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JEM2010型透射电镜详细操作步骤

JEM2010型透射电镜详细操作步骤
JEM2010型透射电镜详细操作步骤

JEM2010型透射电镜开机操作:

MAG 放大倍数

Current density 束斑电子密度

Exp time 曝光时间

Specimen 样品位置,尽量让X Y接近0,但在+/- 100均可以。

Brightness 束斑大小(旧:condenser)

Shift 光斑平移(旧:Aignment-trans)

Spot size 1—4 或1—5 合轴(旧:1—3 合轴)

Object focus 物镜聚焦

1.开循环水。由于新电镜循环水不关,这步可省。但要注意水温是否正常。

2.打开电源开关。IN/OUT。从来都是开着的,这步也可省。

3.打开荧屏电源;检查荧屏第一页:确认①电压是否在120KV;如不是,请联系值班老

师;②确认样品位置“specimen position”为原点:=0,0,0,如果不是原点,使用观察窗左侧“SPEC CONTROLLER”控制面板上的N键复原(注意在没有插入样品杆时,严禁使用“N”键!,所以每次推出样品杆之前应该复位);③α-selector 为2

4.用键盘键入P3,使荧屏显示第三页,检查P1-至P5的电流值,正常情况下:

p1:25,p2:25,p3:29,p4,28,p5,100,观察阀V1,V2和V4, V5B, V8, V13,V17和V 21共8个阀处于打开状态。

5.察看右下方的真空面板,确定真空进入10-5Pa量程,理想的状态的是指针居中,在灌

入液氮的情况下应该更低;如没达到这个范围,请联系值班老师;

6.灯丝处于关闭状态(filament的开关ON没亮)

7.检查聚光镜光栏是否全打开,物镜光栏是否全打开,如不是请打开全部光栏。检查右侧

面板,观察电镜是否处于MAG1(此灯亮)

8.打开左侧门,将“lens”开关打到ON的位置(请一定要非常小心,确认是lens开关,

不要开错开关。即开灯丝,将开关稍向外拉再抬上即开。)。

9.再次观察荧屏,电压是否在120KV,如果不是,严禁进行下面操作。

10.将面板左侧开关HT按下,升高压,注意观察左侧面板上显示的Beam Current值,

一般120KV时,电流值应该在60-62,如果偏离很多,请联系值班老师;(按下HT。

确定BEAM CURRENT稳定,只需看一下表中数值是否稳定即可。电流是电压的一半加一或一半加二。)

11.等Beam Current值稳定在60-62至少5分钟时间,用键盘开始升压程序。如果电

压值不能稳定,请联系值班老师;

12.用键盘键入P1,使银屏显示第一页,然后键入RUN,银屏将问“start HT ?”,键入120,

然后按“enter”,银屏会显示“End HT”,键入160,按“enter”键,银屏会显示“???”,键入10,按“enter”键,银屏会显示“???”,键入10,按“enter”键,电镜随之会自动开始升压,此时按下右侧HT wobbler。等这第一步升压完成后,再按HT wobbler 停止webbler工作,注意观察左侧Beam Current值是否稳定在80-82,如不稳定等10-20分钟,如果仍不能稳定,联系值班老师。如稳定,重复刚才的操作,只不过将start HT改为160,end HT改为180,等升压到180KV时,此时Beam Current 应在92附近,如果偏离太远或不稳定,联系值班老师。如稳定,继续升压,将start HT 改为180,end HT改为200,升压结束时,Beam Current应该在102。(该步骤为升高压。120—200Kv,用左边的钮设定。在屏幕上加电压,打开键盘输入run回车;

出现HT start,输120回车;出现HT stop,输160回车。如此三次加高压到200kv。

Total time,输10min;HT step,输10。)

13.再次观察银屏第三页,检察V1-V3是否已经正常打开,P1-P5值是否在正常范围;

右下的SIP显示的真空是否在10-5级,一切正常,按下左侧面板filament的ON键,打开灯丝,等灯丝电流稳定(约2-4分钟),最后的灯丝电流应该在105左右。观察是否有正常光斑。如没有,请联系值班老师。

JEOL2010 常温样品更换步骤

一、样品杆插入步骤:

1.更换前一定要观察银屏第一页,检查样品杆位置是否在中心位置;

2.确认灯丝处于关闭状态!

