电子衍射及应用
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电子行业电子衍射原理概述引言电子衍射是一种重要的材料表征技术,广泛应用于电子行业中。
通过电子衍射技术,可以观察材料的晶体结构和微观缺陷,从而推断材料的性质和性能。
本文将对电子衍射的原理进行概述,包括衍射现象的产生机制、衍射仪器的构成和工作原理,以及常用的电子衍射方法和应用。
电子衍射的产生机制当高速电子束穿过物质时,会与物质的原子或晶体结构相互作用。
根据量子力学的波粒二象性,电子可以被视为波动粒子,因此在与物质相互作用时会出现衍射现象。
电子在物质中的相互作用可以通过薛定谔方程和布洛赫定理进行描述。
根据薛定谔方程和布洛赫定理,电子的波函数可以用平面波展开。
当电子束与物质相互作用时,电子束的波函数会发生干涉,从而产生衍射图样。
根据耗散和干涉的衍射理论,可以计算出电子束的衍射图样,进而推断物质的晶体结构和缺陷。
电子衍射仪器的构成和工作原理电子衍射仪器主要由电子源、电子透镜、样品台和衍射探测器组成。
其中,电子源可以是速度较高的电子枪或场发射电子源,用于产生高速的电子束。
电子透镜则用于聚焦和控制电子束的尺寸。
样品台用于固定待测的样品,并且可以进行样品的旋转和倾斜,以便于观察不同角度下的衍射图样。
衍射探测器用于测量电子衍射的强度和位置。
电子衍射仪器的工作原理主要包括以下几个步骤:首先,通过电子源产生高速的电子束。
然后,通过电子透镜将电子束聚焦到样品表面。
接下来,电子束与样品相互作用,产生衍射现象。
最后,通过衍射探测器测量电子衍射的强度和位置。
常用的电子衍射方法高分辨透射电子显微镜(HRTEM)高分辨透射电子显微镜(High Resolution Transmission Electron Microscopy,HRTEM)是一种常用的电子衍射方法。
它通过将电子束透射到样品中,利用电子衍射图样的信息来推断样品的晶体结构和缺陷。
HRTEM具有高分辨率和高灵敏度的优点,可以观察到纳米级别的晶体结构和缺陷,对材料的性质和性能研究具有重要意义。
电子衍射仪的使用方法随着科技的进步,电子衍射仪在材料科学、生物学等领域的研究中起到了重要作用。
电子衍射仪可以通过衍射现象来分析物质的晶体结构和电子结构,进而研究物质的性质和特性。
本文将介绍电子衍射仪的基本原理和使用方法。
一、电子衍射仪的基本原理电子衍射仪的基本原理与光学衍射仪有些类似,但其使用的是电子束而非光线。
电子束通过物质时,会受到物质的散射和衍射作用。
散射是电子在物质中的随机扩散,而衍射是电子在物质晶格中因相干散射而产生的特殊强度分布。
通过分析电子束的衍射图样,可以确定物质的晶体结构和晶胞参数。
电子衍射仪由电子枪、电子透镜、样品台、探测器等组成。
电子枪产生高速电子束,电子透镜用于聚焦电子束,样品台用来固定待测物质,探测器则用于记录衍射图样。
二、1. 样品准备在使用电子衍射仪之前,首先需要准备好待测物质的样品。
样品通常是块状或粉末状的晶体。
对于块状样品,需要对其进行打磨和抛光,以减小表面的不均匀性,保证电子束的顺利通过。
对于粉末样品,需要将其均匀散布在载玻片上。
2. 调整仪器参数在进行实验之前,需要根据样品的特性和研究目的来调整仪器的参数。
主要包括电子束的能量、聚焦度、透镜电压等。
通过调整这些参数,可以获得清晰的衍射图样。
3. 进行衍射实验将调整好的样品放置在样品台上,并将电子束对准样品,使其垂直照射。
然后,通过控制电子束的扫描方式来获取衍射图样。
通常,可以采用逐点扫描或线扫描的方式。
扫描过程中,探测器将记录下所得的强度分布。
