微光电子集成系统芯片的研究进展
- 格式:pdf
- 大小:27.90 KB
- 文档页数:4
1 微电子技术发展方向21世纪初微电子技术仍将以尺寸不断缩小的硅基CMOS工艺技术为主流;随着IC设计与工艺水平的不断提高,系统集成芯片将成为发展的重点;并且微电子技术与其他学科的结合将会产生新的技术和新的产业增长点。
1.1 主流工艺——硅基CMOS电路硅半导体集成电路的发展,一方面是硅晶(圆)片的尺寸愈来愈大,另一方面是光刻加工线条(特征尺寸)愈来愈细。
从硅片尺寸来看,从最初的2英寸,经过3英寸、4英寸、5英寸、6英寸发展到当今主流的8英寸。
据有关统计,目前世界上有252条8英寸生产线,月产片总数高达440万片,现在还在继续建线。
近几年来又在兴建12英寸生产线,硅晶片直径达12英寸(300mm),它的面积为8英寸片(200mm)的2.25倍。
1999年11月下旬,由Motorola与Infineon Technologies联合开发的全球首批300mm 晶片产品面市。
该产品是64M DRAM,采用的是0.25µm工艺技术,为标准的TSOP 封装。
据介绍,300mm晶片较200mm晶片,每个芯片的成本降低了30%~40%。
到目前,已经达到量产的12英寸生产线已有6条,它们是:(1)Semiconductor 300公司,位于德国德累斯顿,开始月产1500片,由0.25µm进到0.18µm。
(2)Infineon公司,位于德国德累斯顿,0.14µm,开始月产4000片。
(3) TSMC公司,位于我国台湾新竹, Fab12工厂生产线,由0.18µm进到0.15µm以至0.13µm,开始月产4500片。
(4)三星公司,位于韩国,Line 11生产线,0.15/0.13µm,开始月产1500片。
(5)Trecenti公司,位于日本那珂N3厂,月产能7000片,0.15/0.13µm。
(6)Intel公司的D1C厂,开始月产4000片,0.13µm。
光电子技术的发展及应用院系:电气信息工程学院专业:电子科学与技术0941姓名:郑义学号:200910711102日期:2012年12月10日光电子技术的发展与应用摘要:电子技术是继微电子技术之后近30年来迅猛发展的综合性高新技术,它是以红外、微光、激光等光电子器件为基础,由光学技术、电子技术、精密机械技术和计算机技术等密切结合而形成的一项综合技术。
主要包括激光技术、红外技术、光纤通讯技术、太阳能光伏技术、固体照明技术、集成光学技术、光计算技术、光学传感器和光电显示技术等。
引言:2008年北京奥运会上,“水立方”以其绚烂梦幻的视觉效果,令世人惊叹。
夜幕降临时,在“水立方”南侧立面周围的人们就会看到一幅如梦似幻的景观:一群群色彩艳丽的热带鱼在“水立方”的“水泡泡”里轻盈地游弋,时而又变成波涛汹涌的巨浪呼之欲出,时而又化为一团奥运圣火熊熊燃烧。
而这一切,正是由光电子技术为“水立方”量身打造的幔态LED才得以实现[1]。
当今全球范围内,已经公认光电子产业是本世纪的第一主导产业,是经济发展的制高点,光电子产业的战略地位是不言而喻的[2]。
鉴于此,光电子技术应用的开发被世界各国所关注,新的应用领域也在不断发现中。
本文主要分析了光电子技术的发展历程与在国防,生活中的应用。
关键词光电子技术、光电子材料、发展、应用1光电子技术的介绍光电子技术确切称为信息光电子技术。
20世纪60年代激光问世以来,最初应用于激光测距等少数应用,光电子技术是继微电子技术之后近30年来迅猛发展的综合性高新技术。
1962年半导体激光器的诞生是近代科学技术史上一个重大事件。
经历十多年的初期探索,到70年代,由于有了室温下连续工作的半导体激光器和传输损耗很低的光纤,光电子技术才迅速发展起来。
现在全世界敷设的通信光纤总长超过1000万公里,主要用于建设宽带综合业务数字通信网。
以光盘为代表的信息存储和激光打印机、复印机和发光二极管大屏幕现实为代表的信息显示技术称为市场最大的电子产品。
