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电子显微镜操作规程
1、将测试用粉煤灰样品置于干燥箱中，于105±5℃下烘至恒重，取出放在干燥器中冷却至室温。
2、准确称取试样2g，置于载玻片上用玻璃板压平（呈圆形），测量压平后样品直径，准确至1mm，取两个垂直方向尺寸平均值，控制在20±2mm。
3、接通显微镜电源，将制好的样品载玻片置于显微镜载物台上，调节显微镜物镜将视野调至最清晰状态。
4、通过显微镜USB接口连接电脑，打开试验信息管理系统，在相应试验项目中点击玻璃微珠试验，对当前视野进行抓图。
5、通过抓拍到的图片初步判断该批样品是否含有玻璃微珠，如不含玻璃微珠则直接判定为不合格。
6、对含有玻璃微珠的样品利用图像分析软件对图像进行后期处理，直至能清晰界定玻璃珠和杂质界面并自动计算出当前图像中杂质总面积，利用软件测量功能，测量当前图像总面积。
GAOSUO Digital MicroscopeUser Manual（中文）首先非常感謝貴司（您）購買了GAOSUOX數碼顯微鏡數碼顯微鏡應用範圍非常廣泛主要有以下方面.1工業方面：a 、工業檢視，例如電路板、精密機械等b 、印刷檢視，SMT焊接檢查c 、紡織檢視d、IC表面檢查2美容方面A、皮膚檢視B、發根檢視C、紅外理療（特定產品）3生物應用A、微生物觀察B、動物切片觀察4其他A、擴視器，協助視障人士閱讀B、寶石鑒定GAOSUO數碼顯微鏡使用簡單，只需要同電腦USB介面連接就可以使用，本產品還配備測量軟體，可做簡單的量測，非常的方便。
為了更詳細的介紹本產品，敬請耐心的閱讀產下面的產品介紹，使用方法，注意事項。
規格：傳感器：高性能感光晶片主控晶片：專用主控16Bit DSP放大倍率：1X ~ 500X拍照/錄影：內置輔助光源：8顆白光LED燈靜態解析度：640x480 最高可達1600x1200(可按需定制)數碼變焦：多段式成像距離：手動調節0~無限遠影像解析度：標準640*480固定底座：萬向金屬底座(可選配用升降支架)光盤：內含驅動，測量軟體，說明書支援系統：WIN XP/VISTA；WIN 7 32位和64位電源：USB（5V DC)電腦介面：USB 2.0 & USB 1.1 相容動態幀數: 30f/s Under 600 LUX Brightness照度範圍：0 ~ 30000LUX線控可調硬體需求：奔騰主頻700M Hz或以上；1G硬碟CD ROM 光碟機；64MB 記憶體支援語言：中文（簡）中文（繁體）英(其他語言需要定制)產品顏色：磨砂黑色，其他顏色可定制主體尺寸112 mm ( 長) 33 mm ( 外徑)單機包裝重量380g安全警告及注意事項1. 勿自行拆解本產品，以避免靜電擊穿精密晶片。
2. 勿用酒精等有機溶劑清潔產品。
3. 勿用手指觸摸鏡頭，以免表面造成刮痕和贓汙。
物理实验技术中的电子显微镜使用方法引言：电子显微镜（Electron Microscope）是现代科学领域中非常重要的一种实验技术。
通过利用电子束替代传统的光线来观察和研究物质的微观结构，电子显微镜在材料科学、生物学、物理学等领域都有着广泛的应用。
本文将详细介绍电子显微镜的使用方法，包括仪器的操作、样品的准备以及结果的分析。
一、电子显微镜的操作1. 准备工作：在使用电子显微镜之前，需要先进行一系列的准备工作。
首先，要检查仪器是否正常工作，并及时排除任何故障。
其次，要进行样品台的清洁和真空泵的检查。
最后，将待观察的样品放入样品台，确认样品与样品台之间的接触牢固。
2. 参数设定：在操作电子显微镜之前，需要设定一些参数以确保观察结果的准确性。
首先是加速电压（Acceleration Voltage），它决定了所使用的电子束的能量。
加速电压一般在1000至30000伏之间，视样品的性质和所需观察的细节而定。
其次是聚焦（Focus）和孔径（Aperture）的设定，可以帮助获得清晰度和深度的观察图像。
3. 调整对焦与降噪：调整电子显微镜的对焦是确保观察图像清晰度的重要步骤。
光学系统通常具有三个以上的调整螺旋（Knobs），分别用于调整垂直方向、水平方向和其他方向的对焦。
通过微调这些螺旋，可以获得清晰的图像。
此外，电子显微镜通常配备有降噪（Noise Reduction）功能，可以减少背景噪声对图像质量的干扰，提高观察的准确性。
二、样品的准备1. 固态材料的准备：对于固态材料的观察，需要将样品切割成适当的大小，并进行表面的抛光、清洗和脱污处理。
之后，将样品固定在金属台上，并使用导电胶将样品与台面连接。
最后，用金属蒸发镀层覆盖样品表面，以提供较好的导电性。
2. 生物样品的制备：对于生物样品的观察，需要进行更加复杂的处理。
首先，需要将样品进行固定和冻结，以保持其原始结构。
然后，使用超薄切片机将样品切成厚度约为50至100纳米的薄片。
电子显微镜操作步骤
一、开机：打开空气开关，打开主机钥匙开关，启动电脑软件。
二、放样：按压AIR键解除真空，轻轻拉出样品仓放入样品(取出样品或查看样品)，关上样品仓后按压EVAC键抽真空。
三、选择真空模式和观测探头：真空模式可选择高真空和低真空模式；观测探头可选择二次电子探头或背反射探头。
不能选择在低真空模式下的背反射探头。
四、观测及图像调节：首先设定样品台高度、选择电压；选择合适的放大倍数观察样品。
首先进行合轴调节：包括机械合轴和电器合轴。
然后聚焦，消除像散，选一个区域，调整至最佳状态。
最后调整亮度和对比度。
五、图像搜集：选择拍照模式，捕获照片。
结束后关掉高压。
六、记录存储：把最终捕获的图像记录名称、日期等存入已建好的文件夹中。
七、关机：首先把样品台降低，按压AIR键解除真空，轻轻拉出样品仓取出样品，关上样品仓后按压EVAC键抽真空。
最后退出软件，关掉电脑，关掉钥匙开关和空气开关。
电子显微分析 电子显微分析是利用聚焦电子束与试样物质相互作用产生的各种物理信号，分析试样物质的微区形貌、晶体结构和化学组成。
包括：用透射电子显微镜TEM 进行的透射电子显微分析用扫描电子显微镜SEM 进行的扫描电子显微分析用电子探针仪EPMS 进行的X 射线显微分析电子显微分析是材料科学的重要分析方法之一，与其它的形貌、结构和化学组成分析方法相比具有以下特点：1）具有在极高放大倍率下直接观察试样的形貌、晶体结构和化学成分。
2） 为一种微区分析方法，具有很高的分辨率，成像分辨率达到0.2～0.3nm （TEM ），可直接分辨原子，能进行纳米尺度的晶体结构及化学组成分析。
一、电子光学基础磁场中运动，特别是在电场和磁场中偏转、聚焦和成像规律的一门科学。
它与几何光学有很多相似之处：（1）几何光学是利用透镜使光线聚焦成像，而电子光学则利用电、磁场使电子束聚焦成像，电、磁场起着透镜的作用。
（2）几何光学中，利用旋转对称面作为折射面，而电子光学系统中，是利用旋转对称的电、磁场产生的等位面作为折射面。
