红外焦平面探测器的国内外技术现状和发展趋势 一、焦平面APD探测器的背景及特点 焦平面APD探测器主要是由：APD阵列和读出电路(ROIC)两部分组成，其中APD是核心元件。 1、APD 雪崩光电二极管（APD）是一种具有内部增益的半导体光电转换器件，具有量子响应度高、响应速度快、线性响应特性好等特点，在可见光波段和近红外波段的量子效率可达90%以上，增益在10～100倍，新型APD材料的最大增益可达200 倍，有很好的微弱信号探测能力。 2、APD阵列的分类 按照APD的工作的区间可将其分为：Geiger-mode APD（反向偏压超过击穿电压）和线性模式APD（偏压低于击穿电压）两种。 （1）Geiger-mode APD阵列的特点 优点： 1）极高的探测灵敏度，单个光子即可触发雪崩效应，可实现单光子探测； 2）GM-APD输出信号在100ps量级，即有高的时间分辨率，进而有较高的 距离分辨率，厘米量级； 3）较高的探测效率，采用单脉冲焦平面阵列成像方式； 4）较低的功耗，体积小，集成度高； 5）GM-APD输出为饱和电流，可以直接进行数字处理，读出电路(ROIC)不需 要前置放大器和模拟处理模块，即更简单的ROIC。
缺点： 1）存在死时间效应：GM-APD饱和后需要一定时间才能恢复原来状态，为 使其可以连续正常工作需要采用淬火电路对雪崩进行抑制。 2）GM-APD有极高的灵敏度，其最噪声因素更加敏感，通道之间串扰更严重。 （2）线性模式APD阵列的特点 优点： 1）光子探测率高，可达90%以上； 2）有较小的通道串扰效应； 3）具有多目标探测能力； 4）可获取回波信号的强度信息； 5）相比于GM-APD，LM-APD对遮蔽目标有更好的探测能力。 缺点： 1）灵敏度低于GM-APD；（现今已经研制出有单光子灵敏度的LM-APD） 2）读出电路的复杂度大于GM-APD（需对输入信号进行放大、滤波、高速 采样、阈值比较、存储等操作）。（其信号测量包括强度和时间测量两部 分） 按照基底半导体材料APD可分为：Si APD、Ge APD、InGaAs APD、HgCdTe APD。 其中Si的由于波长在1um左右，由于材料限制很难做到大于32*32的阵列，再考虑到人眼安全以及军事对高功率激光的需求，工作波长在：1.5um的InGaAs APD 及HgCdTe APD为研究的热点内容。
发酵消泡剂的使用方法 分类名称：sxp-101发酵消泡剂 品牌：*华**润* 活性成分：聚硅氧烷、分散剂、非离子表面活性剂 性状：本品为乳白色水包油型乳液，不挥发物：25±1%，PH值6-8，稳定性（3000转/20分钟）：不分层，离子特性：非离子型。 用途：本品是专为发酵工艺而设计的一种高效有机硅消泡剂，用于各类发酵生产过程的消泡，如红霉素、洁霉素、阿维菌素、庆大霉素、青霉素、柠檬酸、赖氨酸、酵母生产等多种发酵消泡工艺，在兽药加工、后期提取工艺中也被广泛应用。 性能特点： 1、消泡快，用量少。 2、不影响起泡体系的基本性质。 3、扩散性、渗透性好。 4、化学性稳定，耐氧化性强。 5、无生理活性，无腐蚀、无毒、无不良副作用、不燃、不爆，安全性高。 性能特点： 本品消泡速度快、抑泡时间长、分散效果好；理化性质稳定，不与发泡体系中物质产生反应，不影响产品品质，能提高发酵微生物的发酵单位，促进菌丝生长，缩短发酵周期，对提高收率有益；同时，本品在经高温杀菌生，能自动恢复乳液状态，不会在添加罐中因油水分离、分层而影响效能。 在使用量适当的情况下，可以满足整个发酵周期控制泡沫的要求，不需添加泡敌（G·P·E 或P·P·E）类产品，是对泡敌毒性比较敏感的菌种发酵的最佳消泡剂。 使用方法： ①本品可在基础料中一次性添加；
②连续向发酵液中滴加或流加； ③使用数量：单独使用按配料体积的0.15%-0.2%；如配合0.01-0.03%的泡敌使用，按0.05-0.1%即可达到很好的消泡效果。 产品安全： ①建议在选用前，取发泡液小样模拟实际使用条件进行消泡试验及确定消泡剂的最佳 添加量。 ②②用于医药、食品方面消泡时，应严格按照药典及有关法规要求，在使用前应进行 消毒、灭菌处理。 包装贮运：25公斤塑桶或200公斤内涂塑铁桶包装；贮于阴凉处，按无毒、非危险品运输，注意防冻。 作者：宿州华润
有机硅消泡剂的使用注意事宜 有机硅消泡剂系由硅油、白碳黑、乳化剂、分散剂、防腐剂、增稠剂等配以适量水经机械乳化而成。它的特点是表面张力小，表面活性高，消泡力强，用量少，成本低。对大多数气泡介质均能消泡和抑泡。 有机硅消泡剂系由硅油、白碳黑、乳化剂、分散剂、防腐剂、增稠剂等配以适量水经机械乳化而成。它的特点是表面张力小，表面活性高，消泡力强，用量少，成本低。对大多数气泡介质均能消泡和抑泡。它具有较好的热稳定性，可在－5℃～－150℃宽广的温度范围内使用；有机硅的化学稳定性较好，难与其他物质反应，只要配置适当，可在酸、碱、盐溶液中使用，无损产品质量；它还具有生理惰性，通常用于食品和医药行业。它对所有气泡体系兼具有抑泡、破泡功能，隶属广谱型消泡剂范畴。它被广泛用于线路板清洗、纺织印染、造纸纸浆、电镀、化肥、助剂、污水处理等生产过程中的消泡抑泡。 有机硅消泡剂是消泡剂家族中最庞大，使用最广，产量和销量最大，最常见的一种消泡剂，所以在使用有机硅消泡剂时应该注意以下事宜： 第一，在使用或采样前需要充分搅匀乳液。 第二，虽然水包油型乳液可任意稀释，但同时乳液的稳定性也会因此急剧下降，如发生分层等，所以在稀释时请将水加入消泡剂中并缓慢搅拌。最好加入增稠剂，以提高其稳定性。 第三，由于乳液在原始浓度下稳定性最好，所以稀释后的乳液必须在短期内用完。 第四，防止霜冻！乳液对霜冻和温度高于40°C都很敏感而易遭到破坏。如果已经冻住的乳液可以小心地去霜冻，但在进一步使用前必须作检测。 第五，长时间强烈振荡或强烈剪切（如使用机械泵，均质机等）或搅拌会破坏乳液的稳定性。 第六，如果想要提高乳液的稳定性，可以添加增稠剂以提高乳液的粘度。
