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垂直布里奇曼法生长CdZnTe晶体时固液界面形状的控制

垂直布里奇曼法生长CdZnTe晶体时固液界面形状的控制
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1-2 常见的晶体结构及其原胞、晶胞

§1-2 常见的晶体结构及其原胞、晶胞 1) 简单晶体的简单立方(simple cubic, sc) 它所构成的晶格为布喇菲格子。例如氧、硫固体。基元为单一原子结构的晶体叫简单晶体。 其特点有: 三个基矢互相垂直(),重复间距相等,为a, 亦称晶格常数。其晶胞=原胞;体积= ;配位数(第一近邻数) =6。(见图1-7) 图1-7简单立方堆积与简单立方结构单元 2) 简单晶体的体心立方( body-centered cubic, bcc ) , 例如,Li,K, Na,Rb,Cs,αFe,Cr,Mo,W,Ta,Ba等。其特点有:晶胞基矢, 并且,其惯用原胞基矢由从一顶点指向另外三个体心点的矢量构成:(见图1-9 b) (1-2) 其体积为;配位数=8;(见图1-8)

图1-8体心立方堆积与体心立方结构单元 图1-9简单立方晶胞(a)与体心立方晶胞、惯用原胞(b) 3) 简单晶体的面心立方( face-centered cubic, fcc ) , 例如,Cu,Ag, Au,Ni,Pd,Pt,Ne, Ar, Xe, Rn, Ca, Sr, Al等。晶胞基矢, 并且每面中心有一格点, 其原胞基矢由从一顶点指向另外三个面心点的矢量构成(见图1-10 b): (1-3)

其体积=;配位数=12。,(见图1-10) 图1-10面心立方结构(晶胞)(a)与面心立方惯用原胞(b) 4) NaCl结构(Sodium Chloride structure),复式面心立方(互为fcc),配位数=6(图1-11 a)。 表1-1 NaCl结构晶体的常数 5) CsCl结构(Cesuim Chloride structure),复式简单立方(互为sc),配位数=8(图1-11 b)。 表1-2 CsCl结构晶体的常数

二晶体结构缺陷

1、说明下列符号的含义: V Na,V Na’,V Cl?,.(V Na’V Cl?),CaK?,CaCa,Cai?? 2、写出下列缺陷反应式: (1)NaCl溶入CaCl2中形成空位型固溶体; (2)CaCl2溶人NaC1中形成空位型固溶体; (3)NaCl形成肖脱基缺陷; (4)AgI形成弗仑克尔缺陷(Ag+进入间隙)。 3、MgO的密度是3.58克/厘米3,其晶格参数是0.42nm,计算单位晶胞MgO的肖脱基缺陷数。 4、(a)MgO晶体中,肖脱基缺陷的生成能为6eV,计算在25℃和1600℃时热缺陷的浓度。 (b)如果MgO晶体中,含有百万分之一摩尔的A12O3杂质,则在1600℃时,MgO晶体中是热缺陷占优势还是杂质缺陷占优势,说明原因。 5、MgO晶体的肖特基缺陷生成能为84kJ/mol,计算该晶体在1000K和1500K的缺陷浓度。 6、非化学计量化合物FexO中,Fe3+/Fe2+=0.1,求Fe x O中的空位浓度及x值。 7、非化学计量缺陷的浓度与周围气氛的性质、压力大小相关,如果增大周围氧气的分压,非化学计量化合物Fe1-X O及Zn1+X O的密度将发生怎么样的变化?增大还是减小?为什么? 8、对于刃位错和螺位错,区别其位错线方向、柏氏矢量和位错运动方向的特点。 9、图2.1是晶体二维图形,内含有一个正刃位错和一个负刃位错。 (a)围绕两个位错柏格斯回路,最后得柏格斯矢量若干? (b)围绕每个位错分别作柏氏回路,其结果又怎样? 10、有两个相同符号的刃位错,在同一滑移面上相遇,它们将是排斥还是吸引? 11、晶界对位错的运动将发生怎么样的影响?能预计吗? 12、晶界有小角度晶界与大角度晶界之分,大角度晶界能用位错的阵列来描述吗? 13、试述影响置换型固溶体的固溶度的条件。