3.使用样品杆上的引导钉(guide pin)对齐样品插口,然后插入到样品杆停下后(此时

不可松手!),等待响声直至样品杆被吸住,再将“PUMP/AIR”开关打至“PUMP”一侧,松手静候(一般超过10min)

4.等角度计(goniometer)的绿灯亮后,屏幕P3页显示P4值接近30,顺时针轻转插

入一段后,等待V2和V5B均打开后再顺时针轻转继续插入直到终止,注意整个过程吸力很大,一定要拉紧样品杆,使之慢慢进入。

5.插入完毕后一定要等goniometer的绿灯亮,检查P3页的P4值,P4值应该≦30,

阀2打开,右侧下方SIP真空在10-5级,并指针指向中间方可打开灯丝进行观察。

6.整个插入样品杆的过程中,切勿大幅度摇动样品杆,整个过程要轻、缓慢地进行;人体

的任何地方都不可接触样品杆O环到样品杆顶端位置;

二、样品杆拔出步骤:

1.关闭灯丝电流;

2.用观察窗左侧“SPEC CONTROLLER”控制面板上的N键复原样品杆位置到原点附近

(注意在没有插入样品杆时,严禁使用“N”键!)或用控制球复原;确认样品位置

“specimen position”为原点:=0,0,0,tilt X,y=0;

3.将Goniometer的“pump/Air”打倒“Air”一侧;

4.轻轻将样品杆往外拉,拉一段后,会感觉到拉不动,此时稍稍停顿后逆时针轻轻转动一

小角度后,再往外拉,很短的距离后,会又拉不动,此时再逆时针轻轻转动一小角度,停顿一会会听到两声阀门启动的声音,然后会感觉到样品杆没有吸引力了,再轻轻拔出样品杆;

5.整个过程中,拉动样品杆要沿着goniometer的轴拉动,不能大幅度摇晃,而且手要一

直握住样品杆。整个过程要轻、缓慢地进行;人体的任何地方都不可接触样品杆O环到样品杆顶端位置;

三、样品在样品杆上更换步骤:

1.要把样品杆放在样品杆架上;

2.用专门工具一手将样品铜网支撑金属片固定夹抬起,另一手用大捏子夹住铜网支撑金属

片,把金属片放到旁边支架,螺丝孔对准支架上的螺丝;

3.用专用螺丝批轻轻拧松2个固定螺丝(不要拧下来,只要拧松即可);

4.轻轻移开固定铜网的弹片(小心损坏铜网)

5.用专用捏子轻轻取出铜网,放上新铜网;

6.重新将固定铜网弹片盖上铜网(注意观察位置,如不对,则要进行调整)

7.用拧紧螺丝固定弹片,一手用专用工具抬起样品架上的固定夹,一手用大捏子将金属片

放到固定夹正确位置上,放下固定夹;

JEOL 2010日常调机和观察照相步骤

1.打开灯丝,观察到光斑后,一般将电镜放大倍数调到50K条件下进行调机;

2.选择合适的聚光镜光栏;

3.用“BRIGHTNESS”旋钮(左侧面板上)逆时针旋转,将光斑缩小。用左侧面板shift X

和右侧面板shift Y旋钮将光斑移到屏幕中央;

4.调节“BRIGHTNESS”旋钮聚拢光斑,将光斑移到屏中央,再顺时针旋转

“BRIGHTNESS”旋钮,扩大光斑覆盖屏幕外四角,。若光斑不与外四角切,则调节聚光镜光栏上的微调节器(“Knob 2”和“Knob 3”,注意不要触动“Knob 4”和“lever”!)使光斑边缘与主荧光板上外四角切。

※聚光镜光阑的操作旋钮:

“Knob 1”:调节光阑大小,白圈大小表示光阑大小,加光阑必须顺时针转动!退回时逆时针,不可旋转过度!

“Knob 2”和“Knob 3”:当lever向左时使用

“Knob 2”和“Knob 4”:当lever向右时使用

5.重复3和4步骤,直到光斑一直保持在中间。

6.观察荧屏第一页,看DV是否在0,如不是用focus旋钮,调节DV到±0间,

7.把光斑缩小,观察样品焦平面Z值是否在电镜机械焦点附近,具体做法有多种,一种是

在开启右侧面板“IMAGE X/Y WOBBLER”,调节右侧面板的Z高度,直到样品中间图像在wobbler工作时仍不动(即正焦附近);另一种做法是调节光斑至最小,观察周围是否有园晕,如有,则用Z键调整,直至光斑周围清晰无晕。

8.重新3,4步骤,观察光斑和聚光镜光栏是否对中;

