Electron spin coherence in semiconductors Considerations for a spin-based solid state quant
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非对称半导体双量子阱中的双电磁感应透明现象张蔚曦;张愉;金慧【摘要】The characteristics of optical absorption in an asymmetric four-level N-type semiconductor quantum well with the cross-coupling longitude-optical phonons (CCLOP) relaxation were studied. In the linear range, it shows that the electromagnetically induced transparency (EIT) relies on the coherence control of the optical fields and the CCLOP relaxation. Especially, there exhibits a double-EIT when the transition frequency between the hole and anti-bonding states is rather large. Interestingly, there appears a near-perfect double-EIT phenomenon when increasing the CCLOP relaxation. It is expected that these results may exhibit some potential applications in the all-optical switching and other optical information engineering related issues.%对在交叉耦合纵波光学声子(Cross-coupling Longitude-optical Phonons,简称CCLOP)弛豫时四能级非对称N型半导体量子阱系统的光吸收特性进行了研究。
CASTEP参数设置1、castep在做几何优化时,结构收敛判据,也就是Energy, max force, max stress, max displacement, 这4个判据,给你分了差中好超好4个级别,这4个级别对应的判据数值是非常合理的。
如果你的体系是一个比较小而且对称性超高的原胞,那么几何判据用Ultrafine级别;如果是复合体系,或体系较大,用fine级别。
如果体系超大,用中等级别。
当然,所有情况下,你都可以先用中等级别做优化,然后再提升到好的级别。
在写论文时,最终结果至少要用到好的级别,但你论文中不能直接说我用了fine level,你要把每个判据,按照castep的fine 设定写出来。
评析:先用中等级别优化,再用fine级别优化,特殊情况采用ultrafine。
cutoff给多少eV,这个你要看看文献一般都用多少,优化的时候少用,有个经验就是,你把catoff那里点开,然后回头点优化质量,差等,中等,好,超好,你每个都点一下,你会发现cutoff不一样,用fine级别的cutoff值去优化,就一定没有问题。
根据体系不一样,castep会自己判定一个在fine 级别下cutoff应该是多少,你就用这个值是多少。
对于很大的体系castep 即使在fine级别判定的cutoff 也可能很小这时候是不行的cutoff一般不要低于400 eV。
评析:Ecut根据文献值,不低于400 eV。
优化时可以取小些,性质计算可以大些,比如优化400 eV性质计算500 eV。
做几何优化的时候,scf的收敛标准也不用那么高,用5e-6 eV/atom 足以,这个数值比fine差一些,比中等好一些。
几何优化做完,做能量和性质计算的时候,scf至少要用1e-6, 如果体系很小,你可以用5e-7.评析:scf标准:几何优化用5.0-6 eV/atom或者fine值; 计算性质时使用至少1.0-6,如果体系很小,你可以用5e-7.k-point 设置多少也要看文献经验办法是你自己定义kpoint 比如n x n x n 他下面有一个对应的实空间间隔当你吧kpoint调整到0.3左右的时候就用这套k就可以,这是几何优化一般大体系333 中小体系555优化好结构算能量和性质的时候对应实空间间隔调整到0.1附近就用这套一般做能量性质计算大体系777或999 中小体系999或11 11 11或13 13 13 视情况而定评析:k-point设置看文献值,几何优化实空间间隔0.3左右;性质计算实空间间隔0.1附近。