4. 数据处理和分析获得衍射图样后,需要进行数据处理和分析。
首先,需要将图样进行背景校正,去除杂散信号。
然后,使用适当的衍射数据分析软件,对图样进行解析,并得到物质的晶体结构和晶胞参数。
5. 结果解释和讨论最后,根据衍射实验的结果,对物质的晶体结构和晶胞参数进行解释和讨论。
可以比较实验结果和已知的理论模型进行验证,或与其他实验数据进行对比。
三、电子衍射仪的应用领域电子衍射仪在材料科学、生物学等领域广泛应用。
对EBSD的理解及应用EBSD是电子背散射衍射技术(Electron Backscatter Diffraction)的缩写,是一种常用于材料科学和工程领域的表征方法。
其原理是利用电子束经过材料后,被背散射散射回来的电子与入射电子发生衍射现象,通过测量衍射图样的形态和强度来获取材料的晶体结构、取向以及晶界等信息。
EBSD的应用领域广泛,例如:1. 材料学研究:EBSD可以用来研究材料的晶体结构、晶体取向以及晶体缺陷等信息,从而增加对材料的认识。
例如,可以用EBSD来研究合金材料的晶粒取向与机械性能之间的关系,优化材料的制备工艺。
2. 金属学研究:EBSD可用于研究金属材料的晶体取向与力学行为之间的关系。
通过观察材料中晶体的取向分布,可以了解材料的力学性能、塑性变形机制等。
此外,还可以用EBSD分析区域选区电子衍射(Selected Area Electron Diffraction)数据,对金属晶体的三维取向进行建模和姿态分析。
3. 薄膜和界面研究:EBSD在研究薄膜和界面的晶体结构、晶界取向和位错密度等方面具有广泛的应用。
通过EBSD可以获得薄膜/基底的晶体取向分布、晶界的取向关系等信息,进一步了解薄膜的生长机制和界面的结构演化。
4. 小晶粒材料研究:对于小晶粒材料,传统的衍射方法往往由于粒子尺寸太小而无法获取充分的衍射信息。
而EBSD则可以通过对大量小尺寸晶体的衍射数据进行统计,还原出材料的晶体结构和取向信息。
这对于研究纳米材料、纳米晶、亚微米晶等具有重要意义。
5. 力学性能研究:EBSD可以用来研究材料的力学性能,如塑性变形、屈服行为和断裂特性等。
通过EBSD可以获得材料中晶体取向的信息,从而解析材料的力学行为与晶体结构之间的关系。
除了上述应用领域外,EBSD在材料科学与工程的其他领域也有广泛的应用,例如焊接等工艺的优化、热处理过程的研究、高温合金的应力分析等。
总结起来,EBSD是一种非常强大的材料表征方法,可以通过分析衍射图样的形态和强度,获得材料的晶体结构、晶体取向、位错密度等信息。
理解电子衍射原理及其在材料分析中的应用引言:材料科学与工程领域中,电子衍射技术是一种重要的分析手段。
通过电子衍射,我们可以了解材料的晶体结构、晶格常数、晶体缺陷等信息。
本文将从电子衍射的原理入手,探讨其在材料分析中的应用。
一、电子衍射原理电子衍射原理是基于波粒二象性理论的,即电子既具有粒子性又具有波动性。
当高速电子束通过物质时,会与物质中的原子发生相互作用,进而发生衍射现象。
电子衍射的原理与光学衍射类似,但由于电子的波长远小于光波长,电子衍射可以提供更高的分辨率。
二、电子衍射技术的应用1. 晶体结构分析电子衍射可以通过测量衍射斑图来确定材料的晶体结构。
在电子衍射中,衍射斑图是由电子束与晶体中的原子相互作用形成的。
通过解析衍射斑图,我们可以得到晶体的晶格常数、晶体的对称性、晶体的晶体缺陷等信息。
2. 相变研究相变是材料研究中一个重要的课题。
电子衍射可以用来研究材料的相变过程。
通过观察相变过程中电子衍射斑图的变化,我们可以了解材料的相变机制、相变温度等信息。
3. 晶体缺陷分析晶体缺陷是晶体中存在的一些非理想性质,如晶格缺陷、晶体畸变等。