9.1-5光斑合轴:用左侧面板“SPOT SIZE”开关,选择spot size 1,看光斑是否在中

间,如不是,按下右下面板的GUN键,然后用右下面板的shift X和shift Y旋钮,将光斑移至中央;将spot size改变到5,看光斑是否在中央,如不是,则用电镜左右面板的shift X和Y旋钮,将光斑移到中央,重复刚才操作,重复改变spot size,直到光斑保持在中央。

10.,电压中心调中:一般在100K以上进行,在样品上寻找一个点,移动样品,使这个点

在屏幕中央,并用focus旋钮调整到焦点附近,按下右侧面板上的HT wobller,如果电压中心已对中的话,虽然光斑同心放大缩小,但黑点中央位置并不左右或上下移动。

否则需要调整电压中心。具体方法如下:维持HT wobller,按下左侧面板的Bright tilt 钮,然后在显微镜下边观察,边用左右面板上的DEF X和DEF Y钮移动,直至中心点的位置不在移动。降低放大倍数至最后观察所用的倍数,观察电压中心是否改变,一般情况下,不应改变。注意:电压中心的调整要在正焦附近进行。

11.插入物镜光栏,对中物镜光栏,具体做法如下:按下右侧DIFF键,再通过拨动

“SELECTOR”设置“SADIFF”模式(100cm),在键盘上键入P5,使荧屏进入P5页,在放大倍数为100cm时,INT的值应该是1.66,如不是,用使用“DIFF FOCUS”旋钮,调整,使INT的值到1.66,然后,用左侧面板的Brightness旋钮调整光斑大小,直至观察到光晕的边界最清晰,此时,黑色边界即为物镜光栏的边。如果光斑中心不是这个黑色物镜光栏的园中心,则调整物镜光栏位置,直到光斑中心正好是物镜光栏的圆心。恢复DIFF模式到正常Mag1模式;

12.物镜像散矫正:将放大倍数调整到100K以上(一般起码为观察倍数的两倍),将光斑

聚拢到覆盖一半的屏幕左右。按下右侧面板/键,抬起屏幕。在此前,先开好CCD控制电脑,并双击Desktop上的Digital 软件。抬起屏幕后,点击软件上的start view,此时会出现CCD扫描样品的图像,选择菜单上框,按住键盘的Ctrl键的同时,在图像上选择一正方形区域,然后点击主菜单的process中的live fft,就会出现选择区域的thorn环,如果不清楚,则调整欠焦量到略欠焦,调整光斑亮度,到观察到thorn环为止,如果环比较园,则表示物镜像散已经处于比较良好的状态,如果不不园,则按下左侧面板上的Object键,用面板上的tilt旋钮,矫正物镜像散,直至thorn环园为止。

注意:如果样品有漂移、震动,都会导致thorn环变的不完整,矫正像散会不准确或困难,所以,做这一步的时候,要保持室内环境安静,不要大声喧哗,同时,要有足够的时间让样品和电镜状态稳定。此外,做这一步的时候一般选择用有碳膜的样品进行,否则无法看到thorn环。如果这样,就要用最小反差法和拉线法进行像散的校正。

13.重复按一下右侧面板/键,将放大倍数调整到要观察的倍数,调节焦距,如果铜网比较

弯曲,焦平面变化很大,在移动到一区域后,要用Z键调整样品的高度,然后再用聚焦旋钮进行精细调整;不管怎样调整,DV的值应该一直保持在0附近;

14.图像收集可以用底片,也可以用CCD,如果用底片,则用电镜键盘,键入FTX,键入

要在底片上显示的字,用FNO键入要记录的底片号码;用Brightness钮调整光斑亮度到大约12左右(此读数需要在小屏幕打下时读取),用右侧面板Long 和Short

键调整曝光时间(普通底片,一般曝光亮度为12,曝光时间为1s),在调整好焦距,样品位置后,按一次Photo键进底片,按第二次Photo键,电镜就会进入照相状态。

如果用CCD收集数据,则抬起屏幕,在Gatan 软件页面,按下start collect就可开始收集样品图像。注意CCD上收集图片的放大倍数是荧屏上显示放大倍数的1.4倍。

JEOL2010 日常关机步骤:

1.首先将灯丝电流关闭,

2.将样品杆位置恢复中央位置,观察荧屏第一页,看X,Y,Z和倾斜角度是否均在0左右;

3.更换样品,把空的样品杆重新插入;如果之前进行了低剂量模式,请键入MDS E退出

低剂量;

4.打开所有的聚光镜光栏、物镜光栏;

5.在电镜键盘键入run,荧屏显示start HT,键入200,然后按enter;银屏会问end HT,

键入120,然后按enter,荧屏会问step ,键入-10,然后按enter,荧屏会问minutes,键入5,然后按enter,电镜就会自动进入降低电压状态。等降压完成后,电镜高压应该为120KV,左侧面板Beam Current显示应该为62左右,