晶体结构与晶体中的缺陷

第二章晶体结构与晶体中的缺陷 内容提要:通过讨论有代表性的氧化物、化合物和硅酸盐晶体结构, 用以掌握与本专业有关的各种晶体结构类型。介绍了实际晶体中点缺陷分 类;缺陷符号和反应平衡。固熔体分类和各类固熔体、非化学计量化学化 合物的形成条件。简述了刃位错和螺位错。 硅酸盐晶体结构是按晶体中硅氧四面体在空间的排列方式为孤岛状、组群状、链状、层装和架状五类。这五类的[SiO4]四面体中,桥氧的数目也依次由0增加到4, 非桥氧数由4减至0。硅离子是高点价低配位的阳离子。因此在硅酸盐晶体中,[SiO4] 只能以共顶方式相连,而不能以共棱或共面方式相连。表2-1列出硅酸盐晶体结构类型及实例。 表2-1 Array硅酸 盐晶 体的 结构 类型

真实晶体在高于0K的任何温度下,都或多或少地存在着对理想晶体结构的偏离,即存在着结构缺陷。晶体中的结构缺陷有点缺陷、线缺陷、面缺陷和复合缺陷之分,在无机材料中最基本和最重要的是点缺陷。 点缺陷根据产生缺陷的原因分类,可分为下列三类: (1)热缺陷(又称本征缺陷) 热缺陷有弗仑克儿缺陷和肖特基缺陷两种基本形式。 弗仑克儿缺陷是指当晶格热震动时,一些能量足够大的原子离开平衡位置而挤到晶格点的间隙中,形成间隙原子,而原来位置上形成空位,这种缺陷称为弗仑克儿缺陷。 肖特基缺陷是指如果正常格点上原子,热起伏后获得能量离开平衡位置,跃迁到晶体的表面,而在原正常格点上留下空位,这种缺陷称为肖特基缺陷。 (2)杂质缺陷(非本征缺陷) (3)非化学计量化学化合物 为了便于讨论缺陷反应,目前广泛采用克罗格-明克(Kroger-Vink)的点缺陷符号(见表2-2)。 表2-2 Kroger-Vink缺陷符号(以M2+X2-为例)

晶体结构和晶体缺陷

第一部分晶体结构和晶体缺陷 1.原子的负电性的定义和物理意义是什么? 2.共价键的定义和特点是什么? 3.金刚石结构为什么要提出杂化轨道的概念? 4.V、VI、VII族元素仅靠共价键能否形成三维晶体? 5.晶体结构,空间点阵,基元,B格子、单式格子和复式格子之间的关系和区别。 6.W-S元胞的主要优点,缺点各是什么? 7.配位数的定义是什么? 8.晶体中有哪几种密堆积,密堆积的配位数是多少? 9.晶向指数,晶面指数是如何定义的? 10.点对称操作的基本操作是哪几个? 11.群的定义是什么?讨论晶体结构时引入群的目的是什么? 12.晶体结构、B格子、所属群之间的关系如何? 13.七种晶系和十四种B格子是根据什么划分的? 14.肖特基缺陷、费仑克尔缺陷、点缺陷、色心、F心是如何定义的? 15.棱(刃)位错和螺位错分别与位错线的关系如何? 16.位错线的定义和特征如何? 17.影响晶体中杂质替位几率的主要因素有哪些? 18.晶体中原子空位扩散系数D与哪些因素有关? 19.解理面是面指数低的晶面还是面指数高的晶面?为什么? 20.为什么要提出布拉菲格子的概念? 21.对六角晶系的晶面指数和晶向指数使用四指标表示有什么利弊? 第二部分倒格子 1.倒格子基矢是如何定义的? 2. 正、倒格子之间有哪些关系? 3.原子散射因子是如何表示的,它的物理意义如何? 4. 几何结构因子是如何表示的,它的物理意义如何? 5. 几何结构因子S h与哪些元素有关? 6.衍射极大的必要条件如何? 7.什么叫消光条件? 8.反射球是在哪个空间画的,反射球能起到什么作用,如何画反射球? 9.常用的X光衍射方法有哪几种,各有什么基本特点? 10.为什么要使用“倒空间”的概念?

