科院山西煤化所共同组建山西省粉煤气化工程研究中心，联合攻关，在粉煤、特别是劣质粉煤气化的关键技术方面寻求突破。项目建设过程中，他们与拥有国际先进技术的美国美孚公司和德国伍德公司紧密合作，交流学习，掌握了相关先进技术。项目的流程工艺是，采用拥有我国自主知识产权的“灰熔聚流化床粉煤气化技术”，将劣质粉煤气化造气，生成甲醇，再通过德国伍德公司的 MTG 生产工艺，间接生成油品。
晋煤集团 10 万吨/年甲醇制汽油项目于 2009 年 6 月试车成功，该项目配套的 30 万吨/年煤制甲醇项目所用的“灰熔聚流化床粉煤气化技术”于 3 季度试车成功。
（5）其它国外以天然气为原料的工艺
除了已经运行的商业化间接液化装置外，埃克森－美孚（ Exxon-Mobil ），英国石油（ BP-Amoco ），美国大陆石油公司 8 / 14 （ConocoPhillips）和合成油公司（Syntroleum）等也正在开发自己的费托合成工艺，转让许可证技术，并且计划在拥有天然气的边远地域来建造费托合成天然气液化工厂。
（6）中国科学院山西煤炭化学研究所自主研发的催化剂和“煤基液体燃料合成浆态床工业化技术”（中科合成油技术F-T）
中国科学院山西煤炭化学研究所合成油工程研究中心(现中科合成油技术有限公司) 完成了 2000t/a 煤炭间接液化工业试验。2001 年 ICC-IA 低温催化剂的合成技术完成中试验证。2007 年 ICC-II 高温催化剂的合成技术进行了中试试验，开发了 ICC-I 低温(230-270℃) 和 ICC-II 高温(250-290℃)两大系列铁基催化剂技术和相应的浆态床反应器技术，并分别形成了两个系列合成工艺，即针对低温合成催化的重质馏分合成工艺 ICC-HFPT 和针对高温合成催化剂的轻质馏分合成工艺ICC-LFPT。
工业应用：
伊泰 16 万吨/年煤制油项目采用的中科院山西煤化所技术于 2009 年 3 月试车成功，并于 9 月正式投产，实现了装置负荷在 60% 至 80%之间的长周期运转。
潞安矿业集团煤制油项目（试车）万吨/年， 16 主要产品为柴油、液化石油气、石脑油及少量混合醇燃料。项目是国家“863”高新技术项目和中国科学院知识创新工程重大项目的延续项目，也是通过国家级项目招标确定的国内首个间接液化煤基合成油示范工厂，被国家发改委列入国家煤化工中长期发展规划和“863”高新技术项目。
项目已通过山西省发改委的立项审批，并报国家发改委核准备案。潞安在山西在建 300 万吨煤变油项目，预计将于2010 年底建成投产，同时在新疆上马 300 万吨煤变油项目。并计划到 2020 年左右，建成年产 1500 万吨的煤制油基地。
神华 18 万吨/年油品将与 2010 年试车。
（7）兖矿技术
2002 年 12 月，兖矿集团在上海组建上海兖矿能源科技研发有限公司，开始开展煤间接液化技术的研究和开发工作。2004 年 3 月 5000 吨级低温费托合成、100 吨/年催化剂中试装置建成，并实现一次投料试车成功。2006 年 4 月又开始建设万吨级高温费托合成中试装置和 100 吨/年高温费托合成催化剂中试装置，2007 年初高温费托合成催化剂中试装置生产出
高温 II 型催化剂，2007 年 6 月高温费托合成中试装置一次投料开车成功生产出合格产品。
2010 年 2 月 5 日，由兖矿集团自主研发完成的“高温流化床费托合成技术”科技成果通过中国石油和化学工业协会组织的技术鉴定。
据兖矿集团介绍，兖矿集团建设了我国唯一的规模为 5000 吨/ 年油品的高温流化床费托合成中试装置，位于山东枣庄的鲁南化肥厂，采用两种催化剂连续满负荷运行 1580 小时，进行了多种工况考核试验。
兖矿集团自主知识产权的陕西榆林 100 万吨/年间接液化煤制油项目于 1 月通过了环保部的环评，目前该项目全部二十三份支持文件都已经完备，等待核准。
（8）中石化 F-T 合成 RFI-1 催化剂
中石化石科院于 2004 年开始进行费托合成的相关研究工作，开展了 F-T 合成的催化剂、反应工程、系统工程等方面的研究工作，开发出了第一代高性能的固定床 F-T 合成催化剂RFI-1。 2006 年初 RFT-1 催化剂通过中石化集团公司组织的中试评议。2006 年 6 月在镇海炼化建设的中石化第一套3000t/a GTL 中试装置中使用。
2.直接液化
除间接液化工艺外，国外在煤炭的直接液化方面也相当活跃，德国、美国、日本等工业发达国家先后开发了十几种新工
艺，其中几种先进技术完成了投煤规模为 50-200t/d 的大型中试。比较著名的有溶剂精炼煤法(SRC-l， SRC-2)、供氢溶剂法(EDS)、氢煤法(H-COAL)等。
表 3 主要直接液化发展情况公司德国鲁尔日本 NEDO 美国神华工艺 IGOR NEDOL 法烟煤液化工艺 HTI 自主液化工艺发展情况中试中试中试 108 万吨/年工业化
（1）德国 IGOR 工艺
20 世纪 70 年代，德国鲁尔煤炭公司与 Veba 石油公司和DMT 矿冶及检测技术公司合作开发出了 IGOR 工艺，其主要特点是反应条件较苛刻(温度 470℃，压力 30MPa)，催化剂采用炼铝工业的废渣，液化反应和液化油加氢在一个高压系统内进行，可一次得到杂原子含量极低的液化精制油。循环溶剂是加氢油，供氢性能好，煤液化转化率高。
（2）日本 NEDOL 法烟煤液化工艺
日本于 20 世纪 80 年代初专门成立了日本新能源产业技术综合开发机构(NEDO)，负责组织十几家大公司合作开发出了NEDOL 法烟煤液化工艺。该工艺的特点是反应压
力低 (17-19MPa) ，反应温度为 455-465℃；催化剂采用合成硫化铁或天然硫铁矿；固液分离采用减压蒸馏的方法；配煤浆用的循环溶剂单独加氢；液化油含有较多的杂原子还需加氢提质才能获得合格产品。
（3）美国 HTI 工艺
美国 HTI 工艺是在 H-COAL 工艺基础上发展起来的。该工艺采用两段催化液化，悬浮床反应器和铁基催化剂。其主要特点是反应条件较温和(440-450℃，反应压力 17MPa)；催化剂用量少；在高温分离器后面串联有在线固定床反应器，对液化油进行加氢精制；固液分离采用临界溶剂萃取的方法，从液化残渣中最大限度地回收重质油，从而大幅度提高了液化油收率。
（4）神化煤直接液化技术