6.按左侧面板HT键,关闭高压;

7.打开左侧下板,将Lens钮打倒OFF状态;

8.如果电镜冷阱中加了液氮,则在冷阱中插入加热杆到正确位置;

9.按下左下板的ACD按键,电镜会进入ACD加热状态;

注意,如果冷阱加了液氮,千万别忘了这一步,否则电镜的真空会被严重破坏;

透射电镜样品制备方法

透射电镜样品制备方法 由于电子束穿透能力限制,必须把标本切成厚度小于0.1um以下的薄片才适用,这种薄片称为超薄切片。常用的超薄切片厚度是50-70nm。 在透射电镜的样品制备方法中,超薄切片技术是最基本、最常用的制备技术。超薄切片的制作过程基本上和石蜡切片相似,需要经过取材、固定、脱水、渗透、包埋聚合、切片及染色等步骤。 一.取材的基本要求 组织从生物活体取下后,如果不立即进行适当处理,会由于细胞内部的各种酶作用,出现细胞自溶现象。此外还可能由于污染,微生物在组织内繁殖使细胞的微细结构遭受破坏,因此,为了细胞结构尽可能保持天然状态,必须做到快、小、准、冷。 (1)动作迅速,组织从活体取下后应在最短的时间内(争取1分钟内)投入2.5%戊二醛固定液。 (2)所取组织的体积要小,一般不超过1mm*1mm*1mm。也可将组织修成1mm*1mm*2mm大小长条形。因为固定剂的渗 透能力较弱,组织块如果太大,块的内部将不能得到良好的 固定。 (3)机械损伤要小,解剖器械应锋利,操作宜轻,避免牵拉、挫伤与挤压。 (4)操作最好在低温(0℃~4℃)下进行,以降低酶的活性,防

止细胞自溶。 (5)取材部位要准确。 二.取材方法 将取出的组织放在洁净的蜡版上,滴一滴预冷的固定液,用新的、锋利的刀片将组织切下并修小,然后用牙签或者镊子将组织块移至盛有冷的固定液的1.5ml离心管中。如果组织块带有较多的血液和组织液,应先用PBS洗几遍,然后切成小块固定。 1.动物及人体组织的取材(在冰浴上进行) 动物组织的取材,应麻醉(1%戊巴比铵5ml/kg体重腹腔注射)或断头急性处死,解剖出所需器官,用解剖剪刀剪取一 小块组织,放在干净的纸板上,滴一滴冷却的固定液,用新的、无油污的锋利双面刀片将材料切成大约1mm宽,2~3mm长的 小块并从中选出受损伤较小的小条,再将其切成1mm3的小块,最后用牙签将这些小块逐一放入盛有预冷的、新鲜固定液的 1.5ml管内,放入冰箱冷藏室低温固定(0~4℃)2-4小时或以 上。 *固定结束后,将固定液用PBS稀释三倍,样品于该溶液中在4℃冰箱保存。送样前请用PBS浸泡清洗3次,贴好标签 送至电镜室。 2.体外培养细胞的取材(在冰浴上进行) 培养在培养瓶中的细胞取材时,先倒出部分培养液,然后用刮刀轻轻刮下瓶壁上的细胞,将细胞悬液转移到离心管中,

实验透射电镜的结构原理及应用

实验透射电镜的结构原理及应用 一、目的要求 1.结合透射电镜实物,介绍其基本结构和工作原理,以加深对透射电镜的了解。 2.学习衍射图谱的分析步骤。 3.学习操作透射电镜,获得的明暗场像 二、透射电镜的基本结构 透射电子显微镜是以波长很短的电子束做照明源,用电磁透镜聚焦成像的一种具有高分辨本领,高放大倍数的电子光学仪器。透射电镜由电子光学系统、真空系统及电源与控制系统三部分组成。电子光学系统是透射电子显微镜的核心,而其他两个系统为电子光学系统顺利工作提供支持。 2.1 电子光学系统 电子光学系统通常称镜筒,是透射电子显微镜的核心,由于工作原理相同,在光路结构上电子显微镜与光学显微镜有很大的相似之处。只不过在电子显微镜中,用高能电子束代替可见光源,以电磁透镜代替光学透镜,获得了更高的分辨率(图9-6)电子光学系统分为三部分,即照明部分、成像部分和观察记录部分。 照明部分的作用是提供亮度高、相干性好、束流稳定的照明电子束。它主要由发射并使电子加速的电子枪、会聚电子束的聚光镜和电子束平移、倾斜调节装置组成。成像部分主要由物镜、中间镜,投影镜及物镜光阑和选区光阑组成。穿过试样的透射电子束在物镜后焦面成衍射花样,在物镜像面成放大的组织像,并经过中间镜、投影镜的接力放大,获得最终