简介 英文专业名称：Leveling agent. 流平剂是一种常用的涂料助剂，它能促使涂料在干燥成膜过程中形成一个平整、光滑、均匀的涂膜。流平剂种类很多，不同涂料所用的流平剂种类也不尽相同。 流平剂概述 涂料施工后，有一个流动及干燥成膜过程，然后逐步形成一个平整、光滑、均匀的涂膜。涂膜能否达到平整光滑的特性，称为流平性。缩孔是涂料在流平与成膜过程中产生的特性缺陷之一。在实际施工过程中，由于流平性不好，刷涂时出现刷痕，滚涂时产生滚痕、喷涂时出现桔皮，在干燥过程中相伴出现缩孔、针孔、流挂等现象、都称之为流平性不良，这些现象的产生降低了涂料的装饰和保护功能。 影响涂料流平性的因素很多，溶剂的挥发梯度和溶解性能、涂料的表面张力、湿膜厚度和表面张力梯度、涂料的流变性、施工工艺和环境等，其中最重要的因素是涂料的表面张力、成膜过程中湿膜产生的表面张力梯度和湿膜表层的表面张力均匀化能力。改善涂料的流平性需要考虑调整配方和加入合适的助剂，使涂料具有合适的表面张力和降低表面张力梯度的能力。 流平剂机理 涂料干燥成膜过常见的缺陷有缩孔、桔皮、刷痕、滚痕、流挂等。 缩孔是指涂膜上形成的不规则的，有如碗状的小凹陷，使涂膜失去平整性，常以一滴或一小块杂质为中心，周围形成一个环形的棱。从流平性的角度而言，它是一种特殊的“点式”的流不平，产生于涂膜表面，其形状从表现可分为平面式，火山口式，点式，露底式，气泡式等。 [编辑本段] 常用的防缩孔流平剂 溶剂类流平剂主要是高沸点溶剂混合物。溶剂型涂料仅借助增加溶剂以降低粘度来改善流平性，将使涂料固体分下降并导致流挂等弊病；或者保持溶剂含量，只加入高沸点溶剂以图调整挥发速度来改善流平，干燥时间也相应延长。故此两方案均不理想。只有加入高沸点溶剂混合物，显示各种递增特性（挥发指数、蒸馏曲线、溶解能力）较为理想。溶剂类流平剂主要成分是各种高沸点的混合溶剂，具有良好的溶解性，也是颜料良好的润湿剂。常温固化涂料由于溶剂挥发太快，涂料粘度提高过快妨碍流动而造成刷痕，溶剂挥发导致基料的溶解性变差而产生的缩孔，或在烘烤型涂料中产生沸痕、起泡等弊病采用这类助剂是很有效的。另外采用高沸点流平剂调整挥发速度，还可克服泛白弊病。
有机硅消泡剂常用种类 SXP有机硅消泡剂 分类名称：通用型有机硅消泡剂 活性成分：改性聚硅氧烷、分散助剂、非离子表面活性剂 性状：本品为乳白色水包油型乳状液；有效成分30%；PH值：6-8；稳定性（3000转/20分钟）：不分层；离子特性：非离子型。 用途：可广泛地应用于混凝土外加剂；废水处理；印染；造纸；纺织浆料；水性涂料；油田钻井液；化工；医药、农药发酵、农药乳液；乳化沥青；皮革处理；树脂、乳液聚合；矿物浮选；以及各种金属清洗液、切磨削液、胶粘剂、冷却液、日化洗涤剂等水基体系方面的消泡。 性能特点：本品系引进先进技术,100%采用进口原料所生产。能够迅速消除水相泡沫，长久抑泡。用量少，扩散性、渗透性好、耐热性好、化学性稳定、耐氧化性强。无腐蚀、无毒、无不良副作用，安全性高。在酸、碱、盐、电解质及硬水中都能使用。不影响起泡体系的基本性质。 使用方法：使用时建议将所需份量消泡剂用发泡液或清洁冷水稀释1:5的溶液使用，建议用量为0.5～1‰左右 包装储运：25kg塑料桶或200kg内涂塑铁桶装；在凉暗处保存，按无毒、非危险品运输，注意防冻。 SXP-101发酵消泡剂 分类名称：发酵用有机硅消泡剂 活性成分：聚硅氧烷、分散剂、非离子表面活性剂 性状：本品为乳白色水包油型乳液，不挥发物：25±1%，PH值6-8，稳定性（3000转/20分钟）：不分层，离子特性：非离子型。
用途：本品是专为发酵工艺而设计的一种高效有机硅消泡剂，用于各类发酵生产过程的消泡，如红霉素、洁霉素、阿维菌素、庆大霉素、青霉素、柠檬酸、赖氨酸、酵母生产等多种发酵消泡工艺，在兽药加工、后期提取工艺中也被广泛应用。 性能特点：本品消泡速度快、抑泡时间长、分散效果好；理化性质稳定，不与发泡体系中物质产生反应，不影响产品品质，能提高发酵微生物的发酵单位，促进菌丝生长，缩短发酵周期，对提高收率有益；同时，本品在经高温杀菌生，能自动恢复乳液状态，不会在添加罐中因油水分离、分层而影响效能。在使用量适当的情况下，可以满足整个发酵周期控制泡沫的要求，不需添加泡敌（G·P·E或P·P·E）类产品，是对泡敌毒性比较敏感的菌种发酵的最佳消泡剂。 使用方法：①本品可在基础料中一次性添加；②连续向发酵液中滴加或流加；③使用数量：单独使用按配料体积的0.15%-0.2%；如配合0.01-0.03%的泡敌使用，按0.05-0.1%即可达到很好的消泡效果。 产品安全：①建议在选用前，取发泡液小样模拟实际使用条件进行消泡试验及确定消泡剂的最佳添加量。②用于医药、食品方面消泡时，应严格按照药典及有关法规要求，在使用前应进行消毒、灭菌处理。 包装贮运：25公斤塑桶或200公斤内涂塑铁桶包装；贮于阴凉处，按无毒、非危险品运输，注意防冻。 SXP-103水处理消泡剂 分类名称：水处理用有机硅消泡剂 活性成分：聚硅氧烷、分散剂、乳化剂、表面活性剂