我国从 20 世纪 70 年代开始开展煤炭直接液化技术研究。 1997-2000 年煤炭科学研究总院分别与美国、德国、日本等有关机构合作，完成了神华煤、云南先锋煤和黑龙江依兰煤直接液化示范工厂的初步可行性研究。神华集团在对国内外煤直接液化技术进行了认真比选的基础上，采用众家之长和成熟的单元工艺技术，开发出神华自己的煤直接液化工艺路线和催化剂合成技术。以无水无灰基煤计，C4 以上油收率为 57%-58%，油品重馏分增多，更有利于柴油产品的生产。催化剂表现出非常高的活性具有生产流程简单、操作平稳方便、投资小、运行成本低等优点。
神华集团煤直接液化项目在内蒙古鄂尔多斯市伊金霍洛旗乌兰木伦镇建的一期工程首条生产线投资达 123 亿元，每年可转化 350 万吨煤，生产 108 万吨柴油、液化石油气、石脑油等产品。首条生产线 2008 年 12 月 30 日开始投煤，12 月31 日顺利实现油渣成型，打通全流程，产出合格油品和化工品。并于 2009 年三季度进行第二次试车，截至 12 月，已经总计出产了 10 万吨左右汽油、柴油等油品，首列石脑油专列于 10 月 18 日载着 2300 吨石脑油出厂运往天津港外销。神华煤制油化工公司 18 万吨/年的铁剂浆态床间接液化装置也成功试运行。并于 2009 年三季度进行第二次试车，截至 12 月，已经总计出产了 10 万吨左右汽油、柴油等油品，首列石脑油专列于 10 月 18 日载着 2300 吨石脑油出厂运往天津港外销。神华煤制油化工公司 18 万吨/年的铁剂浆态床间接液化装置也成功试运行。神华集团也已经正式拿到成品油批发执照。
据了解，神华集团将在第一条直接液化生产线工业化运行后，再建一期工程的另外两条生产线，最终达到年产 320 吨各种产品的能力。
光电技术应用及发展前景 43年前，世界上第一台红宝石激光器诞生。那是的人们可能还没有意识到，由这台激光器引发、孕育出的光电技术将会给人类的生活带来翻天覆地的变化。随着光电子技术的发展，当今社会正在从工业社会向信息社会过渡，国民经济和人们生活对信息的需求和依赖急剧增长，不仅要求信息的时效好、数量大，并且要求质量高、成本低。在这个社会大变革时期，光电子技术已经渗透到国民经济的每个方面，成为信息社会的支柱技术之一。总之，光电子技术具有许多优异的性能特征，这使得它具有很大的实用价值。而今天，光电子产业已经成为了21世纪的主导产业之一，光电子产业的参天大树上也结出了丰富的果实，它们包括但不限于光通信、光显示、光存储、影像、光信号、太阳能电池等，也可以简单地把现在的光电子产业分为信息光电子（光纤光缆、光通讯设备等）、能量光电子（激光器、激光加工成套设备、测控仪表、激光医疗设备等）和娱乐光电子（VCD、DVD等）等方面。而本文将介绍光电子技术在以下几个领域的应用前景： 光通信： 目前，光通信网络行业进入高速发展期，以光纤为技术基础的网络通信现在已经覆盖了许多地区，我国的光通信技术也走在世界前沿。2011年，武汉邮科院在北京宣布完成“单光源1-Tbit/s LDPC 码相干光OFDM 1040公里传输技术与系统实验”，这一传输速率是目前国内商用最快速率（40Gb/s）的25倍。十年发展，光通信商用水平的最高单通道速率增长16倍，最大传输容量增长160倍。2005年，邮科院实现了全球率先实现在一对光纤上4000万对人同时双向通话。2011年7月29日，该院在全球率先实现一根光纤承载30.7Tb/s信号的传输，可供5亿人同时在一根光纤上通话，再次刷新了世界纪录。而正在研制中的科技开发项目，有望在2014年实现12.5亿对人同时通话。这一技术打破了美国在该领域保持的单光源传输世界纪录。在2012年的中国光博会上，新技术新产品层出不穷。随着“宽带中国”上升为国家战略，中国得天独厚的优势将使光通信制造企业信心十足。通过对各技术分支专利的分析看出，光传输物理层PHY和光核心网OCN已相对成熟和大规模商用，PHY作为各类网络传输技术的基础，既有相对成熟、淡出主流研究视野的部分，也有业界正致力于寻求最佳方案的技术点；无光源网络PON技术作为世界普遍应用的接入网技术，在“光纤到户”、“三网融合”等概念家喻户晓的今天，已成为各国基础设施建设投资中不可或缺的一部分；分组传输网PTN既是新兴技术，又得到了相对广泛的商用，其在移动回传中的应用使其成为下一代移动通信网络建设中的一种较优的可选方案，同时相应技术标准正在争议中发展，其技术发展将带来难以估量的商机；智能交换光网络ASON技术和全光网AON技术是光通信网络技术中的前沿技术，目前处于研发的活跃期。 此外，复旦大学近期研发的可见光通讯技术也是光通信的发展前景之一，通过给普通的LED 灯泡加装微芯片，使灯泡以极快的速度闪烁，就可以利用灯泡发送数据。而灯泡的闪烁频率达到每秒数百万次。通过这种方式，LED灯泡可以快速传输二进制编码。但对裸眼来说，这样的闪烁是不可见的，只有光敏接收器才能探测。这类似于通过火炬发送莫尔斯码，但速度更快，并使用了计算机能理解的字母表。使用标准的LED照明灯，哈斯与他的同事戈登·波维创建的研究小组已经达到了两米距离的130兆比特每秒的传输速度。随着白炽灯、荧光灯逐渐退出市场并被LED取代，未来任何有光的地方都可以成为潜在的LiFi数据传输源。想象一下这样的场景：在街头，利用路灯就可以下载电影；在家里，打开台灯就可以下载歌曲；在餐厅，坐在有[4]灯光的地方就可以发微博；即便是在水下，只要有灯光照射就可以上网。LiFi另一个巨大的好处是在任何对无线电敏感的场合都可以使用，比如飞机上、手术室里等。光显示：
我国技术转移现状及经验借鉴 摘要：本文通过介绍北京、上海、广东等国内发达地区技术转移的现状，总结出发达地区技术转移工作的经验，并对我省起到一定的借鉴作用。 关键词：技术转移经验借鉴 1、国内发达地区技术转移现状 1.1 北京市技术转移现状 北京拥有丰富的科技资源和深厚的经济基础，技术转移活动频繁。在北京市科委的支持下，北京协同创新服务联盟围绕企业的创新需求开展协同服务，推动北京技术转移行业快速发展。目前，北京市已有13家技术转移机构成为国家认定的首批技术转移示范机构，其中包括清华大学国家技术转移中心、北京科大恒兴高技术有限公司、科威国际技术转移有限公司、北京中农博乐科技开发有限公司等多个技术转移机构。为更好的促进技术转移行业的发展，北京市打造了资源、信息和协作的三个平台。首先，打造资源平台，优化技术转移环境。培育了一批技术转移服务机构，积极优化技术转移环境。促进了一批技术转移服务机构的发展并成长为品牌机构，使北京市的技术转移工作走在全国前列；第二，打造信息平台，夯实联盟凝聚力。不断加强网站等信息化平台建设，北京协同创新服务联盟网站和北京市知识产权创新服务平台网站，凝聚资源为企业创新各个环节提供服务；第三，打造协作平台，开掘深层次服务。