电子衍射技术可以用来分析晶体的缺陷结构。
通过观察电子衍射斑图中的强度变化和衍射斑的形状,我们可以推断晶体中的缺陷类型和缺陷密度。
4. 薄膜分析薄膜是材料科学中常见的一种材料形态。
电子衍射可以用来分析薄膜的晶体结构和晶格常数。
通过测量电子衍射斑图的形状和强度分布,我们可以了解薄膜的晶体有序性和晶格畸变情况。
5. 纳米材料分析纳米材料是近年来材料科学中的研究热点。
电子衍射技术可以用来研究纳米材料的晶体结构和晶格畸变。
由于纳米材料的尺寸较小,传统的X射线衍射技术难以应用,而电子衍射技术可以提供更高的分辨率。
结论:电子衍射是一种重要的材料分析技术,可以用来研究材料的晶体结构、晶体缺陷、相变过程等。
通过电子衍射技术,我们可以了解材料的微观结构和性质,为材料的设计和应用提供重要的理论依据。
利用电子衍射技术研究晶体结构的方法与应用晶体结构的研究对于材料科学和化学的发展具有重要意义。
而近年来,电子衍射技术成为了研究晶体结构的重要手段。
本文将介绍电子衍射技术的原理、方法以及在晶体结构研究中的应用。
电子衍射技术是通过电子束与物质相互作用,产生衍射图样来研究物质结构的一种方法。
其原理类似于X射线衍射技术,但由于电子的波长较短,可以提供更高的分辨率,对于晶体结构的研究具有更大的优势。
电子衍射技术主要包括透射电子衍射(Transmission Electron Diffraction,TED)和选区电子衍射(Selected Area Electron Diffraction,SAED)两种方法。
在透射电子衍射中,电子束穿过样品后形成衍射图样,这些图样可以通过电子透射显微镜观察到。
通过衍射图样的解析,可以得到晶体的倒易空间信息,进而确定晶体的结构。
透射电子衍射的优点在于可以对单个晶体进行分析,并且可以使用单晶样品。
然而,该方法对样品制备和晶体定位要求较高。
选区电子衍射方法则通过在透射电子显微镜的样品台上选择一个小区域,使之仅包含感兴趣的某一晶体或晶相。
然后,通过旋转样品台,观察在不同角度下的衍射图样变化,从而获取晶体的信息。
选区电子衍射方法适用于非晶态物质或多晶样品,且对样品制备和定位要求相对较低。
电子衍射技术在晶体结构研究中有着广泛的应用。
首先,它可以用于确定晶体的结构类型。
以金属为例,不同金属的晶格结构常常呈现出不同的衍射图样,通过比对实测衍射图样和标准衍射图样,可以准确地确定晶体结构类型。
此外,电子衍射还可以用于确认聚合物晶体的性质以及生物大分子的结构等。
另外,电子衍射技术还可以用于研究晶体的晶格缺陷和界面结构。
由于电子衍射的高分辨率特性,可以精细地观察和分析晶格缺陷的性质和分布情况。
通过电子衍射技术,可以得到晶体内部的原子位置以及晶体和非晶态区域的界面结构信息,为材料科学和表界面化学提供了重要的实验手段。
晶型测定方法学研究引言:晶体是固态物质中最有序的结构形式之一,其晶型具有重要的物理、化学和生物学意义。
因此,准确测定晶体的晶型对于科学研究和工程应用具有重要意义。
本文将介绍几种常用的晶型测定方法,并探讨其原理和应用。
一、X射线衍射法X射线衍射法是最常用的晶型测定方法之一。
它基于晶体对X射线的衍射现象,通过测量衍射角度和强度,可以得到晶体的晶格参数和晶型信息。
X射线衍射法主要分为粉末衍射和单晶衍射两种。
粉末衍射适用于无定形样品或粉末样品,而单晶衍射适用于具有较大晶体的样品。
二、电子衍射法电子衍射法是一种利用电子束和晶体进行相互作用的方法,通过测量衍射斑的位置和强度,可以得到晶体的晶格常数和晶型信息。
电子衍射法通常使用透射电子显微镜(TEM)或场发射电子显微镜(FESEM)进行实验。