因此涉及的电子光学主要是研究电子在旋转对称电、磁场中的运动规律。
（3）电子光学可仿照几何光学把电子运动轨迹看成射线，并由此引入一系列的集合光学参数来表征电子透镜对于电子射线的聚焦成像作用。
电镜中，用静电透镜作电子枪，发射电子束；用磁透镜做会聚透镜，起成像和放大作用。
静电透镜和磁透镜统称电子透镜1. 电子在静电场中的运动电子在静电场中受到电场力的作用将产生加速度。
初速度为0的自由电子从零电位到达V 电位时，电子的运动速度v 为：(10) 2m eV v当电子的初速度不为零、运动方向与电场力方向不一致时，电场力不仅改变电子运动的能量，而且也改变电子的运动方向。
2、静电透镜与玻璃的凸透镜可以使光线聚焦成像相似，一定形状的等电位曲面簇 也可以使电子束聚焦成像。
产生这种旋转对称等三电位曲面簇的电极装置即为静电透镜。
它有二极式和三极式之分。
JEOL JSM-6460LVScanning Electron MicroscopeAppendix I: Back Scatter DetectorAppendix I I: Low Vacuum ModeAppendix III: Filament ReplacementBasic SEM procedure/Imaging Instructions:Login:SEM Imaging Computer (left monitor): no passwordEDS Computer (right monitor): username: Labuser password: Abc123 Sample Preparation, Mounting, and SEM startup:1.Only clean samples are allowed inside the analysis chamber. Use ethanol or isopropyl alcohol to clean oils and grease off of samples.2.Sample holders are located in blue tool box.a.Mount sample to holder. (ask AAF staff if unsure of which holder to use)b.Measure length that sample extends beyond the sample holder. Thisvalue must be entered into software in next step so as to avoid damageto SEM.3.Open SEM software. (SEM main menu)a.Check in the software that the Z-height value (bottom of black screen) isapproximately 45mm. If not, click on Z-value, type in 45, press enterkey. Or user can Go to: “STAGE”-> “FILE” -> “EXCHANGE” (highlighted)-> “GO”b.Go to SETUP → FUNDAMENTAL SETUP → AUTO FUNCTION (tab)•Input z-height value of your sample above the sample holder(specimen height).•Click okay and close the stage control window.c.On the main software window click the STAGE icon HOLDER• Choose the type of holder you are using.•In stage centered window blue line is sample height position,green line is sample holder position (blue line should be abovegreen line).•Close window.d.Go to desktop and open “IRCamera” software. Double click.4.Press VENT CHAMBER button on front of SEM (remove sample door clamp before).5.After VENT CHAMBER light stops blinking, open the chamber door.•Do you need to use the Backscatter Detector (BSE)?o If yes, see that the backscatter detector is properly positioned belowthe pole piece (if unsure, see Appendix II and AAF staff).o If no, see that the backscatter detector is lifted away from the polepiece (if unsure, see AAF staff).6.Insert sample with the special black handle tongs or carefully by hand. NOTE: the sample holder can only be inserted one way (make sure sample is fully inserted). If it doesn’t seem to fit, do not force it!7.Close the chamber door and clamp down.8.Press EVAC button on front of SEM and allow to pump down for7 minutes.9.After 7 minutes, the high voltage “HT” icon at the top left of the JEOL SEM software should say “ready”.a.If it does, click the icon.SEM Imaging and Saving Image Files:10.Move sample to location under electron beam. Check sample (xy) position via stage icon (move Z to ~25mm or sample to at least 15mm below pole piece—see