兼顾资源提供方、资源需求方、中介服务方三方资源，按照专业、领域、擅长等进行科学分类，形成技术转移服务产业链的上下游，深入挖掘企业需求创造合作点。 1.2 广东省技术转移现状 广东省非常重视科技政策环境和中介服务体系建设，先后制定了一系列促进科技与经济结合，推动科技成果转化的政策法规，着力构建科技创新和科技中介服务体系，发挥政府在科技成果转化中的宏观引导和调控作用。在政策环境方面，出台了有关投融资、税收优惠、科技中介及知识产权保护等一系列促进科技进步、加快科技成果转化的政策法规及相关管理办法，如《广东省技术市场条例》、《广东省人民政府教育部关于加强产学研合作提高广东自主创新能力的意见》、《广东省科技型中小企业融资担保风险准备金管理暂行办法》、《广东省专利保护条例》等文件。一些地区也出台了地方性的政策法规，如广州市出台了《广州市促进科技成果转化条例》。这些政策的制定和有效推行，对广东省技术转移活动产生了巨大的促进作用。在科技服务体系建设方面，目前广东已基本建立起逐级分布、种类齐全的各种科技服务机构，形成了多层次、多形式、多渠道的技术交易服务体系。据统计，全省各类科技服务机构已达6700余家，包括各类型的科技中介服务机构500多家，技术贸易机构6000多家，科技企业孵化器30家，从业人员超过l5万人。 为进一步推进广东地区科技资源为经济发展服务，寻求行业技术需求和科研机构的研究方向，广东在全国率先引入了技术路线图的方法来制定行业规划。运用技术路线图的方法，收集领域和行业技术需求信息，预测了多个行业的发展方向并找寻了行业的共性关键技术，引导科研机构资源向行业发展的瓶颈倾斜。在制定产业技术路线图的过程中，广东省政府为企业和研究机构搭建了合作的平台，使产学研工作更有针对性，使科研机构的研发工作更贴近企业需求。 1.3 上海市技术转移现状
职大09微电子 光刻技术 摘要：光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺，在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。被除去的部分可能形状是薄膜内的孔或是残留的岛状部分。 关键词：光刻胶；曝光；烘焙；显影；前景 Abstract: photoetching lithography (is) through a series of steps will produce wafer surface film of certain parts of the process, remove after this, wafer surface will stay with the film structure. The part can be eliminated within the aperture shape is thin film or residual island. Keywords: the photoresist, Exposure; Bake; Enhancement; prospects
目录 第一章绪论 (2) 第二章光刻技术的原理 (3) 第三章光刻技术的工艺过程 (4) 1基本光刻工艺流程—从表面准备到曝光 (4) 1.1光刻十步法 (4) 1.2基本的光刻胶化学物理属性 (4) 1.2.1组成 (4) 1.2.2光刻胶的表现要素 (4) 1.2.3正胶和负胶的比较 (5) 1.2.4光刻胶的物理属性 (5) 1.3光刻工艺剖析 (5) 1.3.1表面准备 (5) 1.3.2涂光刻胶 (5) 1.3.3软烘焙 (6) 1.3.4对准和曝光（A&E） (6) 2基本光刻工艺流程—从曝光到最终检验 (6) 2.1显影 (6) 2.1.1负光刻胶显影 (6) 2.1.2正光刻胶显影 (7) 2.1.3湿法显影 (7) 2.1.4干法（或等离子）显影 (7) 2.2硬烘焙 (7) 2.3显影检验（develop inspect DI） (7) 2.3.1检验方法 (8) 2.3.2显影检验拒收的原因 (8) 2.4刻蚀 (8) 2.4.1湿法刻蚀 (8) 2.4.2干法刻蚀（dry etching） (9) 2.5光刻胶的去除 (10) 2.6最终目检 (10) 第四章光刻技术的发展与现状 (11) 1 .EUV 光刻技术 (11) 2 .PREVAIL 光刻技术 (12) 3.纳米压印光刻技术 (12) 4.展望 (14) 参考文献15
集成电路的现状与发展趋势 1、国内外技术现状及发展趋势 目前，以集成电路为核心的电子信息产业超过了以汽车、石油、钢铁为代表的传统工业成为第一大产业，成为改造和拉动传统产业迈向数字时代的强大引擎和雄厚基石。1999年全球集成电路的销售额为1250亿美元，而以集成电路为核心的电子信息产业的世界贸易总额约占世界GNP的3%，现代经济发展的数据表明，每l~2元的集成电路产值，带动了10元左右电子工业产值的形成，进而带动了100元GDP的增长。目前，发达国家国民经济总产值增长部分的65%与集成电路相关；美国国防预算中的电子含量已占据了半壁江山（2001年为43.6%）。预计未来10年内，世界集成电路销售额将以年平均15%的速度增长，2010年将达到6000~8000亿美元。作为当今世界经济竞争的焦点，拥有自主版权的集成电路已曰益成为经济发展的命脉、社会进步的基础、国际竞争的筹码和国家安全的保障。 集成电路的集成度和产品性能每18个月增加一倍。据专家预测，今后20年左右，集成电路技术及其产品仍将遵循这一规律发展。集成电路最重要的生产过程包括：开发EDA（电子设计自动化）工具，利用EDA进行集成电路设计，根据设计结果在硅圆片上加工芯片（主要流程为薄膜制造、曝光和刻蚀），对加工完毕的芯片进行测试，为芯片进行封装，最后经应用开发将其装备到整机系统上与最终消费者见面。 20世纪80年代中期我国集成电路的加工水平为5微米，其后，经历了3、1、0.8、0.5、0.35微米的发展，目前达到了0.18 微米的水平，而当前国际水平为0.09微米（90纳米），我国与之相差约为2-3代。 （1）设计工具与设计方法。随着集成电路复杂程度的不断提高，单个芯片容纳器件的数量急剧增加，其设计工具也由最初的手工绘制转为计算机辅助设计（CAD），相应的设计工具根据市场需求迅速发展，出现了专门的EDA工具供应商。目前，EDA主要市场份额为美国的Cadence、Synopsys和Mentor等少数企业所垄断。中国华大集成电路设计中心是国内唯一一家EDA开发和产品供应商。 由于整机系统不断向轻、薄、小的方向发展，集成电路结构也由简单功能转向具备更多和更为复杂的功能，如彩电由5片机到3片机直到现在的单片机，手机用集成电路也经历了由多片到单片的变化。目前，SoC作为系统级集成电路，能在单一硅芯片上实现信号采集、转换、存储、处理和I/O等功能，将数字电路、存储器、MPU、MCU、DSP等集成在一块芯片上实现一个完整系统的功能。它的制造主要涉及深亚微米技术，特殊电路的工艺兼容技术，设计方法的研究，嵌入式IP核设计技术，测试策略和可测性技术，软硬件协同设计技术和安全保密技术。SoC以IP复用为基础，把已有优化的子系统甚至系统级模块纳入到新的系统设计之中，实现了集成电路设计能力的第4次飞跃。