的图像。观察记录部分由荧光屏及照像机组成。试样图像经过透镜多次放大后,在荧光屏上 显示出高倍放大的像。如需照像,掀起荧光屏,使像机中底片曝光,底片在荧光屏之下,由 于透射电子显微镜的焦长很大,虽然荧光屏和底片之间有数厘米的间距,但仍能得到清晰的 图像。 2.2 真空系统 电子光学系统的工作过程要求在真空条件下进行,这是因为在充气条件下会发生以下情 况:栅极与阳极间的空气分子电离,导致高电位差的两极之间放电;炽热灯丝迅速氧化,无 法正常工作;电子与空气分子碰撞,影响成像质量;试样易于氧化,产生失真。 目前一般电镜的真空度为10-5托左右。真空泵组经常由机械泵和扩散泵两级串联成。为 了进一步提高真空度,可采用分子泵、离子泵,真空度可达到10-8托或更高。 2.3 电源与控制系统 供电系统主要用于提供两部分电源:一是电子枪加速电子用的小电流高压电源;一是透 镜激磁用的大电流低压电源。一个稳定的电源对透射电镜非常重要,对电源的要求为:最大 透镜电流和高压的波动引起的分辨率下降要小于物镜的极限分辨本领。 三、透射电镜的工作原理 透射电子显微镜是依照阿贝成像原理工作的,即:平行入射波受到有周期性特征物体的 散射作用在物镜的后焦面上形成衍射谱,各级衍射波通过干涉重新在像平面上形成反映物的 特征的像。因此根据阿贝成像原理,在电磁透镜的后焦面上可以获得晶体的衍射谱,故透射 电子显微镜可以做物相分析;在物镜的像面上形成反映样品特征的形貌像,故透射电镜可以 做组织分析。 四、衍射花样标定 以已知晶体结构,定晶面取向的标定为例,基本程序如下: 1)测量距离中心斑点最近的三个衍射斑点到中心斑点的距离R; 2)测量所选衍射斑点之间的夹角φ; 3)根据公式λL Rd =,将测得的距离换算成面间距d; 4)因为晶体结构是已知的,将求得的d值与该物质的面间距表(如PDF卡片)相对照, 得出每个斑点的晶面族指数; }{HKL 5)决定离中心斑点最近衍射斑点的指数。若R1最短,则相应斑点的指数可以取等价晶 面中的任意一个; }{111L K H )(111L K H 6)决定第二个斑点的指数。第二个斑点的指数不能任选,因为它和第一个斑点间的夹角必须符合夹角公式。对立方晶系来说,两者的夹角可用下式(9.6)求得 )()(cos 22222221212 12 12121L K H L K H L L K K H H ++++++=φ (9.6) 在决定第二个斑点指数时,应进行所谓尝试校核,即只有代人夹角公式后 )(222L K H

透射电子显微镜的原理与应用

透射电子显微镜的原理及应用 一.前言 人的眼睛只能分辨1/60度视角的物体,相当于在明视距离下能分辨0.1mm 的目标。光学显微镜通过透镜将视角扩大,提高了分辨极限,可达到2000A 。。光学显微镜做为材料研究和检验的常用工具,发挥了重大作用。但是随着材料科学的发展,人们对于显微镜分析技术的要求不断提高,观察的对象也越来越细。如要求分表几十埃或更小尺寸的分子或原子。一般光学显微镜,通过扩大视角可提高的放大倍数不是无止境的。阿贝(Abbe )证明了显微镜的分辨极限取决于光源波长的大小。在一定波长条件下,超越了这个极限度,在继续放大将是徒劳的,得到的像是模糊不清的。 图1-1(a )表示了两个点光源O 、P 经过会聚透镜L ,在平面上形成像O ,、P ,的光路。实际上当点光源透射会聚成像时,由于衍射效应的作用在像平面并不能得到像点。图1-1(b )所示,在像面上形成了一个中央亮斑及周围明暗相间圆环所组成的埃利斑(Airy )。图中表示了像平面上光强度的分布。约84%的强度集中在中央亮斑上。其余则由内向外顺次递减,分散在第一、第二……亮环上。一般将第一暗环半径定义为埃利斑的半径。如果将两个光源O 、P 靠拢,相应的两个埃利斑也逐渐重叠。当斑中心O ,、P ,间距等于案例版半径时,刚好能分辨出是两个斑,此时的光点距离d 称为分辨本领,可表示如下: α λs in 61.0d n = (1-1) 式中,λ为光的波长,n 为折射系数,α孔径半角。上式表明分辨的最小距离与波长成正比。在光学显微镜的可见光的波长条件下,最大限度只能分辨2000A 。。于是,人们用很长时间寻找波长短,又能聚焦成像的光波。后来的X