相比于X射线衍射法,电子衍射法可以获得更高的分辨率和更详细的晶体结构信息。
三、中子衍射法中子衍射法是一种利用中子束和晶体进行相互作用的方法,通过测量衍射斑的位置和强度,可以得到晶体的晶格参数和晶型信息。
中子衍射法的特点是对轻元素和磁性材料具有较好的敏感性,因此在某些特殊情况下,中子衍射法比X射线衍射法和电子衍射法更适用。
四、原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)原子力显微镜和扫描电子显微镜是两种常用的表面形貌观察方法,它们可以通过扫描样品表面,获得样品的形貌和晶体结构信息。
AFM主要用于测量样品的三维形貌,可以实现纳米级的分辨率。
而SEM则主要用于测量样品的二维形貌,可以实现亚纳米级的分辨率。
结论:晶型测定方法学研究是晶体学领域中的重要研究内容。
本文介绍了几种常用的晶型测定方法,包括X射线衍射法、电子衍射法、中子衍射法以及原子力显微镜和扫描电子显微镜。
这些方法各有特点,可以根据不同的需求选择合适的方法进行晶型测定。
通过这些方法,我们可以深入了解晶体的结构和性质,为科学研究和工程应用提供有力支持。
电子衍射技术在物理实验中的应用与数据解析方法电子衍射技术是物理实验室中常用的一项技术,它能够帮助研究者观察和解析材料的结构信息。
本文将介绍电子衍射技术在物理实验中的应用以及数据解析方法。
一、电子衍射技术的应用电子衍射技术是一种基于电子与物质相互作用的实验方法,通过将电子束照射到样品上,利用电子与样品内部的原子和分子发生相互作用后的衍射现象,来获取样品的结构信息。
电子衍射技术广泛应用于材料科学、纳米技术、固体物理等领域。
在材料科学中,电子衍射技术被用于研究材料的晶体结构。
通过将单晶样品置于电子束的照射下,根据衍射图样的形状和强度分布,可以确定晶格常数、晶体结构和晶体定向等信息。
这个过程被称为电子衍射。
在纳米技术领域,电子衍射技术也被广泛应用于纳米颗粒的表征与分析。
纳米颗粒由于尺寸小于波长,经常表现出不同于大尺寸材料的特殊性质。
通过电子衍射技术,可以研究纳米颗粒的晶体结构、晶粒尺寸以及晶体缺陷等信息,帮助科学家更好地理解与调控纳米材料的性质。
在固体物理中,电子衍射技术有助于研究材料的缺陷结构和电子态,对于揭示材料的本质特性和物理性质有着重要意义。
通过电子衍射技术,可以观察到样品中的点阵缺陷和界面结构,以及电子的布拉格散射和波长红移等现象,从而推断材料的电子态。
二、电子衍射数据的解析方法电子衍射技术获得的数据通常呈现为一幅幅衍射图样。
为了从这些图样中获得有用的信息,研究者需要进行数据处理和解析。
首先,对于衍射图样的形状和强度分布,研究者需要进行初步的观察和分析。
他们通常会比较实验获得的衍射图样与已有的标准衍射图样进行对比,以确定晶体结构或纳米颗粒的类型。
然后,他们会使用衍射数据的解析方法来进一步确定材料的结构信息。
其中最常用的方法是拟合技术。
通过将衍射图样与数学模型进行拟合,研究者可以确定晶格常数、晶体定向、晶粒尺寸等信息。
此外,逆空间重构方法也是解析电子衍射数据的重要手段之一。
逆空间重构方法通过建立衍射数据与样品结构之间的数学关系,可以将衍射数据反推回样品的结构信息,包括晶体的结构和缺陷等。
电子衍射实验导言:电子衍射实验是一项经典的物理实验,它通过通过高速电子的衍射现象来研究物质的粒子性质。
本文将详细介绍电子衍射实验的原理、实验准备和过程,并讨论其在实际应用中的其他专业性角度。
一、原理解析:1. 单缝衍射原理:根据波粒二象性原理,粒子也能表现出波动性。
当电子通过一个狭缝时,就像波一样会发生衍射。
这一现象被称为单缝衍射,其原理类似于光的衍射。