21世纪的微电子技术Microelectronics technology of the 21st century摘要: 本文对21世纪微电子技术的发展趋势作了一个展望。
本文认为21世纪初的微电子技术仍将以硅基CMOS电路为主流工艺,但将突破目前所谓的物理“限制”,继续快速发展;集成电路将逐步发展成为集成系统;微电子技术将与其他技术结合形成一系列新的增长点,例如微机电系统(MEMS)、DNA芯片等将得到突飞猛进的发展。
具体地,超微细光刻技术、虚拟工厂技术、铜互连及低κ互连绝缘介质、高κ栅绝缘介质、SOI技术等将在近几年内得到快速发展。
21世纪将是我国微电子产业的黄金时代。
资料个人收集整理,勿做商业用途Abstract:In this paper, the trend of the development of microelectronics technology in the 21st century made a prospect. This paper argues that at the beginning of the 21st century microelectronics will remain with silicon-based C M O S circuit technology for the mainstream, but will break the current so-called physical "limit", continue to rapid development;Will gradually develop into a integrated system of integratedcircuits;Microelectronics technology will form A series of new growth point, combining with other technologies such as microelectromechanical systems (M E M S), D N A chips will be development by leaps and bounds. Specifically, ultra micro lithography technology, virtual plant technology, copper interconnection and low kappa interconnection predominate insulating medium, high kappa gate dielectric predominate, S O I technology will be rapid development in recent years. The 21st century will be the golden age of microelectronic industry in China..资料个人收集整理,勿做商业用途关键词:微电子技术;集成系统;微光机电系统;DNA芯片。
【关键字】发展什么是集成电路和微电子学集成电路(Integrated Circuit,简称IC):一半导体单晶片作为基片,采用平面工艺,将晶体管、电阻、电容等元器件及其连线所构成的电路制作在基片上所构成的一个微型化的电路或系统。
微电子技术微电子是研究电子在半导体和集成电路中的物理现象、物理规律,病致力于这些物理现象、物理规律的应用,包括器件物理、器件结构、材料制备、集成工艺、电路与系统设计、自动测试以及封装、组装等一系列的理论和技术问题。
微电子学研究的对象除了集成电路以外,还包括集成电子器件、集成超导器件等。
集成电路的优点:体积小、重量轻;功耗小、成本低;速度快、可靠性高;微电子学是一门发展极为迅速的学科,高集成度、低功耗、高性能、高可靠性是微电子学发展的方向;衡量微电子技术进步的标志要在三个方面:一是缩小芯片器件结构的尺寸,即缩小加工线条的宽度;而是增加芯片中所包含的元器件的数量,即扩大集成规模;三是开拓有针对性的设计应用。