国内光通信产业发展现状分析 一、光电线缆及光器件发展成就 中投顾问在《2017-2021 年光通信行业深度调研及投资前景预测报告》中指出，2011-2015 年，我国光电线缆及光器件行业企业紧跟国家发展战略部署，围绕创新驱动、转型发展作出了艰苦努力，取得令人鼓舞的成绩。截止十二五末，行业企业完成工业产值同比增加26%。对国家的税收贡献达900.07 亿。行业31 家上市公司的总销售规模达到2205.78 亿人民币。占整个产业比例41.3%。产业资本边界清晰，以民营+上市为主的格局基本形成。产业结构不断优化，光纤预制棒、光纤光缆、光器件、战略新兴产业和传统的同轴电缆、数据电缆、铁路信号电缆、高频电子线缆组件等五大产业格局市场竞争能力不断提高。 我国光纤预制棒、光纤、光缆产品，光纤预制棒十二五末打破国外垄断国产化率由不到30%提高至约80%，预制棒技术实现了群体突破，国内总的预制棒产能超过5000 吨。已成功开发出了自主知识产权的光纤预制棒制造设备。总规模已达935 亿人民币。光纤、光缆产能充足，供应全球市场份额的一半以上。光纤、光缆的产能分别是2.4 亿公里和2.8 亿芯公里。企业总数达150 家以上，其中规模较大的光缆企业在40 家左右，能同时生产光纤、光缆的企业在20 家左右，光纤预制棒、光纤及光缆一体化的企业有10 家左右。已经成为全球光纤光缆第一产能大国，同时一些领军企业已经进入了国际领先行列。实现了光纤拉丝成套设备国产化，而且部分光纤拉丝成套设备开始销售到海外。生产OPGW、OPPC 和海光缆等光单元用的焊管生产线基本实现国产化。该产业集群十二五未共完成销售收入1330.63 亿人民币，占
重庆市技术转移与成果转化现状、问题及对策建议 当前，我国正处于产业转型升级的关键时期，创新驱动发展已成为国家发展的重要战略。技术转移与成果转化作为实施创新驱动战略的重要内容，是企业实现技术创新、增强核心竞争力的关键环节，已引起了国家和各级地方政府的高度重视。重庆作为中西部欠发达地区，技术转移与成果转化成效对促进企业技术创新，优化我市产业结构，实施区域创新驱动发展战略具有至关重要的作用。 一、我市技术转移与成果转化的现状 近年来，我市在市科技成果转化（产业化）工作领导小组的领导下，全市技术转移与成果转化环境建设迈上新台阶。 （一）搭建技术转移与交流平台，推动技术交流与合作 我市持续举办的中国重庆高交会暨国际军博会，已成为展示国内外最新高新技术、促进科技成果交易的重要平台。据统计，历届高交会参展高新技术项目累计104400个，交易技术项目4327项，成交额达1951.26亿元。 （二）加强技术转移与成果转化服务载体建设 近几年来，我市积极加强科技企业孵化器和生产力促进中心建设，为促进技术转移与成果转化提供了有效的服务。截至目前，我市科技企业孵化器55家，其中国家级孵化器9家、国家大学科技园2家、国家级大学生创业基地1家；市级孵化器29家，初步构建起了“创业苗圃——孵化器——加速器”孵化链，基本形成了“结构形式
多样化、投资主体多元化、管理服务网络化”的科技企业孵化体系；全市现有生产力促进中心70家，其中国家级中心9家，市级中心25家，39个区县实现了全覆盖。据统计，2013年孵化器实现服务收入9136.75万元，生产力中心实现服务收入5.48亿元。 （三）构建技术转移与成果转化服务网络 我市科学布局科技成果转化中心，基本构建起了技术转移与成果转化服务网络。目前，全市已在高校、科研院所、区县建立成果转化中心25个。其中，围绕全市经济社会发展及企业技术创新需求，分别在大型企业集团（园区）、重点行业、高新（科研院所）各建科技成果转化中心5个；围绕城乡统筹发展和新农村建设的科技需求，指导和支持区县建立了10个区域性科技成果转化中心，专业的技术转移与成果转化服务网络构架已见雏形。 （四）技术交易服务体系建设初见成效 我市不断健全技术市场和科技中介机构，技术交易服务体系建设初见成效。截止目前，全市已有技术合同认定登记站点28个，常设技术交易市场3个，国家级技术转移示范机构4家，国家创新驿站区域及基层站点3家，技术交易市场和技术推广与服务机构88个，知识产权事务所7个，科技咨询机构140个，科技评估机构1个，情报信息中心98个，风险投资机构15个。以重庆高交会、技术交易所为代表的技术交易服务体系已基本形成。 （五）政策环境日趋完善
光刻技术及其应用的状况和未来发展 光刻技术及其应用的状况和未来发展1 引言 光刻技术作为半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一，一方面在过去的几十年中发挥了重大作用；另一方面，随着光刻技术在应用中技术问题的增多、用户对应用本身需求的提高和光刻技术进步滞后于其他技术的进步凸显等等，寻找解决技术障碍的新方案、寻找COO更加低的技术和找到下一俩代可行的技术路径，去支持产业的进步也显得非常紧迫，备受人们的关注。就像ITRS对未来技术路径的修订一样，上世纪基本上3～5年修正一次，而进入本世纪后，基本上每年都有修正和新的版本出现，这充分说明了光刻技术的重要性和对产业进步的影响。如图1所示，是基于2005年ITRS对未来几种可能光刻技术方案的预测。也正是基于这一点，新一轮技术和市场的竞争正在如火如荼的展开，大量的研发和开发资金投入到了这场竞赛中。因此，正确把握光刻技术发展的主流十分重要，不仅可以节省时间和金钱，同时可以缩短和用户使用之间的周期、缩短开发投入的回报时间，因为光刻技术开发的投入比较庞大。 2 光刻技术的纷争及其应用状况 众说周知，电子产业发展的主流和不可阻挡的趋势是"轻、薄、短、小"，这给光刻技术提出的技术方向是不断提高其分辨率，即提高可以完成转印图形或者加工图形的最小间距或者宽度，以满足产业发展的需求；另一方面，光刻工艺在整个工艺过程中的多次性使得光刻技术的稳定性、可靠性和工艺成品率对产品的质量、良率和成本有着重要的影响，这也要求光刻技术在满足技术需求的前提下，具有较低的COO和COC。