2. 双缝干涉原理:当电子通过两个狭缝时,它们会形成干涉图案。
这一现象被称为双缝干涉,通过干涉图案我们可以了解电子的波动性质。
3. 德布罗意关系:根据德布罗意关系,电子的波长可以由其动量和质量计算而得。
波长越小,衍射现象越明显。
二、实验准备:1. 光路准备:为了产生出足够的直线电子流,我们需要将电子加速器与狭缝和探测器相连接。
狭缝用于产生单缝衍射或双缝干涉的实验装置。
探测器用于检测电子的位置和强度。
2. 实验装置:实验装置应包括一个高速电子加速器,以及具有单缝或双缝的狭缝装置。
通常,狭缝与探测器之间还会加入电子透镜和偏转电场,以调控电子束在实验中的走向和位置。
三、实验步骤:1. 调整实验装置:首先,我们需要调整电子加速器,确保电子束稳定直线且具有足够高的速度。
然后,调整狭缝和探测器的位置,使其在实验装置中合适而稳定。
2. 单缝衍射实验:将实验装置调整至单缝衍射模式,保持电子加速器和狭缝之间的距离一定,并记录探测器上的衍射图案。
通过衍射图案,我们可以观察到电子的波动性以及电子波长的大小。
3. 双缝干涉实验:将实验装置调整至双缝干涉模式。
确保狭缝之间的距离与电子波长相匹配,使得双缝干涉效应最为明显。
记录探测器上的干涉图案,通过干涉图案,我们可以观察到电子的干涉现象。
四、实验应用:1. 量子力学研究:电子衍射实验是研究量子力学的重要实验之一。
通过电子的波动性和干涉现象,我们可以了解到电子的粒子性质。
这对于研究电子行为和物质结构非常重要。
2. 材料科学:电子衍射实验在材料科学中有着广泛的应用。
电子衍射技术在材料结构分析中的应用导言:材料科学是一门研究材料组成、结构和性能的交叉学科。
在材料科学中,了解和分析材料的结构对于开发新材料和改善现有材料的特性至关重要。
电子衍射技术是一种广泛应用于材料结构分析的重要工具,它通过研究材料中电子的散射模式来揭示材料的晶体结构和缺陷。
一、电子衍射技术的原理电子衍射技术基于电子的波粒二象性,利用电子与物质相互作用的特性进行分析。
当高能电子束通过材料时,与材料中的原子发生散射,形成衍射斑。
通过收集和分析衍射斑的形状和分布,可以推断出材料的晶格结构和缺陷情况。
二、电子衍射技术在晶体学中的应用晶体学是研究晶体结构、晶体缺陷和晶体生长等问题的学科。
电子衍射技术在晶体学中有广泛的应用。
通过电子衍射技术,可以确定晶体的晶胞参数、晶格结构、原子排列和晶体缺陷等信息。
这些信息对于了解晶体的性质和行为非常重要,有助于研究材料的物理、化学和力学性质。
三、电子衍射技术在材料缺陷分析中的应用材料中的缺陷会影响材料的性能和行为。
电子衍射技术可以用于分析和表征材料中的缺陷。
通过研究电子衍射图样中的反射和散射斑的变化,可以确定材料中的晶体缺陷类型、缺陷密度和缺陷分布等。
这些信息对于材料的改性和优化非常重要。
四、电子衍射技术在纳米材料研究中的应用纳米材料是一种具有特殊结构和性能的材料,其尺寸在纳米尺度范围内。
电子衍射技术在纳米材料研究中有很大的应用前景。
通过电子衍射技术,可以观察和研究纳米材料中的晶体结构和相变过程。
此外,电子衍射技术还可以用于纳米材料的表面形貌分析和晶体生长过程研究。
五、电子衍射技术在材料组分分析中的应用材料的组分分析对于了解和控制材料的性能至关重要。
电子衍射技术可以通过分析衍射斑的位置和强度来确定材料中的相组成和比例。
这对于研究复杂的多相材料和合金材料具有重要意义,有助于理解材料的相变行为和材料的性能。
结论:电子衍射技术是一种重要的材料结构分析技术,其应用广泛且多样化。
EBSD技术的原理和应用1. EBSD技术的概述EBSD(Electron Backscatter Diffraction)技术是一种基于电子背散射衍射的显微学技术,主要应用于材料科学领域。
