《材料结构与性能》习题

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《材料结构与性能》习题

第一章

1、一25cm长的圆杆,直径2.5mm,承受的轴向拉力4500N。如直径拉细成2.4mm,问:

1)设拉伸变形后,圆杆的体积维持不变,求拉伸后的长度;

2)在此拉力下的真应力和真应变;

3)在此拉力下的名义应力和名义应变。

比较以上计算结果并讨论之。

2、举一晶系,存在S14。

3、求图1.27所示一均一材料试样上的A点处的应力场和应变场。

4、一陶瓷含体积百分比为95%的Al2O3(E=380GPa)和5%的玻璃相(E=84GPa),计算上限及下限弹性模量。如该陶瓷含有5%的气孔,估算其上限及下限弹性模量。

5、画两个曲线图,分别表示出应力弛豫与时间的关系和应变弛豫和时间的关系。并注出:t=0,t=∞以及t=τε(或τσ)时的纵坐标。

6、一Al2O3晶体圆柱(图1.28),直径3mm,受轴向拉力F ,如临界抗剪强度τc=130MPa,求沿图中所示之一固定滑移系统时,所需之必要的拉力值。同时计算在滑移面上的法向应力。

第二章

1、求融熔石英的结合强度,设估计的表面能为1.75J/m2;Si-O的平衡原

子间距为1.6×10-8cm;弹性模量值从60到75GPa。

2、融熔石英玻璃的性能参数为:E=73GPa;γ=1.56J/m2;理论强度。如材料中存在最大长度为的内裂,且此内裂垂直于作用力的方向,计算由此而导致的强度折减系数。

3、证明材料断裂韧性的单边切口、三点弯曲梁法的计算公式:

是一回事。

4、一陶瓷三点弯曲试件,在受拉面上于跨度中间有一竖向切口如图2.41所示。如果E=380GPa,μ=0.24,求KⅠc值,设极限载荷达50㎏。计算此材料的断裂表面能。

5、一钢板受有长向拉应力350 MPa,如在材料中有一垂直于拉应力方向的中心穿透缺陷,长8mm(=2c)。此钢材的屈服强度为1400MPa,计算塑性区尺寸r0及其与裂缝半长c的比值。讨论用此试件来求KⅠc值的可能性。

6、一陶瓷零件上有以垂直于拉应力的边裂,如边裂长度为:①2mm;②0.049mm;③2μm,分别求上述三种情况下的临界应力。设此材料的断裂韧性为1.62 MPa·m2。讨论诸结果。

7、画出作用力与预期寿命之间的关系曲线。材料系ZTA陶瓷零件,温度在900℃,KⅠc为10MPa·m2,慢裂纹扩展指数N=40,常数A=10-40,Y取π。设保证实验应力取作用力的两倍。

8、按照本章图2.28所示透明氧化铝陶瓷的强度与气孔率的关系图,求出经验公式。

9、弯曲强度数据为:782,784,866,884,884,890,915,922,922,927,942,944,1012以及1023MPa。求两参数韦伯模量数和求三参数韦伯模量数。

第三章

1、计算室温(298K)及高温(1273K)时莫来石瓷的摩尔热容值,并请和安杜龙—伯蒂规律计算的结果比较。

2、请证明固体材料的热膨胀系数不因内含均匀分散的气孔而改变。

3、掺杂固溶体与两相陶瓷的热导率随体积分数而变化的规律有何不同。

4、康宁1723玻璃(硅酸铝玻璃)具有下列性能参数:λ=0.021J/(cm·℃);

α=4.6×10-6/℃;σp=7.0kg/mm2,E=6700kg/mm2,ν=0.25。求第一及第二热冲击断裂抵抗因子。

5、一热机部件由反应烧结氮化硅制成,其热导率λ=0.184 J/(cm·℃),最大厚度=120mm。如果表面热传递系数h=0.05 J/(cm2·s·℃),假设形状因子S=1,估算可兹应用的热冲击最大允许温差。

第四章

1、一入射光以较小的入射角i和折射角r穿过一透明玻璃板。证明透过后的光强系数为(1-m)2。设玻璃对光的衰减不计。

2、一透明AL2O3板厚度为1mm,用以测定光的吸收系数。如果光通过板厚之后,其强度降低了15℅,计算吸收及散射系数的总和。

第五章

1、无机材料绝缘电阻的测量试件的外径Φ=50mm,厚度d=2mm,电极尺寸如图5.55所示:D1=26mm,D2=38mm,D3=48mm,另一面为全电极。采用直流三端电极法进行测量。

(1)请画出测量试件体电阻率和表面电阻率的接线电路图。

(2)若采用500V直流电源测出试体的体电阻为250MΩ,表面电阻为50M Ω,计算该材料的体电阻率和表面电阻率。

2、实验测出离子型电导体的电导率与温度的相关数据,经数学回归分析得出关系式为:

T

B A 1lg +=σ (1)试求在测量温度范围内的电导活化能表达式。

(2)若给定T 1=500K ,σ1=10-9(1).-Ωcm

T 1=1000K ,σ2=10-6(1).-Ωcm

计算电导活化能的值。

3、本征电导体中,从价带激发至导带的电子和价带产生的空穴参与电导。激发的电子数n 可近似表示为:

n=Nexp (—E P /2kT )

式中N 为状态密度,k 为波尔兹曼常数,T 为绝对温度。

试回答以下问题:

(1)设N=1023cm-3,k=8.6×10-5eV·K-1时,Si(E q=1.1eV),TiO2(E q=3.0eV)

在室温(20℃)和500℃时所激发的电子数(cm-3)各是多少?

(2)半导体的电导率σ(Ω-1·cm-1)可表示为

σ=neμ

式中n为载流子速度(cm-3),e为载流子电荷(电子电荷1.6×10-19C),μ为迁移率(cm2·V-1·s-1)。当电子(e)和空穴(h)同时为载流子时,

σ=n e eμe+n h eμh

假设Si的迁移率μe=1450(cm2·V-1·s-1),μh=500(cm2·V-1·s-1),且不随温度变化。试求Si在室温20℃和在500℃时的电导率。

4、根据费米—狄拉克分布函数,半导体中电子占有某一能级E的允许状态几率f(E)为:

f(E)=[1+exp(E-E F)/kT]-1

E F为费米能级,它是电子存在几率为1/2的能级。

如图5.56所示的能带结构,本征半导体导带中的电子浓度n,价带中的空穴浓度p分别为

式中:m e*,m h*分别为电子和空穴的有效质量,h为普朗克常数。

试回答下列问题:

(1)本征半导体中n=p,利用上二式写出E f的表达式。

(2)当m e*=m h*时,E f位于能带结构的什么位置。通常m e*