因此，光刻技术的纷争主要是厂家可以提供给用户什么样分辨率和产能的设备及其相关的技术。 以Photons为光源的光刻技术 2.1 以Photons为光源的光刻技术 在光刻技术的研究和开发中，以光子为基础的光刻技术种类很多，但产业化前景较好的主要是紫外(UV)光刻技术、深紫外(DUV)光刻技术、极紫外(EUV)光刻技术和X射线(X-ray)光刻技术。不但取得了很大成就，而且是目前产业中使用最多的技术，特别是前两种技术，在半导体工业的进步中，起到了重要作用。 紫外光刻技术是以高压和超高压汞(Hg)或者汞-氙(Hg-Xe)弧灯在近紫外(350～450nm)的3条光强很强的光谱(g、h、i线)线，特别是波长为365nm的i线为光源，配合使用像离轴照明技术(OAI)、移相掩模技术(PSM)、光学接近矫正技术(OPC)等等，可为0.35～0.25μm的大生产提供成熟的技术支持和设备保障，在目前任何一家FAB中，此类设备和技术会占整个光刻技术至少50％的份额；同时，还覆盖了低端和特殊领域对光刻技术的要求。光学系统的结构方面，有全反射式(Catoptrics)投影光学系统、折反射式(Catadioptrics)系统和折射式(Dioptrics)系统等，如图2所示。主要供应商是众所周知的ASML、NIKON、CANON、ULTRATECH 和SUSS MICROTECH等等。系统的类型方面，ASML以提供前工程的l:4步进扫描系统为主，分辨率覆盖0.5～0.25μm：NIKON以提供前工程的1：5步进重复系统和LCD的1：1步进重复系统为主，分辨率覆盖0.8～0.35μm和2～0.8μm；CANON以提供前工程的1：4步进重复系统和LCD的1：1步进重复系统为主，分辨率也覆盖0.8～0.35μm和1～0.8μm；ULTRATECH以提供低端前工程的1：5步进重复系统和特殊用途(先进封装／MEMS／，薄膜磁头等等)的1：1步进重复系统为主；而SUSS MICTOTECH以提供低端前工程的l：1接触／接近式系统和特殊用途(先进封装／MEMS／HDI等等)的1：1接触／接近式系为主。另外，在这个领域的系统供应商还有USHlO、TAMARACK和EV Group等。 深紫外技术
中国光纤通信技术的现状及未来 光纤通信是我国高新技术中与国际差距较小的领域之一。光纤通信由于其具有的一系列特点, 使其在传输平台中居于十分重要的地位。虽然目前移动通信, 甚至卫星移动通信的热浪再现高波,但 Telecom99的展示说明,光纤通信仍然是最主要的传输手段。在北美,信息量的 80%以上是通过光纤网来传输的。在我国光纤通信也得到广泛的应用,全国通信网的传输光纤化比例已高达 82%。光纤通信技术的应用基本达到国际同类水平,自主开发的光纤通信产品也比较接近国际同类产品水平, 但实验室的研究水平还有一定的差距。本文扼要回顾我国光通信走过的历程, 并从光纤光缆、光器件、光传输设备和系统等几方面介绍光通信的研发、应用现状, 展望光通信在我国的应用前景, 将激励我们为振兴我国光通信民族产业做出更大的贡献。 1 我国光通信历程的回顾 我国的光通信起步较早, 70年代初就开始了大气传输光通信的研究,随之又进行光纤和光电器件的研究,自 1977年初,研制出第一根石英光纤起,跨过一道道难关,取得了一个又一个零的突破。如今回顾起来,所经历的“里程碑”依然历历在目: 1977年,第一根短波长 (0. 85mm 阶跃型石英光纤问世,长度为 17m ,衰减系数为300dB/km。 研制出 Si-APD 。 1978年,阶跃光纤的衰减降至 5dB/km。 研制出短波长多模梯度光纤,即 G .651光纤。 研制出 GaAs-LD 。 1979年,研制出多模长波长光纤,衰减为 1dB/km。 建成 5.7km 、 8Mb/s光通信系统试验段。
1980年, 1300nm 窗口衰减降至 0.48dB/km, 1550nm 窗口衰减 为 0.29dB/km。 研制出短波长用的 GaAlAs-LD 。 1981年,研制出长波长用的 InGaAsP-LD 和 PIN 探测器。 多模光纤活动连接器进入实用。 研制出 34Mb/s光传输设备。 1982年,研制成功长波长用的激光器组件和探测器组件 (PIN-FET。 研制出光合波分波器、光耦合器、光衰减器、滤光器等无源器件。 研制出 140Mb/s光传输设备。 1984年,武汉、天津 34Mb/s市话中继光传输系统工程建成 (多模。 1985年,研制出 1300nm 单模光纤,衰减达 0.40dB/km。 1986年,研制出动态单纵模激光器。 1988年,全长 245km 的武汉椌V輻沙市 34Mb/s多模光缆通信系统工程通过邮电部鉴定验收。 扬州——高邮 4Mb/s单模光缆通信系统工程通过邮电部鉴定验收。 1989年,汉阳——汉南 40Mb/s单模光传输系统工程通过邮电部鉴定验收。 1990年, 研制出 G .652标准单模光纤, 最小衰减达 0.35dB/km。到 1992年降至0.26dB/km。成功地研制出 1550nm 分布反馈激光器 (DFB-LD。 1991年,研制出 G .653色散位移光纤。最小衰减达 0.22dB/km。
第41卷第5期红外与激光工程2012年5月Vol.41No.5Infrared and Laser Engineering May.2012 激光光刻技术的研究与发展 邓常猛1,2，耿永友1，吴谊群1,3 (1.中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室，上海201800； 2.中国科学院研究生院，北京100049； 3.功能无机材料化学省部共建教育部重点实验室(黑龙江大学)，黑龙江哈尔滨150080) 摘要：光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体行业的发展和半导体器件的性能。随着半导体工业的发展，集成电路的特征尺寸越来越小，光刻技术将面临新的挑战。分析了激光光刻技术，包括投影式光刻和激光无掩膜光刻技术的研究现状，着重介绍了极紫外光刻(EUVL)作为下一代光刻技术的发展前景和技术难点、激光无掩膜光刻技术的发展，特别是激光近场扫描光刻、激光干涉光刻、激光非线性光刻等新技术的最新进展及其在高分辨率纳米加工领域的应用前景。 