透射电镜的样品制备方法详解

透射电镜的样品制备 透射电镜的样品制备是一项较复杂的技术,它对能否得到好的TEM像或衍射谱是至关重要的.投射电镜是利用样品对如射电子的散射能力的差异而形成衬度的,这要求制备出对电子束"透明"的样品,并要求保持高的分辨率和不失真.电子束穿透固体样品的能力主要取决加速电压,样品的厚度以及物质的原子序数.一般来说,加速电压愈高,原子序数愈低,电子束可穿透的样品厚度就愈大.对于100~200KV的透射电镜,要求样品的厚度为50~100nm,做透射电镜高分辨率,样品厚度要求约15nm(越薄越好). 透射电镜样品可分为:粉末样品,薄膜样品,金属试样的表面复型.不同的样品有不同的制备手段,下面分别介绍各种样品的制备. (1)粉末样品因为透射电镜样品的厚度一般要求在100nm以下,如果样品厚于100nm,则先要用研钵把样品的尺寸磨到100nm以下,然后将粉末样品溶解在无水乙醇中,用超声分散的方法将样品尽量分散,然后用支持网捞起即可. (2)薄膜样品绝大多数的TEM样品是薄膜样品,薄膜样品可做静态观察,如金相组织;析出相形态;分布,结构及与基体取向关系,错位类型,分布,密度等;也可以做动态原位观察,如相变,形变,位错运动及其相互作用.制备薄膜样品分四个步骤: a将样品切成薄片(厚度100~200微米),对韧性材料(如金属),用线锯将样品割成小于200微米的薄片;对脆性材料(如Si,GaAs,NaCl,MgO)可以刀将其解理或用金刚石圆盘锯将其切割,或用超薄切片法直

接切割. b切割成φ3mm的圆片用超声钻或puncher将φ3mm薄圆片从材料薄片上切下来. c预减薄使用凹坑减薄仪可将薄圆片磨至10μm厚.用研磨机磨(或使用砂纸),可磨至几十μm. d终减薄对于导电的样品如金属,采用电解抛光减薄,这方法速度快,没有机械损伤,但可能改变样品表面的电子状态,使用的化学试剂可能对身体有害.对非导电的样品如陶瓷,采用离子减薄,用离子轰击样品表面,使样品材料溅射出来,以达到减薄的目的.离子减薄要调整电压,角度,选用适合的参数,选得好,减薄速度快.离子减薄会产生热,使样品温度升至100~300度,故最好用液氮冷却样品.样品冷却对不耐高温的材料是非常重要的,否则材料会发生相变,样品冷却还可以减少污染和表面损伤.离子减薄是一种普适的减薄方法,可用于陶瓷,复合物,半导体,合金,界面样品,甚至纤维和粉末样品也可以离子减薄(把他们用树脂拌合后,装入φ3mm金属管,切片后,再离子减薄).也可以聚集离子术(FIB)对指定区域做离子减薄,但FIB很贵.对于软的生物和高分子样品,可用超薄切片方法将样品切成小于100nm的薄膜.这种技术的特点是样品不会改变,缺点是会引进形变.(3)金属试样的表面复型即把准备观察的试样的表面形貌(表面显微组织浮凸)用适宜的非晶薄膜复制下来,然后对这个复制膜(叫做复型)进行透射电镜观察与分析.复型适用于金相组织,断口形貌,形变条纹,磨损表面,第二相形态及分布,萃取和结构分析等. 制备复型的材料本身必须是"无结构"的,即要求复型材料在高倍成像时也

