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氧化铝自牺牲模板法氧化铝自牺牲模板法（Alumina Sacrificial Template Method）是一种通过利用氧化铝模板制备材料的方法。
该方法适用于制备各种纳米结构材料，如纳米线、纳米孔等。
本文将详细介绍氧化铝自牺牲模板法的原理和应用，并探讨其在材料科学领域中的潜在应用价值。
氧化铝自牺牲模板法的原理基于氧化铝的特殊性质。
氧化铝是一种常见的无机化合物，具有高热稳定性和耐蚀性。
在制备纳米结构材料时，首先需要制备氧化铝模板。
可以通过电化学沉积、溶液浸渍等方法制备均匀的氧化铝薄膜。
然后，在模板表面沉积所需的材料，如金属或半导体。
在制备过程中，氧化铝模板起到了“牺牲剂”的作用。
通过控制制备条件和材料沉积速率，可以最终得到所需的纳米结构材料。
制备完成后，可以通过酸性溶液溶解氧化铝模板，释放所得材料。
氧化铝自牺牲模板法具有以下几个优点。
首先，制备过程简单，不需要复杂的操作步骤和昂贵的设备。
其次，可以得到高纯度、高质量的纳米结构材料。
第三，可以灵活调控材料的形貌和尺寸。
最后，该方法可应用于多种不同材料的制备，如金属、半导体、陶瓷等。
在材料科学领域中，氧化铝自牺牲模板法已经得到广泛应用。
例如，在能源储存领域，可以利用该方法制备纳米多孔金属氧化物电极材料，用于超级电容器和锂离子电池。
在催化剂领域，可以利用该方法制备纳米多孔金属催化剂，提高催化活性和选择性。
此外，该方法还可用于制备纳米传感器、纳米电子器件等。
尽管氧化铝自牺牲模板法在材料科学领域有着广泛的应用，但仍存在一些挑战和局限性。
首先，氧化铝模板的制备需要一定的时间和成本。
其次，模板的尺寸和形貌的控制比较困难，会对最终制备的材料产生一定的影响。
此外，模板的溶解过程需要一定时间，可能对制备周期造成一定限制。
综上所述，氧化铝自牺牲模板法是一种简便、经济且有效的纳米结构材料制备方法。
该方法在能源储存、催化剂以及传感器等领域具有广泛的应用前景。
未来，随着材料科学的发展，相信氧化铝自牺牲模板法将为我们提供更多的制备途径和应用机会。
80材料导报2008年8月第22卷专辑ⅪA A O模板的制备及其应用*李晓洁，张海明，胡国锋，李育洁(天津工业大学理学院，天津300160)摘要阳极氧化铝模板由于其价廉，制备工艺简单，以及特殊的结构和多样的组装方法得到了广泛的研究和应用。
主要阐述了A A O模板的制备、影响因素，及其在纳米组装体系中的应用，包括量子点、纳米线、纳米管和“同轴电缆式”层状纳米材料等，介绍了A A O组装体系的应用，最后提出了A A O模板的潜在发展。
关键词二次阳极氧化氧化铝模板纳米材料中图分类号：0611Fa br i c at i on a nd A ppl i ca t i on of A A O Tem pl at eLI X i aoj i e，Z H A N G H ai m i ng，H U G uof eng，L I Y uj i e(Col l ege of Sci e nce，Ti an j i n Po l yt e chni c U ni ver si t y，T i anj i n300160)A bs t ractB ec a u s e of i t s l ow cost，si m pl e pr epa r at i on t ec hnol o gy，as w el l as i t s s peci al s t r uct u r e and va r i ousa ss em bl y m e t hods．t he A A O t e m pl at e ha s been w i de l y r e sear che d and use d．