关键词：投影式光刻；无掩膜光刻；发展趋势 中图分类号：TN305.7文献标志码：A文章编号：1007-2276(2012)05-1223-09 Research development of laser lithography technology Deng Changmeng1,2,Geng Yongyou1,Wu Yiqun1,3 (1.Key Laboratory of Material Science and Technology for High Power Lasers,Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai201800,China;2.Graduate University of the Chinese Academy of Sciences,Beijing100049,China;3.Key Laboratory of Functional Inorganic Material Chemistry(Heilongjiang University), Ministry of Education,Harbin150080,China) Abstract:Lithography technology,as one of the key technologies in the manufacture of semiconductor devices,has played an important role in the development of semiconductor industry.As the critical dimension of integrated circuit is decreased to smaller and smaller,lithography technology will face new challenges.In this review,the progress and status on laser lithography were presented,including projection lithography and laser maskless lithography.The foreground and technology challenges of extreme ultraviolet lithography(EUVL),which was considered to be the next generation lithography,were analyzed.The progress and application prospect in high-resolution nano lithography patterning of laser maskless lithography,especially of near-field scanning optical microscopy,laser interference and nonlinearity lithography etc,were discussed. Key words:projection lithography;maskless lithography;development trend 收稿日期：2011-09-05；修订日期：2011-10-03 基金项目：国家自然科学基金(60977004，50872139) 作者简介：邓常猛(1985-)，男，博士生，主要从事光刻技术和光刻材料方面的研究。Email:chmdeng@https://www.doczj.com/doc/0a7765067.html, 导师简介：吴谊群(1957-)，女，研究员，博士生导师，主要从事高密度光存储和光电子学功能材料方面的研究。Email:yqwu@https://www.doczj.com/doc/0a7765067.html,
光纤通信技术的现状及前景 摘要：近年来，光纤通信技术得到了长足的发展，新技术不断涌现，这大幅提高了通信能力，并使光纤通信的应用范围不断扩大。 关键词：光纤通信传输发展 引言 光纤通信是利用光作为信息载体、以光纤作为传输的通信方式。在光纤通信系统中,作为载波的光波频率比电波的频率高得多,而作为传输介质的光纤又比同轴电缆或导波管的损耗低得多,所以说光纤通信的容量要比微波通信大几十倍。光纤是用玻璃材料构造的,它是电气绝缘体,因而不需要担心接地回路,光纤之间的串绕非常小；光波在光纤中传输,不会因为光信号泄漏而担心传输的信息被人窃听；光纤的芯很细,由多芯组成光缆的直径也很小,所以用光缆作为传输信道,使传输系统所占空间小,解决了地下管道拥挤的问题。 自光纤通信问世以来，整个通信领域发生了革命性变化，它使高速率、大容量的通信成为可能。由于光纤通信具有损耗低、传输频带宽、容量大、体积小、重量轻、抗电磁干扰、不易串音等优点而备受业内人士的青睐，发展非常迅速。光纤通信系统的传输容量从1980～2000年2O年间增加了近10000倍，传输速度在过去的1O年中提高了约100倍。目前我国长途传输网的光纤化比例已超过80％，预计到2010年，全国光缆建设总长度将再增加约105km，并且将有11个大城市铺设10G以上的大容量光纤通信网络。 1.光纤通信技术的现状 光纤通信的发展依赖于光纤通信技术的进步。近年来，光纤通信技术得到了长足的发展，新技术不断涌现，这大幅提高了通信能力，并使光纤通信的应用范围不断扩大。 1.1波分复用技术 波分复用(WDM，Wavelength Division Multiplexing)技术可以充分利用单模光纤低损耗区带来的巨大带宽资源，根据每一信道光波的频率或波长不同将光纤的低损耗窗口划分成若干个信道。把光波作为信号的载波，在发送端采用波分复用器(合波器)将不同规定波长的信号光载波合并起来送人l根光纤进行传输。在接收端，再用1个波分复用器(分波器)将这些不同波长承载不同信号的光载波分开的复用方式。由于不同波长的光载波信号可以看作互相独立(不考虑光纤非线性时)，从而在1根光纤中可实现多路光信号的复用传输。 DWDM系统除了波长数和传输容量不断增加外，光传输距离也从约600km大幅扩展至2000km 以上。 1.2 宽带放大器技术 进一步提高传输容量、增大光放大器带宽的方法有掺饵氟化物光纤放大器、碲化物光纤放大器、控制掺饵光纤放大器与普通的EDFA组合、拉曼光纤放大器。 1.3 色散补偿技术 对高速信道来说,在1 5 5 0 n m 波段约18p s ( mmok m) 的色散将导致冲展宽而引起误码, 限制高速信号长距离传输。对采用常规光纤的10Gb i t / s 系统来说,色散限制仅仅为5 0 k m。因此,长距离传输中必须采用色散补偿技术。 1.4 孤子WDM传输技术 超大容量传输系统中,色散是限制传输距离和容量的一个主要因素。在高速光纤通信系统中，使用孤子传输技术的好处是可以利用光纤本身的非线性来平衡光纤的色散,因而可以显著增加无中继传输距离。 1.5光纤接入技术 光纤接入网是信息高速公路的“最后一公里”。实现信息传输的高速化，满足大众的需求，