焦平面红外探测器应用现状 0 引言 红外探测器广泛应用于军事、科学、工农业生产和医疗卫生等各个领域，尤其在军事领域，红外探测器在精确制导、瞄准系统、侦察夜视等方面具有不可替代的作用。近年来，红外探测器的需求不断增加。据美国相关公司市场调研分析师预测，全球军用红外探测器需求额有望在2020年达到163.5亿美元，复合年均增长率为7.71%。 红外探测器按探测机理可分为热探测器和光子探测器，按其工作中载流子类型可以分为多数载流子器件和少数载流子器件两大类，按照探测器是否需要致冷，分为致冷型探测器和非致冷型探测器。非致冷探测器目前主要是非晶硅和氧化钒探测器，致冷型探测器主要包括碲镉汞三元化合物、量子阱红外光探测器Ⅱ类超晶格等。 在过去的几十年里，大量的新型材料、新颖器件不断涌现，红外光电探测器完成了第一代的单元、多元光导器件向第二代红外焦平面器件的跨越，目前正朝着以大规模、高分辨力、多波段、高集成、轻型化和低成本为特征的第三代红外焦平面技术的方向发展。 1 焦平面红外探测器应用现状 热探测器的应用早于光子探测器。热探测器包括热释电探测器、温差电偶探测器、电阻测辐射热计等。热探测器具有宽谱响应、室温工作的优点，但是它响应时间较慢、高频时探测率低，目前主要应用于民用领域。光子探测器是基于光电效应制备的探测器，通过配备致冷系统，具有高量子效率、高灵敏度、低噪声等效温差、快速响应等优点。在军事领域，光子探测器占据主导地位。常用的光子探测器有碲镉汞（HgCdTe）、InAs / InGaSb Ⅱ类超晶格、GaAs / AlGaAs量子阱等。近年来量子点红外光探测器也引起广泛关注，量子点红外光探测器在理论上具有很多优点，但实际制备的量子点红外光探测器与理论预测的还是有一定差距。表1对几种常用的光子型焦平面红外探测器进行了比较。 在精确制导领域，主流制导方式有红外制导和雷达制导，这两种方式各有优势，在某些特定的场合，红外制导更是显示出其不可替代性。与雷达制导的主动探测相比，红外探测是
涂料助剂Paint additives Coating additives 涂料助剂是涂料不可缺少的组分，它可以改进生产工艺，保持贮存稳定，改善施工条件，提高产品质量，赋予特殊功能。合理正确选用助剂可降低成本，提高经济效益。 又称油漆辅料，系配制涂料的辅助材料，能改进涂料性能，促进涂膜形成。种类很多，包括催干剂、增韧剂、乳化剂、增稠剂、颜料分散剂、消泡剂、流平剂、抗结皮剂、消光剂、光稳定剂、防霉剂、抗静电剂（见塑料助剂）等，其中用量最大的是催干剂和增韧剂。当前，涂料助剂的研究，以用于水乳胶漆的助剂为重点。 编辑本段种类 经多年发展，涂料助剂种类众多，而且在涂料生产的各个阶段都发挥了不同的作用。制造阶段有：引发剂、分散剂、酯交换催化剂；反应过程有：消泡剂、乳化剂、过滤助剂等；贮存阶段有：防结皮剂、防沉淀剂、增稠剂、触变剂、防浮色发花剂、抗胶凝剂等；施工阶段有：流平剂、防缩孔剂、防流挂剂、锤纹助剂、流动控制剂、增塑剂、消泡剂等；成膜阶段有：聚结助剂、附着力促进剂（也叫附着力增进剂）、光引发剂、光稳定剂、催干、增光、增滑、消光、固化、交联、催化等助剂；赋予特殊功能方面有：阻燃、杀生物、防藻、抗静电、导电、腐蚀抑制、防锈等助剂。[1] 笼统来说，按照其用途划分包括附着力增进剂，防粘连剂，防缩孔剂，防发花剂，防浮色剂，消泡剂，抑泡剂，抗胶凝剂，黏度稳定剂，抗氧剂，防结皮剂，防流挂剂，防沉淀剂，抗静电剂，导电控制剂，防霉剂、防腐剂，聚结助剂，腐蚀抑制剂，防锈剂，分散剂、润湿剂，催干剂，阻燃剂，流动控制剂，锤纹助剂，流干剂，消光剂，光稳定剂、光敏剂，光学增亮剂，增塑剂，增滑剂、防划伤剂，增稠剂，触变剂，其他助剂。 除了主要成膜物质、颜填料、溶剂之外，一种添加到涂料中去的成分，能使涂料或涂膜的某一特定性能起到明显改进作用的物质。在涂料配方中的用量很小。主要是多种无机化合物和有机化合物，包括高分子聚合物。 其名称大都根据其作用特性命名。改善涂料生产工艺的有湿润剂、分散剂、乳化剂、消泡剂等。改善涂料贮存性能和运输的有防沉剂、防结皮剂、防腐剂、冻融稳定剂等。改善涂料施工性能和防止漆膜病态的有防流挂剂、流平剂、浮色发花防止剂、消泡剂、增稠剂等。改善涂膜性能并给以特种性能的有紫外线吸收剂、光稳定剂、阻燃剂、抗静电剂、防霉剂等。 涂料助剂又可以分为油性涂料助剂和水性涂料助剂。顺应全球对环境保护日益重视，水性涂料助剂的发展有了飞跃的发展。新型环保类型的助剂越来越多。应用也越来越广泛。是涂料助剂今后发展的主流方向。 编辑本段详细介绍 催干剂 一类能加快涂膜干结的物质，对于干性油膜的吸收氧和双键的聚合起促进作用。它可使油膜的干结时间由数日缩短到数小时，施工方便且可防止未干涂膜的沾污和损坏。 许多金属的氧化物、盐类和皂类都有催干作用，但有实用价值的是氧化铅（红丹、黄丹）、二氧化锰、醋酸铅、硝酸铅、硫酸锰、氯化锰、硼酸锰、醋酸锰、醋酸钴、氯化钴以及铅、钴、锰的环烷酸皂、亚麻油酸皂和松香酸皂。 由于皂类催干剂油溶性好，故催干效力较高。现代涂料工业多采用环烷酸皂作催干剂。环烷酸皂通常用复分解法生产。 油性涂料中催干剂的用量依干性油或半干性油的数量而定。以干性的亚麻油为例，铅催干剂的用量（以铅计）为油质量的0.4～0.5％。钴和锰的催干能力强于铅，钴、锰、铅之比大约为8:1:40。两种或三种金属皂类并用有协同作用。在树脂涂料中，须增大催干剂用量。增韧剂 即增塑剂（见塑料助剂）。涂料工业常用的品种有邻苯二甲酸二乙酯、邻苯二甲酸二丁
