《半导体物理》讲义
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半导体物理总结-讲义(1)《半导体物理总结-讲义》是一本关于半导体物理基础知识的讲解材料,其中包括半导体的基本特性、载流子运动、PN结、场效应管等内容。
以下为该书的重点内容概述:一、半导体材料特性1. 能带结构:半导体的能带结构高于导体、低于绝缘体,因此具有介于导体和绝缘体之间的导电和绝缘特性。
2. 晶格结构:半导体具有有序、周期性的晶体结构,能够有效控制电子在晶体内的运动。
3. 掺杂:通过掺杂材料改变半导体的电子浓度,从而使其具有p型或n型半导体的特性。
二、载流子运动1. 热激发:半导体中的电子可以受到能量的激励而被激发到导带中。
热能、光能、电场或磁场都可以起到激发的作用。
2. 离子化:在电场的作用下,半导体中的电子可能与晶格原子碰撞,失去能量而被离子化。
形成的正负离子对在电场作用下会向相反方向漂移。
3. 扩散:电子或空穴在半导体中由高浓度区域向低浓度区域扩散,使浓度逐渐平均,实现电流的流动。
扩散是在没有外电场的情况下发生的。
三、PN结1. 构成:PN结由p型半导体和n型半导体组成。
2. 特性:PN结具有一定的整流特性,能够阻止电流从n型半导体流向p型半导体,但允许反向电流。
3. 工作原理:在PN结中,载流子在电场的作用下发生扩散和漂移,形成电流。
四、场效应管1. 构成:场效应管由栅、漏极和源极三部分构成。
栅极位于n型半导体上,由于n型半导体中的电子易受到电场的影响,因此在栅极上加入电信号可以控制通道的导电性。
2. 工作原理:在没有控制电压的作用下,场效应管的通道是关闭的。
当加入一定电压时,栅极上的电场可以将通道打开,使得电流得以流动。
以上为《半导体物理总结-讲义》的重点内容概述,读者可根据需要深入学习相关内容。
莲藕批发供货合同模板甲方(供货方):__________地址:_____________________联系电话:_________________法定代表人:_______________身份证号码:______________乙方(采购方):__________地址:_____________________联系电话:_________________法定代表人:_______________身份证号码:______________根据《中华人民共和国合同法》及相关法律法规的规定,甲乙双方本着平等自愿、诚实信用的原则,就莲藕的批发供货事宜,经协商一致,签订本合同,以资共同遵守。
第一条产品信息1. 产品名称:莲藕。
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第三条交货时间及地点1. 交货时间:甲方应在乙方下达订单后______天内完成供货。
2. 交货地点:乙方指定的地点,具体地址以乙方订单为准。
第四条运输方式及费用1. 运输方式:______________________。
2. 运输费用:由______方承担。
第五条质量验收1. 乙方在收到货物后______小时内进行验收,如发现质量问题,应在______小时内书面通知甲方。
2. 甲方在接到乙方通知后应及时处理,如确属甲方责任,甲方应负责更换或退货。
第六条付款方式及期限1. 付款方式:乙方应在收到货物并验收合格后______天内支付货款。
2. 付款期限:乙方应在合同约定的付款期限内支付全部货款。
半导体物理讲义-2第二部分半导体中的电子和空穴前面我们讨论了半导体能带结构的一些共同的基本特点。
不同的半导体材料.其能带结构不同,而且往往是各向异件的,即沿不同的被矢k方向,E ~ K关系不同。
由于问题复杂,虽然理论上发展了多种计算的力法.但还不能完全确定出电子的全部能态,尚需借助于实验帮助,采用理论和实验相结合的方法来确定半导体中电子的能态。
本节介绍最初测出载流子有效质量并据此推出半导体能带结构的回旋共振实验及硅和锗的能带结构。