科技成果转化的主要现状及模式 摘要：科技成果转化是科技工作的重点，选择或创新出适合本地的科技成果转化模式，将有效地提高科技成果的转化率。本文在分析江苏省科技成果产出现状的基础上，拟归纳出江苏省科技成果转化的主要实践经验和和转化模式。 关键词：科技成果，转化模式 The methods and modes of sci-tech achievements transformation in Jiangsu province Jin fulan Fang chuanlai (Jiangsu information institute of science and technology Nanjing 210042) Abstract: sci- tech achievements transformation is very important in sci-tech work. It can improve the transformation rate of sci-tech achievements to select suiting for local transformation mode. This article has analysed the current situation of sci-tech results and sums up the methods and modes of sci-tech achievements transformation in Jiangsu province. Key words: scientific and technological achievements, transformation models 科技成果转化是科技工作的重点。但是，目前我国的科技成果转化率较低，对经济发展的贡献也有待提高。据报道，我国科研院所科技成果转化的比例不到30%，转化后能产生经济效益的成果约占被转化成果的30%，科技进步因素对经济增长的贡献率只有30%，而发达国家和地区的科技进步对经济增长的贡献率已达50%～70%。现在，如何快速提高我国科技成果转化率已成为重要的研究课题。本文在分析江苏省科技成果产出及转化现状的基础上，拟总结出江苏省科技成果转化的主要经验和和转化模式。 1．江苏省科技成果产出的基本情况 科技成果是有关人员通过研究活动所取得的具有一定学术意义或使用价值的创造性成果。近几年来，江苏省每年下达不同类型和不同级别的科研课题3万多项。其中，通过省科技厅下达的课题在2000项左右，当年科研课题完成率约70%。另一方面，全省在省科技厅登记和申请奖励的重大科技成果每年有1000多项，例如，2003有1268项，2004年有1420项，两年合计2688项，这两年的具体情况如表一、表二所示： 表一科技成果类别
光刻技术及其应用的现状与展望
1 引言 光刻技术作为半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一，一方面在过去的几十年中发挥了重大作用；另一方面，随着光刻技术在应用术问题的增多、用户对应用本身需求的提高和光刻技术进步滞后于其他技术的进步凸显等等，寻找解决技术障碍的新方案、寻找COO更加低的技术和找到下一俩代可行的技术路径，去支持产业的进步也显得非常紧迫，备受人们的关注。就像ITRS对未来技术路径的修订一样，上世纪基本上3～5年修正一次，而进入本世纪后，基本上每年都有修正和新的版本出现，这充分说明了光刻技术的重要性和对产业进步的影响。2005年ITRS对未来几种可能光刻技术方案进行预测。也正是基于这一点，新一轮技术和市场的竞争正在如火如荼的展开，大量的研发和开发资金投入到了这场竞赛中。因此，正确把握光刻技术发展的主流十分重要，不仅可以节省时间和金钱，同时可以缩短和用户使用之间的周期、缩短开发投入的回报时间，因为光刻技术开发的投入比较庞大。 2 光刻技术的现状及其应用状况
众说周知，电子产业发展的主流和不可阻挡的趋势是“轻、薄、短、小”，这给光刻技术提出的技术方向是不断提高其分辨率，即提高可以完成转印图形或者加工图形的最小间距或者宽度，以满足产业发展的需求；另一方面，光刻工艺在整个工艺过程中的多次性使得光刻技术的稳定性、可靠性和工艺成品率对产品的质量、良率和成本有着重要的影响，这也要求光刻技术在满足技术需求的前提下，具有较低的COO和COC。因此，光刻技术的纷争主要是厂家可以提供给用户什么样分辨率和产能的设备及其相关的技术。 2.1 以Photons为光源的光刻技术 在光刻技术的研究和开发中，以光子为基础的光刻技术种类很多，但产业化前景较好的主要是紫外(UV)光刻技术、深紫外(DUV)光刻技术、极紫外(EUV)光刻技术和X射线(X-ray)光刻技术。不但取得了很大成就，而且是目前产业中使用最多的技术，特别是前两种技术，在半导体工业的进步中，起到了重要作用。 紫外光刻技术是以高压和超高压汞(Hg)或者汞-氙(Hg-Xe)弧灯在近紫外(350～450nm)的3条光强很强的光谱(g、h、i线)线，特别是波长为365nm的i线为光源，配合使用像离轴照明技术(OAI)、移相掩模技术(PSM)、光学接近矫正技术(OPC)等等，可为0.35～0.25μm的大生产提供成熟的技术支持和设备保障，在目前任何一家FAB中，此类设备和技术会占整个光刻技术至少50％的份额；同时，还覆盖了低端和特殊领域对光刻技术的要求。光学系统的结构方面，有全反射式(Catoptrics)投影光学系统、折反射式(Catadioptrics)系统和折射式(Dioptrics)系统等。主要供应商是众所周知的ASML、NIKON、CANON、ULTRATECH和SUSS MICROTECH等等。系统的类型方面，ASML以提供前工