扫描、透射电镜的基本原理及其应用

扫描、透射电镜在材料科学中的应用 摘要:在科学技术快速发展的今天,人们不断需要从更高的微观层次观察、认识 周围的物质世界,电子显微镜的发明解决了这个问题。电子显微镜可分为扫描电了显微镜简称扫描电镜(SEM)和透射电子显微镜简称透射电镜(TEM)两大类。本文主要介绍扫描、透射电镜工作原理、结构特点及其发展,阐述了其在材料科 学领域中的应用。 1扫描电镜的工作原理 扫描电子显微镜的制造依据是电子与物质的相互作用。扫描电镜从原理上讲就是利用聚焦得非常细的高能电子束在试样上扫描,激发出各种物理信息。通过对这些信息的接受、放大和显示成像,获得测试试样表面形貌的观察。 电子束和固体样品表面作用时的物理现象:当一束极细的高能入射电子轰击扫描样品表面时,被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征X射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子,以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。同时可产生电子-空穴对、晶格振动(声子)、电子振荡(等离子体)。 由电子枪发射的电子,以其交叉斑作为电子源,经二级聚光镜及物镜的缩小形成能谱仪可以获得且具有一定能量、一定束流强度和束斑直径的微细电子束,在扫描线圈驱动下,于试样表面作栅网式扫描。聚焦电子束与试样相互作,产生二次电子发射(以及其它物理信号)。二次电子信号被探测器收集转换成电讯号,经视频放大后输入到显像管栅极,调制与入射电子束同步扫描的显像管亮度,则 可以得到反映试样表面形貌的二次电子像[1]。 2扫描电镜的构成 主要包括以下几个部分: 1.电子枪——产生和加速电子。由灯丝系统和加速管两部分组成 2.照明系统——聚集电子使之成为一定强度的电子束。由两级聚光镜组合而成。 3.样品室——样品台,交换,倾斜和移动样品的装置。 4.成像系统——像的形成和放大。由物镜、中间镜和投影镜组成的三级放大系统。 调节物镜电流可改变样品成像的离焦量。调节中间镜电流可以改变整个系统的放大倍数。 5.观察室——观察像的空间,由荧光屏组成。 6.照相室——记录像的地方。 7.除了上述的电子光学部分外,还有电气系统和真空系统。提供电镜的各种电压、 电流及完成控制功能。

透射电子显微镜(材料分析方法)

第九章透射电子显微镜 一、透射电子显微镜的结构与成像原理 透射电子显微镜是以波长极短的电子束作为照明源,用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨本领、高放大倍数的电子光学仪器。它由电子光学系统、电源与控制系统及真空系统三部分组成。电子光学系统通常称为镜筒,是透射电子显微镜的核心,它与光路原理与透射光学显微镜十分相似,如图1(书上图9-1)所示。它分为三部分,即照明系统、成像系统和观察记录系统。 图1 透射显微镜构造原理和光路 (a)透射电子显微镜b)透射光学显微镜) (1、照明源2、阳极3、光阑4、聚光镜5、样品6、物镜7、物镜光阑 8、选区光阑9、中间镜10、投影镜11、荧光屏或照相底片) (一)照明系统 照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。其作用是提供一束亮度高、照明孔径角小、平行度好、束流稳定的照明源。为满足明场和暗

场成像需要、照明束可在2°~3°范围内倾斜。电子枪是电镜的照明源,必须有很高的亮度,高分辨率要求电子枪的高压要高度稳定,以减小色差的影响。 1、电子枪 电子枪是透射电子显微镜的电子源,是发射电子的照明源。常用的是热阴极三极电子枪,它由发夹形钨丝阴极、栅极帽和阳极组成,如图2(书上图9-2)所示。(发射电子的阴极灯丝通常用0.03~0.1mm的钨丝,做成“V”形。电子枪的第二个电极是栅极,它可以控制电子束形状和发射强度。故有称为控制极。第三个极是阳极,它使阴极发射的电子获得较高的动能,形成定向高速的电子流。阳极又称加速极,一般电镜的加速电压在35~300kV之间。为了安全,使阳极接地,而阴极处于负的加速电位。由于热阴极发射电子的电流密度随阴极温度变化而波动,阴极电压不稳定会影响加速电压的稳定度。为了稳定电子束电流,减小电压的波动,在电镜中采用自偏压电子枪。) 图a为电子枪的自偏压回路,负的高压直接加在栅极上,而阴极和负高压之间因加上一个偏压电阻,使栅极和阴极之间有一个数百伏的电位差。图b中反映了阴极、栅极和阳极之间的等位面分布情况。因为栅极比阴极电位值更负,所以可以用栅极来控制阴极的发射电子有效区域。当阴极流向阳极的电子数量加大时,在偏压电阻两端的电位值增加,使栅极电位比阴极进一步变负,由此可以减小灯丝有效发射区域的面积,束流随之减小。若束流因某种原因而减小时,偏压电阻两端的电压随之下降,致使栅极和阴极之间的电位接近。此时,栅极排斥阴极发射电子的能力减小,束流又可望上升。因此,自偏压回路可以起到限制和稳定束流的作用。由于栅极的电位比阴极负,所以自阴极端点引出的等位面在空间呈弯曲状。在阴极和阳极之间的某一地点,电子束会汇集成一个交叉点,这就是通常所说的电子源。交叉点处电子束直径约几十个微米。 从图A中看出,自偏压是由束流本身产生的,自偏压U b将正比于束流I b即:U b=RI b。这样如果增加,会导致偏压增加,从而抵消束流的增加,这是偏压电阻引起负反馈的结果。它起着限制和稳定束流的作用。改变偏压电阻的大小可以控制电子枪的发身,当电阻R值增大时,控制极上的负电位增高,因此控制极排斥电子返回阴极的作用加强。在实际操作中,一般是给定一个偏压电阻后,加大灯丝电流,提高阴极温度,使束流增加。开始束流随阴极温度升高而迅速上升,然后逐渐减慢,在阴极温度达到某一数值时,束流不再随灯丝温度或灯丝电流变化而变化。此值称为束流饱和点,它是由给定偏压电子负反馈作用来决定的。在这以后再加大灯丝电流,束流不再增加,只能使灯丝温度升高,缩短灯丝寿命。另一种使束流饱和的方法是固定阴极发射温度,即选定一个灯丝电流值,然后加大偏压电阻,增大负偏压,使束流达到饱和点。当阴极温度比较高时,达到束流饱和所需要的偏压电阻要小些,当偏压电阻较大时,达到饱和所需要的阴极温度要低些。两者合理匹配使灯丝达到