因对大多数半导体,起作用的往往是导带底附近的电子和价带顶附近的空穴,所以只给出导带底和价带顶附近的能带结构一、k空间等能面已知,一维情况下设能带极值在k=0处,则导带底附近和价带顶附近的E ~ K关系:图极值附近E ~K 关系示意图所以,如果知道m*n和m*p ,则极值附近的能带结构便可了解。
对实标的三维晶体,以kx , ky , kz为坐标轴构成k空间,k空间任―矢量代表波矢k(kx , ky , kz) 。
其中简单情况(半导体或晶体具有各向同性时):导带低附近E ~ K关系当E(k)为某一定值时,对应于许多组不同的(kx,ky,kz),将这些组不同的(kx,ky,kz)连接起来构成一个封闭面,在这个面上的能量值均相等,这个面称为等能量面,简称等能面。
容易看出,上式表示的等能面是一系列半径为的球面。
图 k空间球形等能面平面示意图一般情况(半导体或晶体具有各向异性的性质):导带低附近E ~ K关系晶体有各向异性时,E(k)与k的关系沿不同的k方向不一定相同,反映出沿不同的k 方向,电子的有效质量不一定相同,而且能带极值不一定位于k=o处。
设导带底位于k0 ,能量为E(k0),在晶体中选择适当的坐标轴kx , ky , kz,并令m*x , m*y , m*z分别表示沿kx , ky , kz 三个方向的导带底电子的有效质量,用泰勒级数在极值k0附近展开,略去高次项,得:注意:要具体了解这些球面或椭球面的方程,最终得出能带结构,还必须知道有效质量的值。
半导体物理讲义一、硅的性质硅是一种呈灰色金属光泽的半金属。
所谓半金属是其一些物理,化学特性介于金属和非金属之间的元素。
硅无毒,无害,性脆,易碎。
元素符号为Si,属周期表中第三周期ⅣA族元素,比重为2.33,原子序数14,原子量为28.086。
在自然界中没有游离状态的硅、多呈氧化物状态存在。
在岩石圈(自表面深度为16公里内的地壳)中的丰度为27.6(重量)%,因而硅的资源极为丰富。
硅的资源虽然极为丰富,但由于其在自然界中呈氧化物状态存在,想要获得半导体级硅实为不是一件易事。
硅的主要原子价态是4价,其次是2价。
常温下化学性质稳定,不溶于强酸,易溶于碱。
在高温下性质活泼,易与多种物资发生化学反应。
硅在自然界的同位素及其所占的比例分别为:28Si 为92.23%, 29Si为4.67 %,30Si为3.10 %。
常压下硅的晶体结构为金刚石型,α=0.5431nm, 加压到15GPa时,改变为面心立方型,α=0.6636nm。
硅纯化到一定程度为良好半导体材料。
所谓半导体,是指其电阻率介于导体和绝缘体之间,其范围为10-3-1010Ω.cm的一种固体物质。
如载流子浓度为1×1018 cm-3的N型重掺硅单晶,其电阻率大约为5×10-2Ω.cm,而载流子浓度为1×1012 cm-3的N型高纯度硅单晶,其电阻率大约为5000Ω.cm。
载流子浓度是一个与杂质浓度有关的重要电学参数,杂质含量多少是影响电阻率大小的重要因素。
电流是带正电的空穴和带负电的电子定向传输实现的。
硅是一种神奇元素,通常的工业硅(99.0 - 99.9%)不具有半导体性能。
这种纯度水平的硅多用在制造硅钢片或与铝制成合金用在汽车工业上。
只有将硅提纯到很高纯度,即人们常说的89(99.999999 %)到99 (99.9999999 %)时就显示出其优异的半导体材料性能。
半导体硅材料包括:硅多晶,硅单晶,硅单晶片(切片,研磨片以及抛光片等)硅外延片,非晶硅和微晶硅,多孔硅以及以硅基材料(SOI和SiGe/Si材料等)。
半导体物理讲义(第五稿)胡礼中编大连理工大学物理与光电工程学院电子科学与技术研究所2011年2月引言本课程是为我校电子科学与技术专业开设的一门必修专业基础课,也是其他相关专业的重要选修课,主要介绍半导体的一些基本物理概念、现象、物理过程及其规律,为学习诸如《半导体材料》、《半导体器件》等后续课程打下基础。
本课程共分八章。
第一和第二章扼要复习一下《固体物理》已详细介绍过的有关晶体结构和晶格振动及缺陷的基本知识,这些内容是学习后续内容前必需掌握的。