Silicon Photonics: Challenge and Opportunity in Big Data Era 周治平.北京大学 Zhiping Zhou Peking University, China zjzhou@https://www.doczj.com/doc/c95514022.html, CIOEC, Sept. 2, 2015 Shenzhen, China
Silicon Photonics Edited by Zhiping Zhou
Outline ?Interconnect and the emerging silicon photonics ?Current silicon photonics interconnect ?Difficulties and challenges ?Conclusions
Applications push the growth of data centers Source: Intel IDF14 Scalability: both quantity and continuous improvement of device performance
Today’s interconnects in data centers Rack to rack: optical (VCSEL-based) In-rack: imminent transformation to optical solution Source: M Paniccia, Presentation at Purdue University (2007).
新型消泡剂——有机硅消泡剂 简介： 消泡剂是一种以低浓度加入发泡体系中破坏或抑制泡沫的物质，按其状态可分为油状、乳液状、固体、膏状等，有机硅消泡剂是含硅表面活性剂，作为有机硅化合物中的一族，是一种新型消泡剂。从60年代起就用于各工业领域，但大规模和全面的快速发展，是从80年代开始的。作为有机硅消泡剂，其应用领域也十分广泛，越来越受到各行各业的重视。 特性： ①具有良好的化学惰性，一般不与被消泡的介质（不同的pH值、温度下）发生化学反应； ②具有正铺展系数，能在发泡系统中的气-液界面迅速铺展开； ③具有较低的表面张力，硅油的表面张力为1.520×10-5N/cm； ④不易被发泡体系中存在的表面活性剂所增溶。 消泡机理： 当体系加入消泡剂后，其分子杂乱无章地广布于液体表面，抑制形成弹性膜，即终止泡沫的产生。当体系大量产生泡沫后，加入消泡剂，其分子立即散布于泡沫表面，快速铺展，形成很薄的双膜层，进一步扩散、渗透，层状入侵，从而取代原泡膜薄壁。由于其表面张力低，便流向产生泡沫的高表面张力的液体，这样低表面张力的消泡剂分子在气液界面间不断
扩散、渗透，使其膜壁迅速变薄，泡沫同时又受到周围表面张力大的膜层强力牵引，这样，致使泡沫周围应力失衡，从而导致其“破泡”不溶于体系的消泡剂分子，再重新进入另一个泡沫膜的表面，如此重复，所有泡沫全部覆灭。 分类及性能： ?油状有机硅消泡剂 油状有机硅消泡剂可分为油型和油复合型。纯硅油对水溶液的泡沫无消泡作用，但在硅油中混入经疏水处理过的二氧化硅助剂，形成油复合型消泡剂，由于二氧化硅表面烃基有利于硅油的分散，从而改善了硅油的消泡性能，并且降低了原料成本。油状有机硅消泡剂的分子量大小对其消泡效果有一定的影响。分子量小，易于分散和溶解，但缺乏持久性；相反，分子量大则消泡性能差，同时乳化困难，但溶解性差，持久性好。实验测定，在强碱性的三乙醇胺水溶液发泡体系中，甲基硅油先于聚二甲基硅氧烷而达到消泡效果。 ?乳液有机硅消泡剂 由于油状有机硅消泡剂应用于水相，大多数受到分散性差等因素的影响，所以，寻求能改善这种局面的添加剂，使其形成乳液有机硅消泡剂。乳液有机硅消泡剂既能应用于非水相，又能适用于水相，在此方面，国内有很多的相关报道。在系列化的甲基硅油水乳化硅油中，乳化硅油302-30，302-20，304，既可用于非水相，又可用于水相，且具有润滑性好、对生物无毒害作用、不易挥发、不腐蚀金属、耐热、抗氧化等性能。 ?固体有机硅消泡剂 固体有机硅消泡剂制备工艺简单，贮存稳定性好，便于运输，通过改变其载体或助剂，既能用于水相，又能用于油相，且有较好的介质分散性，因此，固体有机硅消泡剂除用于无泡、低泡洗衣粉生产外，也已向其他使用液体消泡剂的领域渗透。固体有机硅消泡剂的制备方法可分为三种：①活性组分直接分散在固体载体表面；②活性组分与软化点较低的脂肪醇、脂肪酸、脂肪酰胺、脂肪酸酯、石蜡等物质一起熔融，再将熔融体附着在载体的表面； ③活性组分与成膜物质混合，使成膜物质包封在消泡组分的外部。其中，第一种方法制备的消泡剂适用温度范围宽，第三种方法制备的消泡剂稳定性强。 技术指标： 使用方法：