微电子技术的发展历史1947年晶体管的发明;到1958年前后已研究成功一这种组件为根底的混合组件;1958年美国的杰克基尔比发明了第一个锗集成电路。
1960年3月基尔比所在的德州仪器公司宣布了第一个集成电路产品,即多谐振荡器的诞生,它可用作二进制计数器、移位寄存器。
它包括2个晶体管、4个二极管、6个电阻和4个电容,封装在0.25英寸*0.12英寸的管壳内,厚度为0.03英寸。
这一发明具有划时代的意义,它掀开了半导体科学与技术史上全新的篇章。
1960年宣布发明了能实际应用的金属氧化物—半导体场效应晶体管(metal-oxide-semiconductor field effect transistor ,MOSFET)。
1962年生产出晶体管——晶体管逻辑电路和发射极耦合逻辑电路;由于MOS电路在高度集成和功耗方面的优点,70年代,微电子技术进入了MOS电路时代;随着集成密度日益提高,集成电路正向集成系统发展,电路的设计也日益复杂、费事和昂贵。
MEMS(Micro-Electro-Mechanical System s,微机电系统)是指将微型机械、微型执行器、信号处理和控制电路等集于一体的可批量制作的微型器件或系统。
而MOEMS是 Micro-Opto-Electro- Mechanical Sy ST em的缩写,意为微光机电系统,把微光学应用到微机电系统中,这是MEMS在光通信中的重要应用。
微光电机械芯片通常是指包含一个以上微机械元件的光系统或光电子系统,其应用将遍及光通信、光显示、数据存储、自适应光学及光学传感等多个方面。
随着光通信的快速发展,作为光网络节点的光互连与光交换的地位越来越重要。
光交换器件是以光为核心实现光的通断和交叉连接的系统部件,不存在光电转换。
MEMS光开关具备了低损耗和高稳定的优点,且与传输的数据速率和信号协议无关。
实用化的MEMS光开关原理十分简单,其结构实质上是一个二维微镜片阵列,当进行光交换时,通过移动或改变镜片角度,把光直接送到或反射到光开关的不同输出端。
MEMS光开关是利用机械开关的原理,但又能像波导开关那样,集成在单片硅基底上,因此兼有机械光开关和波导光开关的优点,同时克服了它们所固有的缺点。
MEMS光开关响应速度和可靠性大大提高,插入损耗和串音低,偏振和波长相关损耗也非常低,对不同环境的适应能力良好,功率和控制电压较低,并具有闭锁功能。
2 MEMS光开关控制原理2.1 MEMS光开关简介典型的MEMS光开关器件可分为二维和三维结构。
二维MEMS的空间旋转镜通过表面微机械制造技术单片集成在硅基底上,准直光通过微镜的适当旋转被接到适当的输出端。
微铰链把微镜铰接在硅基底上,微镜两边有两个推杆,推杆一端连接微镜铰接点,另一端连接可平移梳妆电极。
转换状态通过调节梳妆电极使微镜发生转动,当微镜为水平时,可使光束从该微镜上面通过,当微镜旋转到与硅基底垂直时,它将反射入射到它表面的光束,从而使该光束从该微镜对应的输出端口输出。
光电子产品与技术领域全世界光电子技术产业的市场规模己达1万亿美元。
国外光电子产业主要在美国、西欧和日本。
近十年来,中国的光电子技术产品市场的年增长率,始终保持在两位数的高速增长势头。
随着信息光电子技术、激光加工技术、激光医疗与光子生物学、激光全息、光电传感、显示技术等光电技术的快速发展以及光电科技与数字技术、多媒体技术、机电技术等领域的结合与渗透,我国已经形成以下市场可观、发展潜力巨大的光电子产业。
1. 光电子材料与光电元器件(原子物理、量子力学、固体物理、半导体物理、光电功能材料与器件、激光原理、光学、非线性光学等(1)、我国的光学与光电子材料研究已进入应用和产业化的发展阶段。
其中:在半导体光电子材料方面:在我国,用于集成电路(IC)和太阳能电池单晶硅(Si)年产量约为400吨。
用于光电子器件的GaAs单晶、用于LED和LD的InP单晶和用于红、绿色LED的GaP芯片材料已实用化。
用于蓝光LD和蓝、绿光LED和GaN、SiC等宽禁带半导体材料正在研发中。