T h i s paper m ai nl y el a bor at es t he pr epar a—t i on，i nf l uenc i ng f act or s of t he A A O t em pl at e，a nd i t s appl i cat i on i n t he nano-a ss e m bl y sys t em，i nc l udi ng quant um dot，na now i r e，na not ube，and coaxi a l cab l e l a m i na r na no-m a t er i al s and SO O i l,T h i s ar ti cl e al s o i n t r o duce s t he appl i cat i on ofA A O a ss em bl y s ys t em and f i nal l y pr opos e s t he pot en t i al deve l opm e nt of t he A A O t em pl at e．K ey w or ds t w o-st e ps a nodi za t i on，al um i num oxi de t e m pl a t e，nano m at e r i al s0引言1953年K el l er等首先报道了用电化学的方法制备多孔氧化铝膜，此后这种具有独特结构的模板被广泛用于各种纳米结构材料的制备。
阳极氧化铝膜
阳极氧化铝膜（Anodic Aluminum Oxide, 简称AAO）是通过
在铝材料上进行电化学氧化处理而形成的具有多孔结构的氧化铝膜。
阳极氧化铝膜的制备过程一般包括以下步骤：首先将铝材料作为阳极，与阴极（一般为不锈钢）一起通过电解液（如硫酸或草酸溶液）连接在一起，施加一定的电压和电流关系，使铝材料表面氧化生成铝氧化物。
在此过程中，阴极上的氢气析出，而形成的铝氧化物在阳极表面生成均匀且致密的氧化铝膜。
具体的氧化膜结构和孔径大小，可以通过调整电解液成分、温度、电压和电流密度等控制因素来调节。
阳极氧化铝膜具有一定的物理和化学稳定性，并且具有高度有序的多孔结构。
其孔径大小可调节，并且具有均匀的孔径分布。
AAO膜的孔径一般在纳米到微米级别之间，常见范围为几十
纳米到几百纳米。
这种多孔结构的氧化铝膜能够在许多应用中发挥重要作用，例如作为模板用于生长纳米线、纳米颗粒等纳米材料，还可用作支撑材料、滤膜、光学薄膜、催化剂载体等领域。
总的来说，阳极氧化铝膜具有丰富的应用潜力，并且其制备过程相对简单，因此在纳米技术和材料科学领域引起了广泛的关注。
2010,Vol.27No.2化学与生物工程Chemistry&Bioengineering74
收稿日期:2009-09-09
作者简介:李雪芳(1972-),女,四川仁寿人,讲师,研究方向:药物制备与分析。E2mail:lasalixuefang@163.com。
多孔氧化铝模板的制备及应用李雪芳(拉萨师范高等专科学校数学与自然科学系,西藏拉萨850007)
摘 要:以磷酸溶液为电解液、以高纯铝为阳极,采用两步阳极氧化法制备氧化铝模板。扫描电子显微镜(SEM)对其表面形貌分析表明,氧化铝膜为多孔结构,膜孔径随着阳极氧化电压的增大而不断增大。对阳极氧化电流密度变化分析证实,铝的阳极氧化经历了三个阶段:阻挡层的生成、多孔层的形成和多孔层的稳定生长。以制备的氧化铝膜为阴极、锌片为阳极,以硝酸锌和硼酸的混合液为电解液,采用交流电沉积方法制备了针状氧化锌纳米线。关键词:多孔氧化铝模板;阳极氧化;电沉积;氧化锌中图分类号:O6461542 TQ15311 文献标识码:A 文章编号:1672-5425(2010)02-0074-03