有机硅消泡剂 一、【产品说明】：有机硅消泡剂是以硅油作为基础组分，配以适宜的溶剂、乳化剂或无 机填料经过特殊工艺配制而成。本有机硅消泡剂作为优良的消泡剂，除 去消泡力强，尤为可贵的是硅氧烷集化学稳定性、生理惰性和高低温性 能好等特性于一身，因而获得广泛应用。 二、【技术指标】： 型号…………………………………DF-898/899 外观…………………………………白色至淡黄色乳状液体 pH值…………………………………6.5～8.5 粘度（25℃）………………………800～3000mPa.s 乳液离子型…………………………弱阴离子型 适当稀释剂……………………………10～30℃增稠水 注：本数据表所列数值只描述了本产品典型的性质，不代表规格范围。 三、【产品特点】： 1、消泡、抑泡力强，用量少，不影响起泡体系的基本性质。 2、耐热性好，化学性稳定，无腐蚀、无毒、无不良副作用、不燃、不爆。 3、其性能可与进口产品相媲美，而价格更具明显之优势。 四、【应用场合】： 1.纺织浆料，高温染色； 2.工业水处理； 3.石油开采中的泥浆消泡； 4.水性涂料和其它的水相泡沫。 5．其他需要抑泡时间和，消泡快的行业。 五、【使用方法】：消泡剂具有优异的消、抑泡性能，可以在泡沫产生后添加或作为抑泡 组份加入产品中，根据不同使用体系，消泡剂的添加量可为10~1000ppm， 佳添加量由客户根据具体情况试验决定。 消泡剂产品可直接使用，也可稀释后使用。如在起泡体系中能充分 搅拌分散，可以直接添加，无需稀释。如需稀释，按照附件的稀释方法 进行。直接用水稀释产品的方法不可取，容易出现分层破乳等现象，从 而影响产品品质。因用水直接稀释或其他不正确的方法加工或使用产品 产生的后果，本公司概不承担责任。 六、【储运包装】：包装：本品采用50KG、120KG、200KG塑料桶装。
Ξ硅基光波导结构与器件 刘育梁 王启明 (中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点联合实验室,北京,100083) 摘要 简要评述硅基光波导的结构、工艺及其器件,包括低损耗的硅基光波导、电光波导器件、红外波导探测器、氧化硅光波回路等. 关键词 硅,光波导. 引言 硅是微电子学领域最重要的半导体材料,其工艺技术和集成电路技术得到了高度发展.将硅从微电子学领域拓展到光电子学领域,发展集电子学功能和光子学功能于一体的硅基光电子器件与回路已成为一个重要的发展趋势,吸引了越来越多的科学家和工程技术人员,并取得了一定的进展.其主要标志为:(1)SiGe Si 超晶格和多孔硅的高效光发射现象的发现和研究表明了硅基材料中确定存在着可用于实际器件制作的高效发光机制;(2)可见光范围的硅雪崩光电探测器早已投入实际应用.可望用于113Λm 光通信系统的SiGe Si 多量子阱光波导探测器也已在实验室研究成功,并开始了探测器阵列的研究;(3)硅基无源光波导器件的研究卓有成效,取得了许多实际成果.其中最重要的,一是80年代以来提出的各种结构的硅基光波导的传输损耗几乎都已降至1dB c m ,制作这些光波导大都采用常规的微电子加工工艺,这为进一步研制各种功能器件奠定了坚实的基础;二是硅上二氧化硅光波导器件与回路已逐渐推向市场. 硅基光波导器件的这种发展趋势明显地反映在重要的国际光电子期刊中,80年代中期很少看到这方面的研究论文,而到90年代初,硅基光波导器件的研究论文在这类期刊中所占比例越来越大,近期已发展到专集讨论的程度[1].目前从事硅基光波导与光电子器件研究的实验室很多,有3个实验室的工作最具连贯性,代表了现今硅基光波导器件的发展水平.它们是:N T T 光电子实验室(集中从事Si O 2平面光波导器件与回路的研究开发工作),A T &B T B ell 实验室(M u rray H ill )(主要从事Si O 2光波导与回路、Ge x Si 1-x Si 波导探测器的研究)和柏林工业大学(TUB )(从事SO I 光波导、Ge 扩散硅光波导、光开关和Ge x Si 1-x Si 波导探测器的研究工作).本文将专门就硅基光波导及器件的发展作一简要评述. 1 低损耗硅基光波导结构及工艺 1.1 外延型光波导 第15卷第1期 1996年2月 红外与毫米波学报J.Infrared M illi m .W aves V o l .15,N o.1Feb ruary,1996 Ξ
有机硅消泡剂简单介绍 含硅表面活性剂作为有机硅化合物中的一族，从60年代起就用 于各工业领域，但大规模和全面的快速发展，是从80年代开始的。 作为有机硅消泡剂，其应用领域也十分广泛，越来越受到各行各业的重视。 1、有机硅消泡剂的发展与现状 德国实验物理学家Ｑｕｉｎｃｋｅ首先提出用化学方法来消泡，例如用乙醚蒸气可消除肥皂泡。19世纪的胶体化学家Ｊ.Ｐｌａｔｅａｕ曾对液体起泡性进行过研究，提出表面张力小、黏度大的起泡性强。日本胶体化学家佐佐木恒孝在二次大战之前就开始研究泡沫问题，战后连续发表许多文章，成为消泡方面的一位专家。美国胶体化学家ＳＲｏｓｓ在二次大战期间，研究润滑油的消泡问题，战后连续发 表许多篇关于消泡的研究报告，在消泡剂的作用机理方面作出了突出贡献。1952年，美国道康宁(ＤｏｗＣｏｒｎｉｎｇ)公司的ＣＣＣｕｒｒｉｅ对当时的消泡剂文献做了较大规模的整理，对造纸、发酵、锅炉等方面的消泡技术进行了全面系统的研究。1954年，美国Ｗａ ｇｎｄ-ｏｔｔ公司首先投产聚醚型消泡剂，已经得到迅速发展。但 广泛应用和研究是从近几年随着聚醚工业的发展而开始的。 50年代，我国开始对发酵、造纸工业的消泡问题进行探索性的 研究。60年代初，我国开始对润滑油、传动油的消泡问题进行系统 研究，从而有助于飞机、内燃机车、舰艇、轿车方面的发展。后来又进行了造纸、印染、发酵、天然气脱硫、混凝土等方面的研究。60 年代末，我国开始研究聚醚型消泡剂，70年代以来，开始生产聚醚 型消泡剂，首先应用于抗菌素发酵，并逐渐推广到其他领域，品种也