在激光晶体材料方面:华北光电技术研究所研制的Nd:YAG晶坯性能指标达到国际先进水平。
华博技术有限公司的YAG激光棒年批量生产能力为3000根。
中国已成为矾酸钇(YVO4)晶体的生产出口大国。
中国科学院福建物质结构研究所研制成大尺寸YVO4单晶,并加工成偏振晶体器件。
北京烁光特晶体科技有限公司已建成年产200公斤YVO4 单晶生产线。
上海光机所研制的掺钛蓝宝石激光晶体也已经出口美国、日本、俄罗斯等国家。
我国研制的Nd:YAG和Nd:YVO4激光晶体,其主要技术指标达到国际先进水平,出口产品数量约占国际市场1/3。
在非线性光学晶体方面:我国研制的偏硼酸钡(BBO)、三硼酸锂(LBO)等优质的非线性光学材料,系国际首创,用于激光光源在可见光区的频率转换。
用于激光倍频、光参量振荡、电光调Q和声光、电光器件的铌酸锂(LN)单晶中国的年生产能力约为10 吨。
微电子机械系统(MEMS)就是将几何尺寸或操作尺寸仅在微米、亚微米甚至纳米量级的微机电装置(如微机构、微驱动器等)与控制电路高度集成在硅基或非硅基材料上的一个非常小的空间里,构成一个机电一体化的器件或系统。
技术优势MEMS器件具有体积小、重量轻、能耗低、惯性小、响应时间短,可把多个不同功能、不同敏感方向或致动方向的微机构大规模地集成在一起,并且可以通过微电铸的方法进行批量复制和大规模生产。
光纤通信在实现了高速、大容量点对点的传输后,上世纪末已进入了光纤网络时代。
MEMS在光纤通信领域的应用范围十分宽广,几乎所有光网络中的各个组成单元都能采用MEMS制作器件,并由此产生了一个新名词:微光电子机械系统(MOEMS),它是机、电、光、磁、化学、自动控制、传感技术与信息处理等多种技术的综合。
综观光纤通信器件的发展历程,可以看出器件的发展趋势为:块状堆集型?光纤型?MOEMS型?集成型。
前两种已经形成产业化,并正在向小型化方向发展。
在目前集成型器件还不十分成熟的情况下,MEMS(或MOEMS)型光器件已出现了商业化的产品。
利用MEMS技术可以制作光纤通信传输网中的许多器件,如:光分插复用器(OADM)、光交叉连接开关矩阵(OXC-AS)、光调制器、光滤波器、波分复用解复用器、可调谐微型垂直腔表面发射半导体激光器(VCSEL)、可变光衰减器、增益均衡器及用于光路分配和耦合的微透镜阵列等多种微型化光器件。
MEMS技术在光纤通信网络中的一个重要应用就是利用微动微镜制作光开关矩阵,微动微镜可以采用上下折叠方式、左右移动方式或旋转方式来实现开关的导通和断开功能。
MEMS技术制作的光开关是将机械结构、微触动器和微光元件在同一衬底上集成,结构紧凑、重量轻,易于扩展。
它比机械式光开关和波导型光开关具有很好的性能,如:低插损、小串音、高消光比、重复性好、响应速度适中,与波长、偏振、速率及调制方式无关,寿命长、可靠性高,并可扩展成大规模光交叉连接开关矩阵。
MEMSMEMS是由微加工技术制备,特征结构在微米尺度(1um~0.1mm范围)的,集成有微传感器、微致动器、微电子信号处理与控制电路等部件的微型系统。
其中微传感器获取外部信息,微电子信号处理与控制电路处理信息并作出决策,微致动器执行决策。
∙MEMS的特点o MEMS系统器和器件的尺寸十分微小,通常在微米量级,微小的尺寸不仅使得MEMS能够工作在一些常规机电系统无法介入的微小空间场合,而且意味着系统具有微小的质量和消耗,微小的尺寸通常还为MEMS器件带来更高的灵敏度和更好的动态特性。
80[%]以上的MEMS采用硅微工艺进行制作,使其具有大批量生产模式,制造成本因而得以大大降低。
在单一芯片内实现机电集成也是MEMS独有的特点。
单片集成系统能够避免杂合系统中有各种连接所带来的电路寄生效应,因此可达到更高的性能并更加可靠,单片集成有利于节约成本。
组件装配特别困难,目前许多MEMS都是设计成不需要装配或者具有自装配功能的系统。
MEMS构件的加工绝对误差小,使用的材料也较为单一,三维加工能力明显不足。