纳米材料在光学、电学、磁学[1]和力学等方面具有独特的性质,因此受到了人们的广泛关注,特别是纳米有序阵列材料显得更为重要。通过电化学沉积法、化学气相沉积法、溶胶-凝胶等方法在氧化铝孔内可以沉积各类物质,还可以通过修饰氧化铝膜纳米孔来制备各种不同用途的纳米材料。模板法是合成纳米线和纳米管等一维纳米材料的主要方法[2]。其中,多孔氧化铝膜作为一种重要的模板近年来得到了广泛的应用,如Masuda等[3]以氧化铝膜为模板采用两步复制法制备了具有规则排列纳米孔的铂膜和金膜。纳米氧化锌由于具有优良的光学、电学和声学等性能而成为一种重要的金属氧化物半导体材料,越来越受到重视,其制备方法有电沉积法、水热法、磁控溅射法[4,5]等,但以多孔氧化铝为模板,交流电沉积制备针状氧化锌纳米线却未见报道。作者在此采用两步阳极氧化法,于不同的电压下电解制备氧化铝膜,讨论了电压对氧化铝膜形貌的影响;并进一步以氧化铝膜为阴极,采用交流电沉积法制备了氧化锌纳米线。1 实验111 试剂与仪器磷酸、丙酮、氢氧化钠、高氯酸、乙醇、硝酸锌、硼酸等均为分析纯;实验用水为二次去离子水。DH1722型直流稳压电源,北京大华无线电仪器厂;BK250型交流变压器,上海中发电气有限公司;JSM26490LV型扫描电子显微镜,日本电子;GENE2SIS2000XMS型X2射线能谱仪,美国EDS。112 氧化铝模板的制备将高纯度(99199%)的铝片,分别在丙酮、去离子水中超声清洗2h以除去表面杂质,然后在115mol・L-1的NaOH溶液中浸泡4min,接着在高氯酸和乙醇的混合溶液(体积比为1∶4)中,以15V恒压电化学抛光3min。以70g・L
-1
H3PO4为电解液,以铝片为
阳极,室温下进行两次阳极氧化。第一次阳极氧化(氧化时间为115h)后,在6%的H3PO4溶液中浸泡4h,
以去除第一次氧化所形成的氧化膜,用去离子水冲洗干净后,进行第二次阳极氧化(氧化时间为3h)。113 氧化锌的沉积以013mol・L
-1Zn(NO3)2和011mol・L-1
H3BO4的混合溶液为电解液,采用两极体系,以氧化铝膜为阴极、Zn片为阳极,在4V、50Hz交流电作用下于沸腾溶液中沉积1h;清洗,干燥,400℃热处理3
h,即得氧化锌纳米线。114 氧化铝膜和氧化锌的形貌和成分分析膜层表面形貌通过JSM26490LV型扫描电镜(SEM)观察,加速电压为013～30kV;膜层的微区化
学成分用GENESIS2000XMS型X2射线能谱(EDS)进行分析。
2 结果与讨论211 氧化铝模板的制备21111 阳极氧化电压对多孔氧化铝形貌的影响图1是氧化电压为30V、75V、120V时,两步阳李雪芳:多孔氧化铝模板的制备及应用/2010年第2期75
极氧化法制备的多孔氧化铝膜的SEM图。
图1 不同氧化电压下制备的氧化铝膜的SEM图Fig.1 TheSEMmorphologiesofaluminumoxidefilmpreparedatdifferentanodizingvoltages
由图1可以看出,膜孔分布均匀,而且随着氧化电压的增大,多孔氧化铝的孔径和孔间距不断增大。在氧化电压为30V时,氧化铝膜孔径约为50nm、孔间距约为80nm;当氧化电压升高至75V时,氧化铝膜孔径约为100nm、孔间距约为150nm;当氧化电压升至120V时,氧化铝膜孔径约为125nm、孔间距约为200nm。根据多孔氧化铝形成机理[6],电压越高,电场强度越大,阻挡层形成的速率越大,在阻挡层内部产生的应力就越大,在应力的作用下产生的微裂纹很大,故形成的纳米孔径较大。因此,采用不同的阳极氧化电压,可以制备出不同孔径的多孔氧化铝膜。21112 阳极氧化电流与时间的关系图2是铝电极在磷酸电解液中,30V工作电压下,阳极氧化电流与时间的关系曲线。图2 阳极氧化电流与时间的关系Fig.2 Relationbetweenthecurrentandthetime由图2可以看出,阳极氧化过程大致经历了三个阶段:ab段为阻挡层形成阶段,在这个区间内铝表面形成了连续的、无孔的薄膜层,该膜层具有很高的电阻,随着时间的延长,膜层加厚,电阻增大,导致电流密度急剧下降;bc段为多孔形成阶段,随着氧化铝膜的生成,电解液同时开始对表面形成的膜层进行溶解,无孔层被电流击穿的部分首先开始溶解,使电解液温度升高,加速了无孔层的溶解而变成多孔层,因此,电流密度开始慢慢回升;cd段为多孔层增厚阶段,此时,阻挡层的溶解速率和生长速率相当,阻挡层厚度不再增加,进入了多孔层稳定增厚阶段,故电流密度趋于平稳。212 氧化锌的沉积以Zn和氧化铝模板为电极、以013mol・L
-1
Zn(NO3)2和011mol・L-1H3BO3混合溶液为电解