IR image).11.Focus on sample at about 50X (coarse focus, then fine focus) and click “ABC” (Auto Brightness & Contrast)12.Check working distance of focused sample.13.Choose an accelerating voltage. To adjust, click on the “acc. volt” value near bottom of the screen and double click on the value you desire, 15kV normal (Higher kV sharpens image, but possible damage to sample. Lower kV more surface detail).14. Choose a spot size (generally 35). To adjust, click on the spot size value and adjust the slider bar.15. Now that the sample is focused, working distance (WD) can be adjusted.***Make sure the WD (when focused on highest point on sample) is NEVER below 10mm. If it is, catastrophic damage to backscatter detector can occur** •Based on the current WD value, adjust the Z-value so that WD will be13mm after refocusing.•Emergency stop for stage movement is to push down on black joystick.•For example:If currently Z-value = 45mm, WD = 22mmAdjust Z-value to 36mm, refocus and check that WD now = 13mm16. Sample should now be in focus and WD= 13mm.a.Magnification can be adjusted as desiredb.Fine focus with knobs on control board.c.Adjust X & Y stigmators with knobs on control board.17. At top of screen there are four options for image scan rate (scan 1, 2, 3, 4)a.Scan rate 2 is generally chosen for focusing on sample.b.Scan rate 3 or 4 (slower) are chosen for image capture.18. To capture an image, click the “Freeze” button. Then, save the image to your folder.19. If image moves (up/down or left/right) while focusing, adjust wobble.20. Should be able to get ≥20,000x magnification image s.SEM Procedures After Imaging is Complete:21. Return sample WD to 45mm.22.R eturn sample to exchange position “Stage”->”File”->”Exchange” (highlighted) -> “GO”23. Adjust magnification to 50,000X24. Turn off electron beam by clicking “HT” button at top left of screen.25. Press “VENT” on front of instrument. Wait until “VENT” button stops blinking and then can open chamber door.26. Remove sample using special black handle tongs or carefully by hand.27. Close chamber door and press “EVAC” again. (Chamber must always be under vacuum except when installing or removing sample.)28. Fill out JEOL SEM Logbook with user’s name, PI’s name, sample type,time/date.Promptly report any issues to AAF StaffAppendix I: Back Scatter Detector (BEIW)Under typical SEM imaging, a secondary electron detector is used. Secondary electron detectors require high vacuum and provide surface topography contrast for imaging. Image formation is due to inelastic collision of high energy electrons which impact the sample surface (data from top 5-50nm). Other high energy electrons from the electron beam do not interact with the sample surface. These elastically scattered electrons (data from top 50-300nm) are scattered at large angles to the sample surface and are useful for elemental contrast (z-contrast). BSE detectors do not require high vacuum