通过分析样品上的电子背散射模式,可以获取关于材料晶体结构、晶粒取向和晶界等信息。
EBSD技术在材料研究、金属工艺和晶体学等领域都有广泛的应用。
2. EBSD技术的原理EBSD技术的原理基于电子的背散射衍射现象。
当电子束在样品表面与晶体结构相互作用时,背散射电子会根据样品的晶格结构在不同的方向上发生衍射。
通过检测这些衍射电子的角度和能量信息,可以得到关于晶体结构的信息。
EBSD技术通常使用电子衍射仪来收集衍射电子的信息。
电子束投射到样品表面后,背散射电子被一个特定的探测器所收集。
探测器会测量衍射电子的入射角度和散射角度,从而计算出样品的晶体结构和晶粒取向。
3. EBSD技术的应用EBSD技术在材料科学领域有许多应用。
下面列举了几个常见的应用领域:3.1 材料晶体学研究EBSD技术可以用于材料的晶体学研究。
通过对材料样品的不同区域进行EBSD 扫描,可以获取材料的晶粒取向和晶界信息。
这些信息对于理解材料的力学性能、相变行为和晶体生长机制等方面非常有价值。
3.2 金属工艺EBSD技术在金属工艺中有广泛的应用。
通过对金属材料的EBSD分析,可以评估材料的晶粒取向分布和晶界特征。
这对于优化金属加工工艺、改进材料强度和延展性等方面非常重要。
3.3 相变研究EBSD技术可以用于研究材料中的相变过程。
通过监测晶体结构的变化和晶界的演化,可以获得关于相变动力学和相界面迁移的信息。
这对于材料相变行为的理解和相变控制有着重要的作用。
3.4 器件失效分析EBSD技术可以用于器件失效分析。
通过对失效的器件进行EBSD扫描,可以确定晶体结构的缺陷和晶界的应变。
这对于确定器件失效的原因和改进器件设计有很大帮助。
4. 总结EBSD技术是一种基于电子背散射衍射的显微学技术,可以用于分析材料的晶体结构、晶粒取向和晶界等信息。
电子衍射及其应用
主要内容
概述
电子散射
电子衍射
透射电镜中衍射公式 选区电子衍射
单晶电子衍射花样标定 衍射花样的复杂性
电子衍射简单应用
概述
1927年,戴维逊成功进行了晶体的电子衍射实验;
这里的电子衍射指的是高能电子衍射,其衍射几何遵从Bragg 方程或衍射矢量方程(Ewald图解);
物质对电子的散射主要是核散射,散射作用很强,因而电子穿透物质的能力较弱,电子衍射只适合于薄样品;
透射电镜上可实现选取电子衍射,可使样品的结构分析与形貌观察结合起来;
当试样为多晶时,衍射花样为同心圆环;当样品为薄单晶时,衍射花样为规则分布的斑点;当样品较厚时,衍射中出现线状花样。
电子散射
射主要是源于库仑相互作
用,其散射可分为:
弹性散射:原子核对电子的
散射,尤其是在小角度散射
范围的散射,散射损失能量
可忽略不记。
非弹性散射:当入射电子与
原子中电子的作用称为主要
过程时,由于作用粒子的质
量相同,散射后电子的能量
发射显著变化,这种过程称
为非弹性散射。
晶形尺寸效应
倒易点阵
透射电镜中电子衍射
在透射电镜中:tg2θ= r/f 即r = f ⋅tg2θ≈f ⋅2θ=f ⋅2sin θ所以
r = f ⋅λ/d hkl
在荧光屏上观察到的衍射斑距透射斑的距离为:
R = M i ⋅M p ⋅f ⋅λ/d hkl
所以
Rd hkl = L λ
L λ是相机常数,L 为相对相机长度。
透射电镜中电子衍射基本公式
若将衍射矢量方程代入R = L λ/d hkl
可得到
hkl
g L R r r ⋅=λ透射电镜中电子衍射基本公式
所以,电子衍射花样是倒易截面的放大。
结构因子:X 射线衍射结构因子表达形式完全相同,只
是其中的f j 为样品中原子对电子的散射因子。
原子对电子