∙MEMS的应用前景o MEMS技术的发展已经开辟了一个全新的技术领域和产业,基于MEMS技术制作的微传感器、微执行器、微型构件、微机械光学器件、真空微电子器件、电力电子器件等在航空、航天、汽车、生物医学、环境监控、军事以及几乎人们所接触到的所有领域中都有着十分广阔的应用前景。
MEMS技术正发展成为一个巨大的产业,就象近20年来微电子产业和计算机产业给人类带来的巨大变化一样,MEMS也正在孕育一场深刻的技术变革并对人类社会产生新一轮的影响。
目前MEMS市场的主导产品为压力传感器、加速度计、微陀螺仪、墨水喷咀和硬盘驱动头等。
大多数工业观察家预测,未来5年MEMS器件的销售额将呈迅速增长之势,年平均增加率约为18[%],因此对对机械电子工程、精密机械及仪器、半导体物理等学科的发展提供了极好的机遇和严峻的挑战。
∙MEMS的发展史o MEMS所带来的第一轮商业化浪潮在20世纪70年代末80年代初,当时用大型蚀刻硅片结构和背蚀刻膜片制作压力传感器。
微机电系统综述摘要:微机电系统(MEMS)是在微电子技术的基础上兴起的一个多学科交叉的前沿领域,集中了当今科学技术发展的许多尖端成果,在汽车电子、航空航天、信息通讯、生物医学、自动控制、国防军工等领域应用前景广阔[1]。
本文介绍了微机电系统起源及研究发展的背景,综述了微机电系统所涉及的器件设计、制作材料、制作工艺、封装与测试等关键技术,介绍了微机电系统在微传感器、微执行器、微机器人、微飞行器、微动力能源系统、微型生物芯片等方面的典型应用,大量先进的MEMS器件有望在未来几十年中从实验室推向实用化和产业化。
关键词:MEMS;微机械加工;封装;测试;应用Abstract;Micro-electromechanical system(MEMS),developed on the basis of microelectronics,is a scientific research frontier of multidiscipline and assimilates the most advanced achievements in current research and development.MEMS extends into various fields with wide application prospects,such as automotive electronics, aeronautics and astronautics,information communication, biomedicine,auto-control and defense industry,and so on.This paper introduces the basic theory research of MEMS development and its background.Summarizes the key technologies of MEMS such as device design,fabricating material, machining processes ,micro-packaging and testing.Further more,the typical applications and latest development in fields including micro-sensor,micro-actuator,micro-robot,micro air vehicle,micro-power energy system,micro biological chip are discussed.A plenty of advanced MEMS devices would be put into practicality and industrialization from laboratory in recent decades.Keywords:micro-electromechanical system; micro -machining; package; testing; usage1 引言微机电系统简称为MEMS(Micro-Electro-Mechanical System),是利用微米/纳米技术,以微细加工为基础,将微传感器、微执行器和电子电路、微能源等组合在一起的微机电器件、装置或系统。