and therefore in additional to providing z-contrast, are used for imaging under low-vacuum mode (appendix II).3-segment detector (segments A,B, and C)Topo = surface topography (A-B)Compo = Z contrast (A+B)Shadow = Enhances Topo mode1.Only one detector can be used simultaneously, either secondary electrondetector (SEI), or backscatter electron detector (BEIW).2.To use the BEIW, make sure that the detector is properly positionedunderneath the pole piece.3.Follow same steps outlined in main procedure through step #8.4.Then, click on “Signal” at the bottom of the JEOL SEM software window.5.Select BEIW and double click.6.When finished, set the detector type back to SEI and follow same steps asoutlined in main procedure to turn off beam, remove sample, etc.Appendix II: Low Vacuum ModeLow vacuum mode allows for imaging of non-conductive samples without the need for sputter coating. Low vacuum mode can also be used for samples with moderate vapor pressure (see AAF staff for more information). Only the back scatter electron detector (BEIW) can be used when in low vacuum mode.1.Follow steps outline in main procedure through step 7 EXCEPT thatelectrical isolation sample holder must be used.**Do not press EVAC until low vacuum mode AND BEIW is set up!**2.On JEOL SEM software click “Signal” and change to BEIW.3.On JEOL SEM software click “Vac. Mode” at bottom of screen.4.Will be prompted: “Are you sure you want to change to Low Vacuummode?”•Click Yes.5.Start low vacuum mode at about 30-40Pa. (conversion: 1Pa = 7.5mTorr)6.Now, press “Evac” button on front of instrument.7.Once Evac button stops blinking, the high voltage “HT” icon at the topleft of the JEOL SEM software should say “ready”.If it does, click the icon.8.Now, main procedure guidelines for imaging and SEM shutdown can befollowed.9.As a final step, once you are done and sample is removed from chamberadjust the “Signal” back to SEI and “Vac. Mode” back to High Vacuum.Appendix III:JEOL JSM-6460LV Filament Replacement:Filament replacement is necessary every few months of regular use or when system vacuum is poor. JEOL SEM software will indicate filament burnt out with an error message. Additionally, “LC current” (load current) display value will be low or near zero mA. Load current (mA) during regular use will be about five times the accelerating voltage (kV) value being used.1.If microscope was being used for imaging for any length of time before burn-out theelectron gun (filament and Wehnelt cap) will be very hot.