晶体结构及缺陷

晶体结构与晶体中的缺陷 17、Li 2O 的结构是O2-作面心立方堆积,Li +占据所有四面体空隙位置,氧离子半径为0.132nm 。求: (1)计算负离子彼此接触时,四面体空隙所能容纳的最大阳离子半径,并与书末附表Li +半径比较,说明此时O 2-能否互相接触。 (2)根据离子半径数据求晶胞参数。 (3)求Li 2O 的密度。 解:(1)如图2-2是一个四面体空隙,O 为四面体中心位置。 -++=r r AO ,-=r BC 2, -=r CE 3, 3/323/2-==r CE CG 3/62-=r AG , OGC ?∽EFC ?,CF EF CG OG //=,6/6/-=?=r CG CF EF OG 2/6-=-=r OG AG AO ,301.0)12/6(=-=-=--+r r AO r 查表知Li r + +=0.68>0.301,∴O 2-不能互相接触; (2)体对角线=a 3=4(r ++r -),a=4.665;(3)ρ=m/V=1.963g/cm 3 图2-2 四面体空隙 28、下列硅酸盐矿物各属何种结构类型: Mg 2[SiO 4],K[AISi 3O 8],CaMg[Si 2O 6], Mg 3[Si 4O 10](OH)2,Ca 2Al[AlSiO 7]。 解:岛状;架状;单链;层状(复网);组群(双四面体)。 23、石棉矿如透闪石Ca 2Mg 5[Si 4O 11](OH)2具有纤维状结晶习性,而滑石Mg 2[Si 4O 10](OH)2却具有片状结晶习性,试解释之。 解:透闪石双链结构,链内的Si-O 键要比链5的Ca-O 、Mg-O 键强很多,所以很容易沿链间结合力较弱处劈裂成为纤维状;滑石复网层结构,复网层由两个 [SiO4]层和中间的水镁石层结构构成,复网层与复网层之间靠教弱的分之间作用力联系,因分子间力弱,所以易沿分子间力联系处解理成片状。 24、石墨、滑石和高岭石具有层状结构,说明它们结构的区别及由此引起的性质上的差异。

晶体结构缺陷习题答案

第二章晶体结构缺陷 1.(错)位错属于线缺陷,因为它的晶格畸变区是一条几何线。 2.(错)螺型位错的柏氏失量与其位错线垂直,刃型位错的柏氏失量与其位错线是平行。 3. (错)肖特基缺陷是由于外来原子进入晶体而产生的缺陷。 4.(错)弗伦克尔缺陷是由于外来原子进入晶体而产生的缺陷。 二选择题 1.非化学剂量化合物Zn1+x O中存在 A 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 2. 非化学计量化合物UO2+x中存在 C 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 3.非化学剂量化合物TiO2-x中存在 D 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 4.螺型位错的位错线是 A 。 A. 曲线 B. 直线 C. 折线 D. 环形线 5.非化学剂量化合物ZnO1-x中存在 D 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 6. 非化学计量化合物UO2+x中存在 C 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 三、名词解释 1. 弗仑克尔缺陷 原子离开其平衡位置二进入附近的间隙位置,在原来位置上留下空位所形成的缺陷,特点是填隙原子与空位总是成对出现。 2.固溶体: 物种数:凡在固体条件下,一种组分(溶剂)内“溶解”了其它组分(溶质)而形成的单一、均匀的晶态固体称为固溶体。

四、解答题 1.完成下列缺陷方程式,并且写出相应的化学式 (1)NaCl 溶入CaCl 2中形成空位型固溶体; (2)CaCl 2溶人NaC1中形成空位型固溶体; 解:(1)NaCl Na Ca ’+ Cl Cl + V Cl · Ca 1-x Na x Cl 2-x (2)CaCl 2 Ca Na · + 2Cl Cl + V Na ’ Na 1-2x Ca X Cl 2完成下列缺陷方程式,并且写出相应的化学式(6分) (1)M gCl 2固溶在LiCl 晶体中形成填隙型 Li 1-x Mg x Cl 1+x (2) SrO 固溶在Li 2O 晶体中形成空位型 Li 2-2x Sr x O 3.写出下列缺陷反应式 ①.NaCl 形成肖脱基缺陷。 ②.AgI 形成弗伦克尔缺陷(Ag +进入间隙)。 ③KCl 溶入CaCl 2中形成空位型固溶体。 解:1、O→VNa ′+VCl˙ 2、Ag Ag+Vi →A g i ˙+V Ag′ ③ KCl K Ca ’+ Cl Cl + V Cl · Ca 1-x K x Cl 2-x 4 对于MgO 、Al 2O 3和Cr 2O 3,其正、负离子半径比分别为,和。Al 2O 3和Cr 2O 3形成连续固溶体。(4分) (a )这个结果可能吗为什么 (b )试预计,在MgO -Cr 2O 3系统中的固溶度是有限还是很大的为什么 答(a )可能,Al 2O 3和Cr 2O 3的正离子半径之比小于15%。晶体结构又相同。 所以可能 O Li Li O Li O V Sr S SrO +'+??→??. 2)(Cl i Li LiCl Cl Cl Mg S MgCl ++?? →??')(.2