第三章到第八章,讲述半导体物理的主要内容。
包括:半导体中的电子状态,电子与空穴的统计分布,电导和霍尔效应,非平衡载流子,半导体的接触现象和半导体表面。
应该说,能带理论是半导体物理学的基础,因此在第三章中先通过简单的模型和讨论将能带理论的主要结论告诉同学们。
包括更复杂的数学推导与计算的严格能带理论,我们将安排在研究生的《半导体理论》课程中讲授。
半导体物理涉及的物理概念和基本原理较多,为了加深对它们的理解,在各章里均给同学们留有习题或思考题,这些题目有的还是基本内容的补充。
也有少量难度较大的题目,这样的问题有利于拓宽同学们的知识面和训练同学们的独立思考能力。
这里还想说明一点,近年来,半导体学科发展迅速,涉及的内容极其丰富,这门48学时的课程是远远不能容纳的。
我只希望能通过本课程的学习,把大家引进门,使同学们对半导体科学和技术发生兴趣,以便今后进一步深入学习、研究和应用。
第五稿修正了第四稿中仍然存在的一些错误和不妥之处。
参考书1.黄昆,谢希德《半导体物理学》,科学出版社,1958年2.黄昆,韩汝琦《半导体物理基础》,科学出版社,1979年3.刘文明《半导体物理学》,吉林人民出版社,1982年4.刘恩科等《半导体物理学》,国防工业出版社(1~~4版)5.孟宪章,康昌鹤《半导体物理学》,吉林大学出版社,1993年6.中岛坚志郎《半导体工程学》,科学出版社,2001年7.叶良修《半导体物理学》,高等教育出版社,1987年8.方俊鑫,陆栋《固体物理学》,上海科学技术出版社,1993年9.曾谨言《量子力学》,科学出版社,2000年作业本:活页形式目录第一章晶体结构 4 §1-1 晶体内部结构的周期性 4 §1-2 晶体的对称性 5 §1-3 倒格子与周期性函数的付立叶展开 6 §1-4 常见半导体的晶体结构7 第二章晶格振动和晶格缺陷9 §2-1 一维均匀线的振动9 §2-2 一维单原子链的振动10 §2-3 一维双原子链的振动12 §2-4 玻恩---卡门边界条件(周期性边界条件)14 §2-5 声子16 §2-6 晶体中的缺陷和杂质16 第三章半导体中的电子状态18 §3-1 电子的运动状态和能带18 §3-2 价带、导带和禁带21 §3-3 (自由)载流子22 §3-4 杂质能级与杂质补偿效应22 第四章半导体中载流子的统计分布25 §4-1 状态密度25 §4-2 费米分布函数和费米能级27 §4-3 导带电子密度和价带空穴密度29 §4-4 本征半导体30 §4-5 杂质半导体31 §4-5-1 杂质能级的占据几率31 §4-5-2 只含一种杂质的半导体32 §4-5-3 存在杂质补偿的半导体37 §4-6 简并半导体40 第五章半导体中的电导现象和霍耳效应42 §5-1 载流子的散射42 §5-2 电导现象44 §5-3 霍耳效应46 第六章非平衡载流子51 §6-1 非平衡载流子的产生和复合51 §6-2 连续性方程53 §6-3 非本征半导体中非平衡少子的扩散和漂移58 §6-4 近本征半导体中非平衡载流子的扩散和漂移63 §6-5 载流子复合64 第七章半导体的接触现象67 §7-1 外电场中的半导体67 §7-2 金属—半导体接触70 §7-3 金属—半导体接触的整流现象72 §7-4 半导体pn结74§7-5 pn结的整流现象77 §7-6 理想pn结理论(窄pn结理论)77 §7-7 pn结击穿80 §7-8 异质结81 §7-9 欧姆接触83 第八章半导体表面84 §8-1 表面态与表面空间电荷区84 §8-2 空间电荷区的理论分析84 §8-3 表面场效应87 §8-4 理想MOS的电容—电压特性88 §8-5 实际MOS的电容—电压特性90附:半导体物理习题。
半导体物理讲义
(第五稿)
胡礼中编
大连理工大学物理与光电工程学院
电子科学与技术研究所
2011年2月
引言
本课程是为我校电子科学与技术专业开设的一门必修专业基础课,也是其他相关专业的重要选修课,主要介绍半导体的一些基本物理概念、现象、物理过程及其规律,为学习诸如《半导体材料》、《半导体器件》等后续课程打下基础。