•Allow the electron gun to cool for several minutes under vented conditions before attempting to replace the filament.ing nitrile inspection gloves, open the electron gun on top of the column and removethe Wehnelt by pulling it straight out.3.Disassemble the Wehnelt by loosening the external set screws that hold the ceramicbase of the filament in place and pull the filament out by the electrode prongs.4.Visually inspect the filament using a stereo microscope to verify the mode of failure (SeeJEOL manual page 5-7 for more information).5.Clean the Wehnelt cap with metal polish followed by isopropyl alcohol rinse.6.Install a new filament in the reverse procedure:a.Important: Make certain that the spacer is seated all the way down in theWehnelt cap and that scribe mark is facing the correct direction.b.Insert the new filament with the guide groove facing the correct direction.c.Visually check the filament position using a stereo microscope. The Filament tipshould automatically be centered and positioned slightly below the cone tip holein the Wehnelt cap.7.Open the electron gun on the top of the column.8.Align the guide groove on the Wehnelt with the guide pin on the electron gun and thenpush in the Wehnelt until it clicks into position.9.Close the electron gun cap making sure that the o-ring is seated properly.10.Press EVAC on the front of the system.11.Once the EVAC button stops flashing and the “HT ready” icon appears on the mainsoftware window, click the icon to turn HT on (accelerating voltage).12.Perform gun alignment (use semi-auto gun align, NOT auto).a.Manually move scroll bars to fine tune the gun alignment.。
透射电子显微镜的使用教程透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种高分辨率的显微镜，它能够通过电子束穿透样品，观察样品内部的结构和成分。
本文将介绍透射电子显微镜的使用教程，让读者了解如何正确操作这一仪器。
1. 仪器准备使用透射电子显微镜前，首先需要进行仪器的准备工作。
确保仪器处于良好的工作状态，例如检查电源、真空系统等。
同时，还应检查样品台、样品支架等配件是否完好。
此外，为了获得更好的成像效果，还需准备适当尺寸的透射电镜样品。
2. 样品制备将待观察的样品制备成符合要求的样品是使用透射电子显微镜的重要一步。
通常情况下，需要将样品制备成薄片，以保证电子束能够穿透样品。
这可以通过机械剥离、石墨化学剥离等方式实现。
制备好的样品应该放置在电镜网格上，并确保样品无尘、无气泡等。
同时，样品可以根据需要进行涂覆、染色等处理，以突出样品的特定结构。
3. 调试仪器参数在开始观察之前，需要根据样品的特点和使用需求调试透射电子显微镜的参数。
首先，根据样品的特性选择合适的加速电压和操作模式。
其次，通过调整透射电子显微镜的对焦系统和磁镜，确保电子束可以准确地聚焦在样品上。
此外，还需要适当调整透射电镜的亮度和对比度，以获得清晰的图像。
4. 开始观察调试好仪器参数后，就可以开始观察样品了。
将样品放置在样品台上，确保样品与电子束之间的距离适当。
随后，可以通过透射电子显微镜的视野调整系统选择感兴趣区域进行观察。
可以使用不同的放大倍数和透射电子干涉仪等设备来进一步细分样品，探寻内部结构和成分。
观察过程中，可以使用仪器自带的捕捉功能，记录感兴趣区域的图像和视频。
5. 数据处理和分析观察完成后，可以进行数据处理和分析。
透射电子显微镜通常配备了一些图像处理工具，可以进行图像的增强、滤波等操作。
此外，还可以使用电子衍射、原子能谱等技术，对样品进行更深入的分析。
通过数据处理和分析，可以得到关于样品结构、成分和性质的详细信息。
电子显微镜S-3000N操作手册SEM开机请依照下列程序开启电子枪体及操作系统，我们可由以下整理齐全的开机程序来进行开机。
(1) 开起冷却循环水，确认水流量设定在1至1.5公升/分钟的流量，水流量计在电子枪体之左侧。
(2) 打开NFB(在配电盘上)主电源开关。
(3) 打开EVAC POWER真空系统电源开关，打开后RP会开始运转，真空操作面板上的LOW指示灯及WAIT指示灯会亮。
(4) 将真空控制板上的EVAC/AIR按键，押至EVAC位置。
NOTICE：大概约20分钟左右WARM UP灯会熄灭，自动真空系统启动，抽至高真空时HIGH的指示灯会亮。
(5) 将DISPLAY POWER开关打开。
(6) PC进入操作系统。
(7) 上步骤(6)做完之后，下一步会进入user name及Password，输入正确的使用者名称及密码注册后，随及进入操作画面。
使用者名称：PC-SEM密码：没有设定user name和passward设完成后将OK按下即可进入(请不要设定Administrator的密码)。
SEM样品置换(1)请确认HV是否关掉，若无将HV OFF。
在取出样品之前样品轴五轴要归位(Tilt:0,Z轴:白点对白点,X轴:30,Y轴:20,Rotation:随意)(2)在关掉高压等待5-10分钟之后,将真空控制板上EVAC/AIR按键， AIR，此时LOW的指示灯亮，真空室内进入空气，样品室将会破真空。
(3) 等待2-3分钟,样品台与样品室有明显缝隙后,顺着样品台轨慢慢轻柔的将样品座拉出(在等待时间内,请不要用力向外拉样品台)。
(4) 将样品放置于样品座上面顺时针旋紧至固定牢靠,使样品的上表面与标尺的中间刻线齐平,后把样品轻轻的放入样品台,使样品固定环的上表面与样品固定槽座的上表面齐平。
请再此确认样品轴五轴归位.(5) 将放置好样品的样品台，轻轻推回主体之样品室内，用手推样品台,使样品台与样品室门压在一齐.后将EVAC/AIR之开关切至EVAC,直到机台后马达声响起后,把手松开。