由当时的单一品种甘油聚醚ＧＰ发展到现今的ＧＰＥ、ＰＰＥ、ＢＡＰＥ等。80年代，各种各样的消泡剂大量涌现，消泡技术也在我国各行各业得到了广泛的应用。 2、有机硅消泡剂的消泡机理 泡沫是一种有大量汽泡分散在液体中的分散体系，其分散相为气体，连续相为液体。当体系中加有表面活性剂时，在气泡表面吸附着定向排列的一层表面活性剂分子，当其达到一定浓度时，气泡壁就形成了一层坚固的薄膜。表面活性剂吸附在气液界面上，造成液面表面张力下降，从而增加了气液接触面，这样气泡就不易合并。气泡的相对密度比水小得多，当上升的气泡透过液面时，把液面上的一层表面活性剂分子吸附上去。因此，暴露在空气中的吸附有表面活性剂的气泡膜同溶液里的气泡膜不一样，它包有两层表面活性剂分子，形成双分子膜，被吸附的表面活性剂对液膜具有保护作用。消泡剂就是要破坏和抑制此薄膜的形成，消泡剂进入泡沫的双分子定向膜，破坏定向膜的力学平衡而达到破泡。 消泡剂必须是易于在溶液表面铺展的液体。此种液体在溶液表面铺展时会带走邻近表面的一层溶液，使液膜局部变薄，于是液膜破裂，泡沫破坏。在一般情况下，消泡剂在溶液表面铺展越快，则使液膜变的越薄，迅速达到临界厚度，泡沫破坏加快，消泡作用加强。一般能在表面铺展、起消泡作用的液体，其表面张力较低，易于吸附于溶液表面，使溶液表面局部表面张力降低(即表面压增高)，发生不均衡现象。于是铺展即自此局部发生，同时会带走表面下一层邻近液体，致使液膜变薄，从而气泡膜破坏。因此，消泡的原因一方面在于易于铺展，吸附的消泡剂分子取代了起泡剂分子，形成了强度较差的膜;同
涂料助剂 产品简介： 助剂，又称涂料辅助材料，是涂料生产工艺和涂料性能达到某种特定要求而少量添加的一些辅助的特殊材料，其开发和应用是现代涂料工艺的重大技术成就之一。它们用量很少，在现代涂料的制备、贮运和涂装过程中对保证涂料和涂装性能起到重要的作用。水性机高性能、高性能涂料中的助剂是不可或缺的组分。助剂在涂料成膜后一般留在涂层中成为其组分之一，所以在认识其主要功能的同时还应注意其对最终涂层的负面影响。 迄今为止，助剂的作用原理并不十分清楚，而且往往多种助剂在一种涂料中使用，由于助剂的结构和理化性质不同，而且大多数助剂都是不同类型的表面活性剂，它们在一起可能起协同作用，也可能起拮抗作用。此外，助剂于成膜物树脂、颜料机分散介质之间也存在复杂的相互作用，因此选择正确的助剂组合需要助剂供应商与配方师共同努力，进行大量的筛选工作。 分类： 按助剂的功能分类：湿润、分散剂，乳化剂，消泡剂，流平剂，防沉、防流挂剂，催干剂，固化剂机催化剂，增塑剂，防霉剂，平光剂，增稠剂，阻燃剂，导静电剂，紫外线吸收剂，热稳定剂，防结皮剂，以及用量较大的增塑剂，乳胶涂料的成膜助剂，防冻剂，防霉剂等。 按其在涂料制备和涂装过程的作用分类： a)涂料生产过程调节涂料性能助剂湿润、分散剂，乳化剂，消泡剂，流变调节剂——增稠剂、防流挂剂等。 b)保证涂料贮存运输过程性能稳定性的助剂防沉淀剂，防结皮剂，防霉剂，防浮色、分色剂等。 c)调整涂料施工涂装，改善成膜性的助剂流平剂、消光剂、防流挂剂、成膜助剂、固化剂机催干剂等。 d)改进涂层特殊性能，提高耐久性的助剂紫外线吸收剂、热稳定性、防霉剂、耐划伤剂、憎水或亲水处理剂等。 按作用位置和方式分类： a)具有界面活性的助剂这类助剂是界面活性剂。它们拥有吸附基，吸附在相的界面处。它们的功能作用是界面或接近界面的地方发挥的。 b)非界面活性的助剂非界面活性的助剂绝大部分是在涂料和涂膜中挥发作用的。多数是为了增强涂料和涂膜某些性能或强化某个工艺过程。 涂料助剂名称发挥作用阶段发挥作用位置 乳化剂树脂，乳液聚合单体/介质，界面 引发剂、催化剂、链终止剂树脂合成单体聚合反应相中 湿润剂、分散剂、消泡剂、脱泡剂涂料生产、颜料分散颜料/基料，界面
https://www.doczj.com/doc/c95514022.html, 中国光学期刊网1引言硅材料在20世纪通过半导体集成电路垄断了数字电子工业，并改变了人们的生活方式以后，现在又成为光学及光电子学青睐的材料。成熟的大规模、低成本硅基半导体集成电路生产工艺是人们期望用硅材料来制备微纳光电子器件及系统的最主要原因之一。其目的就是要大幅度地降低目前基于III-V 族材料的微纳光电子器件及系统的成本。众所周知，硅在1.3~1.5m m 通信波段是非常好的低损耗传输介质。人们已经利用这种特性，开发出了微纳尺寸的光波导、分束器、耦合器、调制器以及 探测器等光通信用基础元器件[1,2]。锗硅探测器已达到40Gb/s 的指标[3]。如能实现硅基微纳放大器和激光器，与微电子集成类似的微光电子集成就不难实现了。然而，硅是一种间隙材料，单纯的体硅发光效率是非常低的。这也是目前硅基光电子学领域研究人员正 在集中攻关的重点之一。 为了能够将光源引入到单片硅基光电子系统中 去，人们采用了耦合、贴片及混合集成等方式[4,5]，但大部分的努力仍然是希望通过单片集成的方式将光源 硅基微纳光电子系统中光源的研究现状及发展趋势周治平王兴军冯俊波王冰 （北京大学区域光纤通信网与新型光通信系统国家重点实验室，北京100871）Zhou Zhiping Wang Xingjun Feng Junbo Wang Bing （State Key Laboratory of Advanced Optical Communication Systems Networks,Peking University,Beijing 100871,China ） 摘要综合了微电子学及微纳光学的优势，硅基微纳光电子学正在快速走向实用阶段。