晶体结构及缺陷

晶体结构及缺陷

晶体结构与晶体中的缺陷 17、Li 2O 的结构是O 2-作面心立方堆积,Li +占据所有四面体空隙位置,氧离子半径为0.132nm 。求: (1)计算负离子彼此接触时,四面体空隙所能容纳的最大阳离子半径,并与书末附表Li +半径比较,说明此时O 2-能否互相接触。 (2)根据离子半径数据求晶胞参数。 (3)求Li 2O 的密度。 解:(1)如图2-2是一个四面体空隙,O 为四面体中心位置。 -++=r r AO ,-=r BC 2, -=r CE 3, 3/323/2-==r CE CG 3/62-=r AG , OGC ?∽EFC ?,CF EF CG OG //=, 6/6/-=?=r CG CF EF OG 2/6-=-=r OG AG AO ,301.0)12/6(=-=-=--+r r AO r r +=[(6)1/2/2-1]r-=0.0297nm 或r +=0.132*0.225=0.0297nm 查表知Li r + +=0.068nm>0.0297nm ,∴O 2-不能互相接触; (2)体对角线=a 3=4(r ++r -), a=0.4619nm ;(3) ρ=m/V=1.963g/cm 3 图2-2 四面体空隙

28、下列硅酸盐矿物各属何种结构类型: Mg2[SiO4],K[AISi3O8],CaMg[Si2O6],Mg3[Si4O10](OH)2,Ca2Al[AlSiO7]。 解:岛状;架状;单链;层状(复网);组群(双四面体)。 23、石棉矿如透闪石Ca2Mg5[Si4O11](OH)2具有纤维状结晶习性,而滑石Mg2[Si4O10](OH)2却具有片状结晶习性,试解释之。 解:透闪石双链结构,链内的Si-O键要比链5的Ca-O、Mg-O键强很多,所以很容易沿链间结合力较弱处劈裂成为纤维状;滑石复网层结构,复网层由两个[SiO4]层和中间的水镁石层结构构成,复网层与复网层之间靠教弱的分之间作用力联系,因分子间力弱,所以易沿分子间力联系处解理成片状。 24、石墨、滑石和高岭石具有层状结构,说明它们结构的区别及由此引起的性质上的差异。 解:石墨中同层C原子进行SP2杂化,形成大Π键,每一层都是六边形网状结构。由于间隙较大,电子可在同层中运动,可以导电,层间分子间力作用,所以石墨比较软。解:石墨C:属六方晶系,配位数为3,具有平面三角形配位,6个碳原子分别以共价键结合成六边形碳环,各环之间共棱组成无限大的碳网层,层与层之间靠范德华力作用,作用力很弱,同时由于碳网层上的原子与电价没有饱和,多余的自由电子分布在层之间,电子间的相互排斥,使得层与层之间更容易断裂,因而石墨的硬度很低,易破碎有滑腻感和良好的片状解理且结构中的大π键(SP2杂化轨道形成大π键)使其能导电,不含结构水能耐高温。 Mg3[Si4O10](OH)2滑石复网层结构属单斜晶系,上下为2层[SiO4]四面体层

第三章晶体结构缺陷

第三章晶体结构缺陷 【例3-1】写出MgO形成肖特基缺陷的反应方程式。 【解】MgO形成肖特基缺陷时,表面的Mg2+和O2-离子迁到表面新位置上,在晶体内部留下空位,用方程式表示为: 该方程式中的表面位置与新表面位置无本质区别,故可以从方程两边消掉,以零O(naught)代表无缺陷状态,则肖特基缺陷方程式可简化为: 【例3-2】写出AgBr形成弗伦克尔缺陷的反应方程式。 【解】AgBr中半径小的Ag+离子进入晶格间隙,在其格点上留下空位,方程式为: 【提示】一般规律:当晶体中剩余空隙比较小,如NaCl型结构,容易形成肖特基缺陷;当晶体中剩余空隙比较大时,如萤石CaF2型结构等,容易产生弗伦克尔缺陷。 【例3-3】写出NaF加入YF3中的缺陷反应方程式。 【解】首先以正离子为基准,Na+离子占据Y3+位置,该位置带有2个单位负电荷,同时,引入的1个F-离子位于基质晶体中F-离子的位置上。按照位置关系,基质YF3中正负离子格点数之比为1/3,现在只引入了1个F-离子,所以还有2个F-离子位置空着。反应方程式为: 可以验证该方程式符合上述3个原则。 再以负离子为基准,假设引入3个F-离子位于基质中的F-离子位置上,与此同时,引入了3个Na+离子。根据基质晶体中的位置关系,只能有1个Na+离子占据Y3+离子位置,其余2个Na+位于晶格间隙,方程式为:

此方程亦满足上述3个原则。当然,也可以写出其他形式的缺陷反应方程式,但上述2个方程所代表的缺陷是最可能出现的。 【例3-4】写出CaCl2加入KCl中的缺陷反应方程式。 【解】以正离子为基准,缺陷反应方程式为: 以负离子为基准,则缺陷反应方程式为: 这也是2个典型的缺陷反应方程式,与后边将要介绍的固溶体类型相对应。 【提示】通过上述2个实例,可以得出2条基本规律: (1)低价正离子占据高价正离子位置时,该位置带有负电荷。为了保持电中性,会产生负离子空位或间隙正离子。 (2)高价正离子占据低价正离子位置时,该位置带有正电荷。为了保持电中性,会产生正离子空位或间隙负离子。 【例3-5】TiO2在还原气氛下失去部分氧,生成非化学计量化合物TiO2-x,写出缺陷反应方程式。 【解】非化学计量缺陷的形成与浓度取决于气氛性质及其分压大小,即在一定气氛性质和压力下到达平衡。该过程的缺陷反应可用 或 方程式表示,晶体中的氧以电中性的氧分子的形式从TiO2中逸出,同时在晶体中产生带正电荷的氧空位和与其符号相反的带负电荷的来保持电中性,方程两边总有效电荷都等于零。可以看成是Ti4+被还原为Ti3+,三价Ti占据了四价Ti的位置,因而带一个单位有效负电荷。而二个Ti3+替代了二个Ti4+,

几种常见晶体结构分析

几 种 常 见 晶 体 结 构 分 析 河北省宣化县第一中学 栾春武 邮编 075131 栾春武:中学高级教师,张家口市中级职称评委会委员。河北省化学学会会员。市骨干教师、市优 秀班主任、模范教师、优秀共产党员、劳动模范、县十佳班主任。 联系电话::: 一、氯化钠、氯化铯晶体——离子晶体 由于离子键无饱和性与方向性,所以离子晶体中无单个分子存在。阴阳离子在晶体中按一定的规则 排列,使整个晶体不显电性且能量最低。离子的配位数分析如下: 离子数目的计算:在每一个结构单元(晶胞) 处于不同位置的微粒在该单元中所占的份额也有 同,一般的规律是:顶点上的微粒属于该单元中所 1 份额为1棱上的微粒属于该单元中所占的份额为 8 1 上的微粒属于该单元中所占的份额为 2,中心位置 (嚷里边)的微粒才完全属于该单元,即所占的份额为 1 Na +周围有6个Cl _,每个C 厂周围有6个Na +,与一个Na +距离最近且相等的 C 「围成的空间构型为正八面体。每个 Na +周围与其最近且距离相等的 Na +有12个。见图1 _ 1 1 1 晶胞中平均 CI _个数:8X + 6 X = 4;晶胞中平均 Na +个数:1 + 12 X = 4 8 2 4 因此NaCI 的一个晶胞中含有 4个NaCI (4个Na +和4个Cl _)。 2.氯化铯晶体中每个 Cs +周围有8个CI _,每个CI _周围有8个Cs +,与 一个Cs +距离最近且相等的 Cs +有6个。晶胞中平均 Cs +个数:1;晶胞中平 _ 1 均CI _个数:8X - = 1 8 图3 CsCI 晶体 因此CsCI 的一个晶胞中含有 1个CsCI (1个Cs +和1个CI _) 、金刚石、二氧化硅 原子晶体 1.金刚石是一种正四面体的空间网状结构。每个 个C 原子紧邻,因而整个晶体中无单个分子存在。 结构中有6个碳原子,不在同一个平面上,每个 用,每C — C 键共6个环,因此六元环中的平均 C 原子以共价键与 4 由共价键构成的最小环 C 原子被12个六元环共 1 1 C 原子数为6X 12 = 2, 图4金刚石晶体 1 平均C — C 键数为6 X 丄=1 6 C 原子数:C — C 键键数 =1:2; C 原子数:六元环数 =1:2 2.二氧化硅晶体结构与金刚石相似, C 被Si 代替,C 与C 之间插氧,即为 Si02晶体,贝U Si02晶体 中最小环为12环(6个Si ,6个0), 最小环的平均 Si 原子个数:6 X 土 =寸;平均0原子个数:6X 6 = 1。 即 Si : 0 = 1 : 2,用 Si02 表示。 在Si02晶体中每个Si 原子周围有4个氧原子,同时每个氧原子结合 2个硅原子。一个 Si 原子可形 图2 NaCI 晶体 1.氯化钠晶体中每个

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