本课程共分八章。
第一和第二章扼要复习一下《固体物理》已详细介绍过的有关晶体结构和晶格振动及缺陷的基本知识,这些内容是学习后续内容前必需掌握的。
第三章到第八章,讲述半导体物理的主要内容。
包括:半导体中的电子状态,电子与空穴的统计分布,电导和霍尔效应,非平衡载流子,半导体的接触现象和半导体表面。
应该说,能带理论是半导体物理学的基础,因此在第三章中先通过简单的模型和讨论将能带理论的主要结论告诉同学们。
包括更复杂的数学推导与计算的严格能带理论,我们将安排在研究生的《半导体理论》课程中讲授。
半导体物理涉及的物理概念和基本原理较多,为了加深对它们的理解,在各章里均给同学们留有习题或思考题,这些题目有的还是基本内容的补充。
也有少量难度较大的题目,这样的问题有利于拓宽同学们的知识面和训练同学们的独立思考能力。
这里还想说明一点,近年来,半导体学科发展迅速,涉及的内容极其丰富,这门48学时的课程是远远不能容纳的。
我只希望能通过本课程的学习,把大家引进门,使同学们对半导体科学和技术发生兴趣,以便今后进一步深入学习、研究和应用。
第五稿修正了第四稿中仍然存在的一些错误和不妥之处。
参考书
1.黄昆,谢希德《半导体物理学》,科学出版社,1958年
2.黄昆,韩汝琦《半导体物理基础》,科学出版社,1979年
3.刘文明《半导体物理学》,吉林人民出版社,1982年
4.刘恩科等《半导体物理学》,国防工业出版社(1~~4版)
5.孟宪章,康昌鹤《半导体物理学》,吉林大学出版社,1993年
6.中岛坚志郎《半导体工程学》,科学出版社,2001年
7.叶良修《半导体物理学》,高等教育出版社,1987年
8.方俊鑫,陆栋《固体物理学》,上海科学技术出版社,1993年
9.曾谨言《量子力学》,科学出版社,2000年
作业本:活页形式
目录
第一章晶体结构 4 §1-1 晶体内部结构的周期性 4 §1-2 晶体的对称性 5 §1-3 倒格子与周期性函数的付立叶展开 6 §1-4 常见半导体的晶体结构7 第二章晶格振动和晶格缺陷9 §2-1 一维均匀线的振动9 §2-2 一维单原子链的振动10 §2-3 一维双原子链的振动12 §2-4 玻恩---卡门边界条件(周期性边界条件)14 §2-5 声子16 §2-6 晶体中的缺陷和杂质16 第三章半导体中的电子状态18 §3-1 电子的运动状态和能带18 §3-2 价带、导带和禁带21 §3-3 (自由)载流子22 §3-4 杂质能级与杂质补偿效应22 第四章半导体中载流子的统计分布25 §4-1 状态密度25 §4-2 费米分布函数和费米能级27 §4-3 导带电子密度和价带空穴密度29 §4-4 本征半导体30 §4-5 杂质半导体31 §4-5-1 杂质能级的占据几率31 §4-5-2 只含一种杂质的半导体32 §4-5-3 存在杂质补偿的半导体37 §4-6 简并半导体40 第五章半导体中的电导现象和霍耳效应42 §5-1 载流子的散射42 §5-2 电导现象44 §5-3 霍耳效应46 第六章非平衡载流子51 §6-1 非平衡载流子的产生和复合51 §6-2 连续性方程53 §6-3 非本征半导体中非平衡少子的扩散和漂移58 §6-4 近本征半导体中非平衡载流子的扩散和漂移63 §6-5 载流子复合64 第七章半导体的接触现象67 §7-1 外电场中的半导体67 §7-2 金属—半导体接触70 §7-3 金属—半导体接触的整流现象72 §7-4 半导体pn结74
§7-5 pn结的整流现象77 §7-6 理想pn结理论(窄pn结理论)77 §7-7 pn结击穿80 §7-8 异质结81 §7-9 欧姆接触83 第八章半导体表面84 §8-1 表面态与表面空间电荷区84 §8-2 空间电荷区的理论分析84 §8-3 表面场效应87 §8-4 理想MOS的电容—电压特性88 §8-5 实际MOS的电容—电压特性90
附:半导体物理习题。