与微电子制造技术兼容 的微纳光子器件，包括调制器、探测器、分束器以及耦合器等均取得了重要的突破。但硅基微纳光源的研 究则仍处在探索阶段。外部光源在多大程度上能代替片上光源？片上光源的最佳选择是什么？介绍、分 析了目前硅基微纳光源的研究现状及进展，并对片上光源的研究趋势进行展望。 关键词微纳光电子学；集成光学；硅基光源 Abstract Si based micro -nano optoelectronics is rapidly moving toward commercial applications.Nano - photonic devices compatible with the microelectronics manufacturing technology,including modulators, detectors,splitter and coupler,etc.have made an important breakthrough.However,research on Si light source is still in the exploratory stage.Is the external light source enough for chip size optoelectronic systems?What will be the better choice as the on-chip light source?This article will introduce the current research progress and development of Si based micro-nano light source,and prospect further outlook on-chip light source development trends. Key words micro-nano optoelectronic;integrated optics;Si based light source 中图分类号TN253doi ：10.3788/LOP20094610.0028 Research Progress and Development Trends of Light Source for Silicon Based Micro-Nano Optoelectronic Systems
油性有机硅消泡剂 指数指标： 型号…………………………………X-4182/4183/4184 外观…………………………………半透明液体 组成…………………………………有机改性的聚硅氧烷 闪燃点………………………………200℃以上 活性物含量（%）…………………100% 注：本数据表所列数值只描述了本产品典型的性质，不代表规格范围。 产品使用场景： 油性有机硅消泡剂用于溶剂型涂料、油墨。 产品概述： 德田研发的油性消泡剂是一种液体油性强效消泡剂，专门设计用于各种油水体系，具有突出的消抑泡、特别在油性体系分散性良好，在高温200度以上、20%左右的酸碱体系控泡理想。在水性体系要求高速搅拌添加本消泡剂，本消泡剂特点是在体系里起到控泡作用，不受PH的影响。 产品特点： 1、很低的表面张力 2、具有抑泡、脱泡和消泡功能，对粘度高的体系尤为有效 3、可防止缩孔，对增进漆膜的光泽有优异的效果 4、提高抗粘连性，增加表面滑爽，从而提高漆膜的抗划伤性和耐磨性
5、可有效抑制与消除涂料在制造和施工时所产生的气泡和微泡 产品使用方法： 使用按全量0.05～0.2%,使用前可用苯类、酯类或者酮类稀释至10%以下，稀释后请尽快用完，使用前请摇匀。应在生产阶段添加，若在后面加入，需要高剪切力来使它完全分散于系统按配方总量计，储运包装： 包装：本品采用50KG、120KG、200KG塑料桶装。 贮存：本品不属危险品，无毒，不可燃，密封存放于室内阴凉、通风、干燥处。未使用完前，每次使用后容器应严格密封。25℃左右保质期12个月。 运输：本品运输中要密封好，防潮、防强碱强酸及防雨水等杂质混入。 保护措施： 请参阅本公司《油性消泡剂材料安全数据（MSDS）》。
硅二极管和锗二极管的主要区别如下： 在相同电流下，锗管的直流电阻小于硅管的直流电阻。硅管的交流电阻小于锗管。 换言之，当正向电流达到0.2V时，有必要研究启动电压为0.2V的硅二极管。 三个。在反向电压下，硅管的漏电流远小于锗管。开启后，锗管电流增加缓慢，而硅管电流增加较快 4硅二极管的反向电流远小于锗二极管。锗管为毫安级，硅管为纳米级。其原因是在相同的温度下，Si的Ni含量比Si高出约3个数量级。因此，在相同的掺杂浓度下，少量Si的含量远低于Nb的含量，因此硅晶体管的反向饱和电流很小。 5正向电压很小，流过二极管的电流很小。只有当正向电压达到一定值ur时，电流才会显著增加。电压ur通常称为二极管的阈值电压，也称为死区电压或阈值电压。 6硅二极管的阈值电压高于锗二极管，因为硅二极管的阈值电压远小于锗二极管。一般来说，硅二极管的阈值电压约为0.5V～0.6V，锗二极管的阈值电压约为0.1V～0.2V。 开发信息：