液,在氧化铝膜电极表面交流电沉积氧化锌的机理[7]可表示为:
第一步:NO
-3+H2O+2e-NO-2+2OH-(1)
第二步:Zn
2++2OH-
Zn(OH)2ZnO+H2O(2)
总反应:Zn
2++NO-3+2e-ZnO+NO-
2(3)
由于氧化铝膜的阻挡层具有单向导电的半导体特性[8],因此,氧化锌的沉积主要发生在交流电的负半
周。当氧化铝电极为阴极时,NO
-
3首先得电子被还
原,同时产生OH-,OH-随后和Zn2+结合生成Zn(OH)2,然后迅速失水生成氧化锌。影响氧化锌电沉积的因素很多,如溶液浓度、沉积电压、溶液的pH值和温度等[9],其中沉积电压是一个
重要的因素。特别是沉积中电压过大,则会因氢气的产生而将氧化铝膜冲破,并出现局部脱落,最终导致电沉积无法继续进行。图3为4V电压下,以氧化铝膜板为阴极,交流电沉积氧化锌的SEM图。由图3可以看出,电沉积氧化锌后,氧化铝膜的孔洞结构基本消失,微孔大部分被氧化锌所覆盖和填塞,
局部未被氧化锌覆盖的微孔尺寸有所增加,且孔壁变薄,这也说明氧化铝在氧化锌的交流电沉积过程中发生了部分溶解。李雪芳:多孔氧化铝模板的制备及应用/2010年第2期76
图3 沉积在氧化铝膜上的氧化锌Fig.3 TheSEMmorphologyofzincoxidedepositedonaluminumoxidefilm
图4为Al2O3/ZnO复合膜表面的X2射线能谱图。
图4 氧化锌的EDS能谱图Fig.4 EDSspectrumofzincoxide
由图4可以看出,膜层表面主要由Al、O和Zn三种元素组成,其中Zn、O两种元素的谱峰较强,而Al
峰较弱,这表明膜层表面主要由ZnO构成,而Al2O
3
含量较低。
3 结论在磷酸溶液中,通过调节阳极氧化电压,制备出厚度一定、孔洞分布均匀和孔径可控的氧化铝模板。随着阳极氧化电压的升高,氧化铝膜孔径逐渐增大,孔的排列也更加整齐。以氧化铝膜为阴极,交流电沉积制备出针状氧化锌纳米线。参考文献:
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PreparationandApplicationofPorousAluminumOxideTemplateLIXue2fang(DepartmentofMathematicalandNaturalScience,LasaNormalCollege,Lasa850007,China)
Abstract:Aluminumoxidetemplatesarepreparedbytwo2stepelectrochemicalanodizingprocesswithphos2phorousacidaselectrolyteandhigh2purealuminumasanode.TheresultsofSEManalysisshowaluminumox2idehasporousstructureandtheapertureofaluminumoxidefilmincreaseswithanodizingvoltage.Theanalysesofanodizingcurrentchangingwithtimeconfirmthattheformationprocessofporousanodicaluminumoxidefilminvolvesthreestages:formationofbarrierlayer,germinationandstablegrowthofporouslayer.Moreo2ver,needlezincoxidenanowiresarepreparedbyelectrodepositionwithaluminumoxideascathode,zincplateasanode,themixtureofzincnitrateandboricacidaselectrolyte.Keywords:porousaluminumoxidetemplate;anodization;electrodeposition;zincoxide