的散射是核散射,所以散射强,原子对电子的散射因子
比原子对x 射线的散射因子大一万倍。
电子衍射结构因子和系统消光
∑++π==n j j j j j g lz ky hx i f F 1
)]
(2exp[ 系统消光:电子衍射的系统消光规律也与x 射线衍射消光
规律相同。
电子衍射花样的标定
零层倒易截面,是一个晶带的倒易图像,如图。
所以从衍射花样中可得到一个晶带的信息。
电子衍射花样的标定
已知物相前提下的标定
i.查d值表法:利用相机常数先计算各衍射斑对应的晶面间
距,再利用PDF卡片查相应的晶面指数类型,最后用尝试校核法确定晶面指数。
ii.对立方晶系,可利用R2比序列或查倒易面特征值表法进行标定。
iii.利用计算机编程进行标定。
未知物相条件下的标定(这是物相测定或鉴定的问题)利用系列倾转尽可能得到多个衍射谱,尤其是低指数晶带衍射谱,先假设为某一种物相分别进行标定,再综合考虑各谱之间的角度关系,能满足自恰者,标定为正确。
举例:
Al 单晶衍射花样,L λ=1.521mmnm 。
测量:R 1=6.5mm, R 2=16.4mm, R 3=16.8mm, φ1=82°
电子衍射花样的标定
电子衍射花样的标定
举例:钢经淬火-回火处理后得到的板条马氏体及其间残余奥氏体的选取电子衍射花样。
其中的一套斑点属于马氏体,测量:
R 1=10.1mm, R
2
=17.5mm, R
1
与R
2
间夹角为107°
由R
2/R
1
=1.733及其夹角,查表或图(体心立方)可标定为[113]晶带。
选取电子衍射花样中另一套斑点是奥氏体产生的。
如图,测量:R 1=10.0mm, R 2=16.3mm, R 1与R 2间夹角为90°
由R 2/R 1=16.3及其夹角,查表或图(面心立方)可标定为[112]晶带。
电子衍射花样的标定
面心立方晶体系列倾转电子衍射图
电子束入射方向与衍射花样晶带轴的关系
电子衍射花样标定的180°不唯一性
高阶Laue带
高阶Laue带
菊池衍射
菊池衍射
二次衍射
二次衍射:入射电子穿过晶体样品时,产生的衍射较强,它们常常可以作为新的入射束在晶体中再次产生衍射。
这种再次衍射:
1.有的与一次衍射束重合,使一次衍射束强度出现反常;
2.有的则出现多余衍射斑。
二次衍射一般发生在一下三种场合:
1.两相晶体间,如基体与析出物;
2.同结构的不同方位晶体间,如孪晶界、反相畴界附近;
3.同一晶体内部,如在消光位置出现额外衍射斑。
二次衍射(出现在禁止位置)
二次衍射(两相间)
二次衍射(两相间)
二次衍射(两相间)
二次衍射(反相畴界)
两相的晶体学取向关系
在喷射沉积Al-Fe-
V-S 合金中,还可观
察到少量的形状近似
正六角形的粗大相。
EDS 分析表明,这种
六角形状的相成分为
Al 14.2(Fe,V)3.0Si 1.3
六方h-Al(Fe,V)Si 相棱柱面附着立方α-Al(Fe,V)Si
两相的晶体学取向关系
六方相和立方相复
合电子衍射谱
[0001]
hex
//[001]
bcc;
[11-26]
hex
//[011]
bcc
取向关系为:
[0001]
hex
//[001]
bcc
,
(1-100)
hex
//(100)
bcc 两相的晶体学取向关系
孪晶体衍射
BF TEM images and the corresponding [110] SAD patterns of
Al ±1.9Cu ±0.3Mg ±0.2Ag alloy aged at 180°C for:
(a) 15 s; (b) 2 min; (c) 5 min; (d) 2 h; (e) 10 h.析出物的衍射
析出物的晶形效应。