二极管是指一种电子元件，一种有两个电极的装置，只允许电流朝一个方向流动。它有很多用途，是它的校正功能的应用。可变二极管用作电子可调电容器。大多数二极管中的电流流向通常被称为“整流”。二极管最常见的功能是允许电流只沿一个方向通过（称为正向偏置），并防止电流反向（称为反向偏置）。因此，二极管可以看作是一个电子止回阀。 2早期的真空电子二极管，它是一种能在一个方向上传导电流的电子装置。在半导体二极管中，有一个PN结和两个引线端子。电子器件在施加电压的方向上具有单向导电性。一般来说，晶体二极管是由p型和n型半导体烧结而成的p-n结界面。 三个。在界面两侧形成空间电荷层，形成自建电场。当外加电压为零时，由于p-n结两侧载流子浓度的差异，扩散电流等于自建电场引起的漂移电流，这也是正常的二极管特性。 早期的四种二极管包括“猫须”晶体和真空管（在英国称为“热阀”）。今天，大多数最流行的二极管使用半导体材料，如硅或锗。 5由于半导体锗二极管在气液两相流中的传热能力不同，二极管的温度会发生变化，二极管的正向输出电压也会随之变化。
食品用有机硅消泡剂的使用 (作者：中和润消泡剂) 食品用有机硅消泡剂是以聚氧硅烷-聚醚为主体材料，采用特殊工艺精制而成的一种专业用于生物发酵、食品加工行业的消泡剂，特别是在高温中具有优异的安定性。它的特点是一次加入，快速消泡、超长抑泡、用量极少、安全无毒、无腐蚀，尤其能耐高温消毒，稳定性优于其它消泡剂，可运用在加热杀菌的发酵工程中或高温状态下的各种发泡液中，是发酵行业更新换代的新产品。 只需微量的添加食品用有机硅消泡剂，即可产生明显的消泡效果。GT-3000符合食品级标准，根据发酵液特点，可直接与基础料一起加入发酵液中，也可先用植物油或纯净水稀释10-40倍，经120℃高温灭菌后流加或补料，克服了发酵前高温消毒的稳定性和发酵过程中对细菌生长的抑制性及发酵罐结垢缺点，且发酵后易分离，罐易清洗等优点，并且食品用有机硅消泡剂剂对生物发酵不会有任何阻碍作用，不会改变产品品质，同时具有优异的耐热性。主要用于生物医药等发酵工艺。如：黄原胶、酵母、味精发酵等。 食品用有机硅消泡剂适合使用在水溶系的发泡液中，若使用在非水溶剂时，请选择溶剂型的消泡剂，本品的添加量10-100ppm(0.001-0.05％)就相当足够。由于消泡效果会受到培养基的配方、菌种、空气流动量、温度、装置及添加方法的影响，所以刚开始时先添加50ppm,然后再根据结果进行增减。 本品非直接食用的消泡剂，若发酵中加入GT-3000时，以121℃×15-30分钟的条件将GT-3000加热杀菌，待其冷却后轻轻地搅拌，杀菌后用杀菌水稀释到5-10倍，稀释可使分散性变佳且消泡效果提升。并不是一开始就大量添加，而是要视起泡状态慢慢地加入，间歇性的添加会比较经济。经稀释后的GT-3000最好一次用完，若一度静置的话在使用前应搅拌后使用会比较有效果。
红外焦平面探测器普及知识 红外焦平面阵列（IR FPA）技术已经成为当今红外成像技术发展的主要方向。红外焦平面阵列像元的灵敏度高，能够获取更多的信息以及更高的可变帧速率。红外焦平面阵列探测器对入射的红外能量进行积分，然后产生视频图像，经过调节后被提供给视频显示器，以供人观察。焦平面阵列每个像元的输出是一种模拟信号，它是与积分时间内入射在该元件上的红外能量成正比的。但是由于制造工艺和使用环境的影响，即使对温度均匀的背景，焦平面背景中所有像元产生的输出信号也是不一致的，即红外焦平面阵列器件的非均匀性（Nonuniformity,NU）。为了满足成像系统的使用要求，需要对红外焦平面阵列探测器进行非均匀性校正。 从生产工艺而言，单纯从提高焦平面阵列质量的角度来降低其非均匀性，不仅困难而且造价昂贵。因此，通过校正算法减小非均匀性对红外焦平面阵列成像质量的影响，提高成像质量，不仅是必须的，同时具有很高的经济价值和应用价值。目前，对红外图像质量的改善，一般是根据红外焦平面阵列对于温度响应的不一致性，采用非均匀性校正的方法，提高红外图像的质量。主要有两类校正方法：基于红外参考辐射源的非均匀性校正算法和基于场景的自适应校正方法。在实际应用中，普遍采用的是基于红外参考辐射源定标的校正方法。但是，采用参考辐射源定标的校正方法校正的红外图像，因红外焦平面阵列器件由于长时间的工作，受到时间、环境等因素的影响，红外图像质量逐渐下降，出现类似细胞状和块状的斑纹，影响了红外图像的质量。所以，需要在基于参考辐射源定标的校正方法的基础上，对于红外图像的质量进行改善。 国内外现状和发展趋势 自然界的一切物体，只要其温度高于绝对零度，总是在不断地辐射能量。红外热成像技术就是把这种红外热辐射转换为可见光，利用景物本身各部分温度辐射与发射率的差异获得图像细节，将红外图像转化为可见图像。利用这项技术研制成的装置称为红外成像系统或热像仪。用热像仪摄取景物的热图像来搜索、捕获和跟踪目标，具有隐蔽性好、抗干扰、易识别伪装、获取信息丰富等优点。因此，红外热成像技术在海上救援、天文探测、遥感、医学等各领域得到广泛应用。 红外热成像系统可以分为制冷和非制冷两种类型，制冷型有第一代和第二代之分，非制冷型可分为热释电摄像管和热电探测器阵列。第一代热成像系统主要由红外探测器、光机扫描器、信号处理电路和视频显示器组成，其中红外探测器是系统的核心器件，一般是分离式探测器。这种