何谓微机电系统(MEMS)为了说明什么是微机电系统MEMS (Micro Electro Mechanical Systems),首先来解释一下什么是机电系统。
20多年以前,汽车还是一个单纯的机械系统,后来随着电子技术的发展,汽车的很多零部件(例如电子点火器、燃油电子喷射装置、电控自动变速箱等)都依靠电子系统进行控制,因此现在的汽车实际上就是一个大的机械电子系统。
而微机电系统则是指微小的机械电子系统,例如比一粒花生米还要小的飞机或汽车,是由很多只有几百微米大小的零件组成的,而这些零件是用微电子等微细加工技术制备出来的,既包含机械部件又包含电子部件,因此我们称这类微小的机械电子系统为微机电系统。
微机械电子系统是微电子技术的拓宽和延伸,它是将微电子技术和精密机械加工技术相互融合,并将微电子与机械融为一体的系统。
MEMS将电子系统和外部世界有机地联系起来,它不仅能感受运动、光、声、热、磁等自然界的外部信号,使之转换成电子系统可以识别的电信号,而且还能通过电子系统控制这些信号,进而发出指令,控制执行部件完成所需的操作。
MEMS主要包含微型传感器、执行器和相应的处理电路三部分。
作为输入信号的自然界各种信息首先通过传感器转换成电信号,经过信号处理以后(模拟/数字)再通过微执行器对外部世界发生作用。
传感器可以把能量从一种形式转化为另一种形式,从而将现实世界的信号(如热、运动等信号)转化为系统可以处理的信号(如电信号)。
执行器根据信号处理电路发出的指令完成人们所需要的操作。
信号处理器则可以对信号进行转换、放大和计算等处理。
美国AnalogDevice公司已经研制出很多种将集成电路与MEMS集成在一起的集成微加速度计、微陀螺等产品。
MEMS技术是一种典型的多学科交叉的前沿性研究领域,它几乎涉及到自然及工程科学的所有领域,如电子技术、机械技术、光学、物理学、化学、生物医学、材料科学、能源科学等。
MEMS技术的目标是通过系统的微型化、集成化来探索具有新原理、新功能的元件和系统。
微光电子集成系统芯片的研究进展
*
陈 弘 达
(集成光电子学国家重点联合实验室北京
微光电子集成系统芯片
随着现代社会信息化和科学技术的高度发展交换传输是目前
世界各国普遍高度重视的研究热点之一以计算机技术和通信技术为代表的电子
信息技术带来了一场彻底改变人类生活和工作的信息革命微电子技术发展非常迅速
性能完善集成制造工艺相当成熟正迅速
发展着的另一门高新技术——光子集成技术能够高速超大容量传输信息高速并行处理与
交换信息能力相互渗透构成微光电子集成系统
将成为二十一世纪信息技术的重要支柱
如何使光子集成与微电子集成充分融合是发展超高速超大容量多功能微光电子集
成系统的关键所在微光电子集成技术和微光电机械集成技术的发
展人们力图将大量多种功能的器件集成于同一个芯片上
System on ChipËٶȸ߳ɱ¾µÍ¿É¿¿ÐԸߵÈÓŵã
Integrated System
ÔÚ¹¦ÄܺÍÐÔÄÜ·½Ãæ¾ùÈ¡µÃ·ÉËÙ·¢Õ¹µÄ΢¹âµç×Ó¼¯³ÉϵͳоƬÊǹâ×Ó¼¯³ÉÓë΢µç×Ó¼¼ÊõÏà½áºÏ
µÄÖØ´ó·¢Õ¹
Ôڹ⻥Á¬¹âͨÐÅģʽʶ±ð¹âÐÅÏ¢´¦ÀíÓë´æ´¢µÈ
ÁìÓò¾ßÓкܹ㷺µÄÓ¦ÓÃǰ¾°
»¹¾ßÓеç×ÓµÄÂß¼-´¦Àí·Å´óºÍÖÇÄÜ¿ØÖƹ¦ÄÜ
Ï൱³ÉÊìµÄ´ó¹æÄ£¼¯³É¼¼ÊõºÍ¹â×Ó¼¯³ÉÆ÷¼þµÄ¸ßÃܶȲ¢ÐвÙ×÷
½«¹â×Ó¹¦ÄÜÓëµç×Ó¹¦ÄÜÇÉÃîµØ½áºÏÆðÀ´
ÆäÒâÒåÔÚÓÚ¹âÊä³ö¹â½»»»ÒýÈëµç×ÓÐÅÏ¢´¦Àíϵ
ͳÁíÒ»·½Ãæ
񅧏69789802
模电子信息处理和存储电路引入光信息处理系统微光电子
集成系统芯片自九十年代出现以来美英德