光通信的历史、现状、发展趋势 06007235 方云龙光通信的历史： 原始形式的光通信是通过中国古代的“烽火台”报警，欧洲人用旗语传送信息。1880年，美国人贝尔(Bell)发明了用光波作载波传送话音的“光电话”。贝尔光电话是现代光通信的雏型。 1960年，美国人梅曼(Maiman)发明了第一台红宝石激光器，给光通信带来了新的希望。激光器的发明和应用，使沉睡了80年的光通信进入一个崭新的阶段。 1966年，英籍华裔学者高锟(C.K.Kao)和霍克哈姆(C.A.Hockham)发表了关于传输介质新概念的论文，指出了利用光纤(Optical Fiber)进行信息传输的可能性和技术途径，奠定了现代光通信——光纤通信的基础。通过“原材料的提纯制造出适合于长距离通信使用的低损耗光纤”这一发展方向。 1970年，美国康宁(Corning)公司研制成功损耗20dB/km的石英光纤。把光纤通信的研究开发推向一个新阶段。 1973 年，美国贝尔(Bell)实验室的光纤损耗降低到2.5dB/km。1974 年降低到1.1dB/km。 1976 年，日本电报电话(NTT)公司将光纤损耗降低到0.47 dB/km(波长1.2μm)。在以后的10 年中，波长为1.55 μm的光纤损耗：1979 年是0.20 dB/km，1984年是0.157 dB/km，1986 年是0.154 dB/km，接近了光纤最低损耗的理论极限。 1970年，美国贝尔实验室、日本电气公司(NEC)和前苏联先后，研制成功室温下连续振荡的镓铝砷(GaAlAs)双异质结半导体激光器(短波长)。虽然寿命只有几个小时，但它为半导体激光器的发展奠定了基础。1977 年，贝尔实验室研制的半导体激光器寿命达到10万小时。1979年美国电报电话(AT&T)公司和日本电报电话公司研制成功发射波长为1.55 μm的连续振荡半导体激光器。 1976 年，美国在亚特兰大(Atlanta)进行了世界上第一个实用光纤通信系统的现场试验。1980 年，美国标准化FT - 3光纤通信系统投入商业应用。 1976 年和1978 年，日本先后进行了速率为34 Mb/s的突变型多模光纤通信系统，以及速率为100 Mb/s的渐变型多模光纤通信系统的试验。1983年敷设了纵贯日本南北的光缆长途干线。 随后，由美、日、英、法发起的第一条横跨大西洋TAT-8海底光缆通信系统于1988年建成。第一条横跨太平洋TPC-3/HAW-4 海底光缆通信系统于1989年建成。从此，海底光缆通信系统的建设得到了全面展开，促进了全球通信网的发展。 现状： 目前国内光纤光缆的生产能力过剩，供大于求。特种光纤如FTTH（光纤到户）用光纤仍需进口，但总量不大，国内生产光纤光缆价格与国际市场没有差别，成本无法再降，已经是零利润，在国际市场没有太强竞争力，出口量很小。二十年来的光技术的两个主要发展，WDM（Wavelength Division Multiplexing：波分复用）和PON（Passive Optical Network：无源光纤网络），这两个已经相对比较成熟。 今天，40Gbps的光通信系统得到广泛商用。作为新一代光网络的领军技术，40G商用大门的开启，满足日益增长的带宽需求同时，还为ROADM、先进光调制技术、超强EFC等新技术的应用赢得了市场发展空间，并为全光网的演进、升级创造了条件。不过，这只是40Gbps的一个开始，要承担起未来传输主力的重任，40G还需要很多路要走。现在对40Gbps，乃至更高速率的100Gbps而言，光学硬件的发展是关键，同时还必须与其他光通讯技术协同发展，包括复杂的调制技术、信号处理技术、并行接口、主动追踪和补偿技术，这些条件
中国国际技术转移现状、问题和对策在经济全球化和信息化的背景下，我国迫切需要充分利用全球制造业大转移和国际间技术转移的新趋势和新机遇，积极承接国际技术转移，促进我国区域经济的协调发展和地区产业技术核心能力的快速提升。 一、我国国际技术转移的现状 我国作为发展中国家，国际技术转移不仅仅是技术引进，更为深刻的内涵是在于通过对先进技术的引进、消化、吸收从而达到掌握甚至创新的目的，并在此基础上进行再创新与提高。改革开放以后尤其是上世纪80 年代中期，我国经济高速发展，国际技术转移获得较大发展。主要是以技术引进为主，几乎没有技术输出。90 年代末至今，我国国际技术转移才真正踏入到正常轨道上来，不仅有技术引进，而且也有技术输出。技术转移途径也呈现活跃和多元化的趋势。一是有选择的引进。引进当前我国发展急需的先进技术，根据我国的产业结构、发展布局按需引进。二是通过合作开发、战略联盟等等技术转移方式，重在提高我国的自主创新能力。三是开始向一些发展中国家进行产品输出和技术输出。我国从改革开放当初的“世界工厂”已开始逐步向“研发中心”转变，从“中国制造”开始向“中国创造”迈进。 最新数据显示，中国国际技术转移中心已经集聚入驻机构120多家，开拓国际渠道1000多条，组织高端技术转移、国际交流、行业交流等活动150多场，服务企业2000多家次，完成国际技术转移项目转移和落地154项。这些令人惊叹的数字标志着中国国际技术转移中心为国内技术走出去提供了良好的平台，也为国外技术走进来搭建了桥梁。技术转移的这些新变化，极大推动了我国的技术进步，推动了我国经济发展方式的转型。2015年4月21日至23日，“2015中国（北京）跨国技术转移大会”于北京召开。大会围绕“美好生态、舒适生活、健康生命、智能生产”四个方向组织了智慧城市、纯电动汽车、食品药品安全、新材料与3D 打印、未来医学与个性化健康管理等12个技术领域专场。这些举措都极大地促进了中国国际技术转移的发展。 二、中国国际技术转移存在的问题 1、我国国际技术转移的地区差异大。 从总体上看，我国的技术转移仍然是技术引进远远多于技术输出。从区域分布来看，东部沿海地区技术引进和输出比较多，表现出强劲的转移、吸收和创新能力；而中西部地区的技术转移与创新竞争力比较薄弱。 2、我国至今还缺少统一的、规范的、规模性的国际技术转移体系，尤其是缺少具备综合服务功能、从事技术资产经营、能有效促进国际间的技术转移、将资本市场与技术转移相结合的市场机构。中介机构发展迟滞，高素质的技术经纪人奇缺。 3、以供给型为主的技术转移体制与企业技术创新要求不相符，以企业需求为导向的技术转移体制与机制尚未建立。外资的“投资过度”和制造加工业的重复建设，使市场换技术未有起色。 4、中小企业研发费用占比低，技术开发后劲不足。由于缺乏核心技术和产品，遭遇全球产业价值链低端锁定，难以在国际竞争中赢得优势地位。 因此我国的国际技术转移还有很长一段路要走，任重而道远。 三、中国国际技术转移的对策 1. 健全法律法规，完善市场环境。