铝纳米晶的正电子湮没研究本文从网络收集而来,上传到平台为了帮到更多的人,如果您需要使用本文档,请点击下载按钮下载本文档(有偿下载),另外祝您生活愉快,工作顺利,万事如意!1 引言纳米晶材料具有明显不同于粗晶材料的物理和化学性能, 如高自扩散率、高延展性、声子比热容增强、磁性改变. 这些优异性能与其本身具有的体积比相当大的界面微观结构有关. 纳米晶的界面处通常存在大量缺陷, 如空位、空位团、微孔洞等,而缺陷的大小和浓度与制备纳米晶的工艺等因素有关.正电子湮没寿命谱已广泛应用于研究纳米晶材料晶界的微观缺陷[5−13], 提供缺陷的类型和浓度等信息. 已有的文献报道主要集中于纳米晶Fe,Cu, Pd, Ag 等微结构以及热稳定性的研究. 目前仅有曾小川利用正电子湮没技术研究了不同制备工艺对制备的铝纳米粉体缺陷的影响, 尚缺乏相关制备工艺对铝纳米晶的缺陷影响的研究.本文拟采用自悬浮定向流-真空热压法制备铝纳米晶, 并运用正电子湮没寿命谱分析技术研究铝纳米晶在压制过程中缺陷变化情况, 着重分析压力变化对材料缺陷状态的影响. 在通过压制纳米粉体制备纳米晶过程中, 不同的压力势必影响样品中缺陷的类型及其浓度. 这些微观结构的改变将影响材料最终的物理化学性能. 因此, 微观结构的研究对于材料的生产和应用有重要的指导意义.2 实验样品制备以纯度为% 的铝丝为原料, 采用电磁感应加热-自悬浮定向流法制备出铝纳米粉末颗粒,并将所制备的铝纳米粉末移至真空手套箱中. 在惰性气体(高纯氩气)保护下, 称取一定量的铝纳米粉, 装入直径为15 mm的硬质合金模具中, 密封后取出, 移入真空热压块体制备设备中, 待真空至真空度优于× 10−3Pa后升温, 在相应的温度(300◦C)和压强(0—1 GPa)下保压1 h, 制备出5个不同密度的铝纳米晶体(按照密度从低至高分别为1—5号样品).性能表征本实验采用阿基米德原理(以无水乙醇为介质)测定铝纳米晶体的密度(测试温度为◦C);采用D/max-IIIA 型X射线衍射仪(XRD)进行测试, 以CuKα (λ = Å)为X射线源, 扫描范围2θ = 30◦—90◦; 正电子寿命谱是在常温下利用快-快符合正电子寿命谱仪测量, 采用22NaCl正电子源, 测量寿命谱时用两片相同的样品夹住正电子源成三明治结构. 每个样品测量8次, 每一个寿命谱的总计数都在106以上, 并且都采用PATFITP 软件进行3个寿命分量拟合. 另外也将纯铝进行退火后进行正电子湮没寿命谱测试.3 结果与讨论XRD分析利用X射线衍射, 测量了铝纳米晶体的XRD谱图(见图2). 由布拉格公式, 可以推出XRD谱出现的5个铝的特征峰, 从左到右分别对应面心立方(FCC)结构Al的晶面指数(111), (200), (220),(311), (222). 假定衍射线的宽化仅由晶粒尺寸造成, 扣除仪器因素引起的几何宽化, 通过Scherrer公式计算得出5个铝纳米晶体样品的平均晶粒尺寸约为48 nm, 晶粒尺寸没有明显变化. 可见在300◦C温度下, 不同压制压强对制备的样品的晶粒尺寸基本没有影响.正电子湮没寿命分析正电子寿命谱的三寿命分量实验制备的5个铝纳米晶的正电子湮没寿命谱由三分量构成: 短寿命τ1为177—214 ps,其对应强度I1为%—%; 中间寿命τ2为352—390 ps, I2为53%—67%; 长寿命τ3为1113—2366 ps, I3为%—%. 寿命和对应强度的具体值与压制压强有关.压制压强对正电子寿命谱的影响铝纳米晶的平均正电子寿命与压强有关: 随压强增加, 平均正电子寿命τm(τm=τ1I1+ τ2I2+ τ3I3)大体趋势是降低的, 即由311 ps降至301 ps. 由于平均正电子寿命τm与三种类型缺陷(类空位、空位团和微孔洞)的总体积尺寸相关,图4 表明缺陷的总体积随压强的增大而减小.显微硬度纳米金属块体材料的显微硬度属于结构敏感量, 不仅与材料本身的微观状况(晶粒大小, 制备过程和制备方法)有关, 而且还与缺陷及其大小有关.表面气孔等缺陷的存在会显著降低显微硬度. 增大压力可提高样品密度以及减小缺陷尺寸和数量, 从而可望提高样品硬度. 图9为铝纳米晶的显微硬度与压制压强的关系, 可见随着压强的提高, 铝纳米晶的密度增加, 从而使其显微硬度提高.4 结论正电子湮没寿命测试表明自悬浮定向流-真空热压法制备的铝纳米晶的微观缺陷明显不同于粗晶纯铝, 其缺陷主要为类空位以及空位团, 而微孔洞的含量很少. 铝纳米晶微观缺陷结构与压强的变化规律为: 压制压强(P)低于GPa时制得的纳米晶, 空位团随压强的增加而逐渐转变为类空位;在GPa P GPa时, 各类缺陷发生消除; P GPa时, 各类缺陷进一步发生消除.随着压强的提高, 铝纳米晶的密度增加, 缺陷的尺寸和数量相应地减少,从而增加其显微硬度.本文从网络收集而来,上传到平台为了帮到更多的人,如果您需要使用本文档,请点击下载按钮下载本文档(有偿下载),另外祝您生活愉快,工作顺利,万事如意!。
利用二维光子晶体提高波的耦合效率(英文)
欧阳征标;安鹤男;阮双琛;李景镇;张道中
【期刊名称】《光子学报》
【年(卷),期】2004(33)1
【摘要】通过多重散射方法数值模拟研究和实验测量表明利用二维光子晶体可以提高波的耦合效率研究发现 ,高的波耦合效率通常发生在光子禁带的边沿和其它非禁带区的某些频率处当光子晶体的晶格常数接近于所传输的波的波长时 ,会出现很高耦合效率的共振耦合现象利用二维光子晶体的情况下的波耦合效率最高可以达到不利用二维光子晶体时的 1.89倍
【总页数】4页(P69-72)
【关键词】光子晶体;耦合效率;共振耦合;光子禁带;光集成器件;晶格常数;传输性能【作者】欧阳征标;安鹤男;阮双琛;李景镇;张道中
【作者单位】深圳大学工程技术学院固态光子实验室;中国科学院物理研究所光物理开放实验室
【正文语种】中文
【中图分类】TN491;O734
【相关文献】
1.二维光子晶体耦合器耦合特性分析 [J], 关春颖;苑立波
2.高品质因子和高传输效率的二维光子晶体耦合腔波导研究 [J], 吕冬妮;沈宏君;余建立
3.一种0.3 THz二维光子晶体定向耦合器的设计 [J], 陈琦;何晓阳;张健
4.一种0.3THz二维光子晶体定向耦合器的设计 [J], 陈琦;何晓阳;张健;
5.利用干涉光刻和双光子聚合技术制造带有功能缺陷的二维光子晶体(英文) [J], 孙慧婷;宋正勋;翁占坤;王大鹏;蒋伊爽;于烨
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