象元构成器件性能改善光电集成
二
构成具有实用价值
的光电子集成系统
它是根据系统功能的要求
大规模集成在一块芯片上
以突破分立器件的功能局限性
(1) 光子集成器件要尽可能具备多功能性调制开关
(2) 光要垂直于表面照射在器件上或从器件表面发射
光子器件集成化是发展大规模微光电子集成系统的必由之路
例如偏置条件若是单片集成还要
求光子集成器件与微电子器件的材料
(4) 要求光子集成器件具有较高的成品率和可靠性产业化所必需的
单片光电子集成电路
微光电子混合集成系统芯
片体积小性能价格比大大提高
半导体多量子阱光探测器VCSEL
°ëµ¼Ìå¶àÁ¿×ÓÚå×Ôµç¹âЧӦÆ÷¼þ(Self Electro-Optic Effect Device, 简称SEED)是八十年代后期迅速发
展起来的一种新颖的光电混合型光逻辑开关器件
它利用超晶格量子阱二维自由激子吸收在外电场作用
下的非线性变化通过多量子阱电吸收及电色散效
应从而实现光调制开关功能
利用现有的较为成熟的微电子工艺制作器件及阵列可达ns量级或更低
器件单位面积开关能耗可达10fJ/µm2量级特别是反射型SEED器
件具有结构简单极低能耗稳定性好可实现光探测
光开关光存储电光转换等多种功能
SEED器件及阵列是一种在GaAs/AlGaAs多量子阱材料上制作的电吸收光电子器件
也可用做光调制器也可与GaAs电子器件单片集成
可很方便地制作成大规模高密度二维集成面阵已研制成功64K
的SEED集成面阵
Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser 及其阵列是一种新型
的半导体激光器垂直腔面发射激光器与侧向出光的边发射
激光器在结构上有着很大的不同这种独特的器件结构易于实现二维平面阵列
使得其与光纤的耦合效率大为提高在较宽
的温度范围内易于得到单纵模工作微腔效应使得自发发射因子较普通边发射激光器
有几个量级的提高能够实现极低阈值或无阈值的激射
研制高密度大规模集成激光器面阵
与平面硅工艺完全兼容大规模制备这一现代工业的关键要求
目前研究机构研
究波长覆盖了从紫外到红外的各个波段在最近的两三年
0.85µm GaAs/AlGaAs及0.98µm InGaAs/GaAs系列的VCSEL已趋于成熟
2µm2腔面频率响应>40GHz以10Gb/s
速率传输今年美国Cielo 通讯
m VCSEL领域取得了成功m工业用垂直腔面发射激光器
在集成面阵方面
34 VCSEL集成面阵
三
微光电子集成系统芯片从1991年开始研究
1990年星球大战计划停止
光交换技术
在DARPA的支持下
已筹建好世界上第一条带光输入/光输出窗口的微光电子超大规模集成电路
即CMOS-SEED智能象素
芯片
共包含4352个SEED光输入/光输出窗口器件256
美高速度数据传输
大容量自由空间光互连网络的多机群并行高性能计算机系统
1998年美国Honeywell研究中心已筹建好世界上第二条带光输入/光输出窗口
的微光电子超大规模集成电路
即CMOS-MSM/VCSEL智能象素芯片
将MSM/VCSEL微光子集成芯片倒装焊接在CMOS
集成电路芯片上
所构成的微光电子集成系统芯片为有源激光器件并
包括具有一定逻辑处理和智能控制功能的微电子电路并发射光信号
VCSEL 微光电子集成系统芯片有较大的优
势不需要外部偏置光源是比SEED微光电子集成系
统芯片等光无源集成系统芯片更加优越的智能光电子器件
成品率高可充分发挥光子集成器件和电子器件的性能
集成后的智能象素体积小性能价格比大大提高
HP公司的单信道智能象素Transceiver收发模块
可应用于高速并行光互连链路和ATM光交换系统中
结 语
以SEEDCMOS为基础器件的具有高速大容量高并行处理功能的微光电子集成系统芯片
具有重大的应用前景及很强的开拓性和探索性研究处于发展阶段
世界各大公司都在积极开展研究
从应用与市场角度看这类研究在发展计算技术和通讯技术方
面具有战略意义发展速度惊人应用需求量很大
由微光电子集成系统芯片构成的光互连