TEM_透射电镜习题答案与总结

电子背散射衍射:当入射电子束在晶体样品中产生散射时,在晶体向空间所有方向发射散射电子波。如果这些散射电子波河晶体中某一晶面之间恰好符合布拉格衍射条件将发生衍射,这就是电子背散射衍射。 二、简答 1、透射电镜主要由几大系统构成? 各系统之间关系如何? 答:三大系统:电子光学系统,真空系统,供电系统。 其中电子光学系统是其核心。其他系统为辅助系统。 2、照明系统的作用是什么?它应满足什么要求? 答:照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。它的作用是提供一束亮度高、照明孔经角小、平行度好、束流稳定的照明源。它应满足明场和暗场成像需求。 3、成像系统的主要构成及其特点、作用是什么? 答:主要由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影镜组成. 1)物镜:强励磁短焦透镜(f=1-3mm),放大倍数100—300倍。 作用:形成第一幅放大像 2)物镜光栏:装在物镜背焦面,直径20—120um,无磁金属制成。 作用:a.提高像衬度,b.减小孔经角,从而减小像差。C.进行暗场成像3)选区光栏:装在物镜像平面上,直径20-400um, 作用:对样品进行微区衍射分析。 4)中间镜:弱压短透镜,长焦,放大倍数可调节0—20倍 作用a.控制电镜总放大倍数。B.成像/衍射模式选择。 5)投影镜:短焦、强磁透镜,进一步放大中间镜的像。投影镜孔径较小,使电子束进入投影镜孔径角很小。 小孔径角有两个特点: a.景深大,改变中间镜放大倍数,使总倍数变化大,也不影响图象清晰度。 焦深长,放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求。 4、分别说明成像操作与衍射操作时各级透镜(像平面与物平面)之间的相对位置关系,并 画出光路图。 答:如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合,则在荧光屏上得到一幅放大像,这就是电子显微镜中的成像操作,如图(a)所示。如果把中间镜的物平面和物镜的后焦面重合,则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样,这就是电子显微镜中的电子衍射操作,如图(b)所示。

透射电子显微镜的结构、原理和衍衬成像观察

透射电子显微镜的结构、原理和衍衬成像观察实验报告 一、实验目的 1、了解透射电子显微电镜的基本结构; 2、熟悉透射电子显微镜的成像原理; 3、了解基本操作步骤。

二、实验内容 1、了解透射电子显微镜的结构; 2、了解电子显微镜面板上各个按钮的位置与作用; 3、无试样时检测像散,如存在则进行消像散处理; 4、加装试样,分别进行衍射操作、成像操作,观察衍射花样和图像; 5、进行明场、暗场和中心暗场操作,分别观察明场像、暗场像和中心暗场像。 三、实验设备和器材 JEM-2100F型TEM透射电子 显微镜 四、实验原理 (一)、透射电镜的基本结构 透射电镜主要由电子光学系统、电源控制系统和真空系统三大部分组成,其中电子光学系统为电镜的核心部分,它包括照明系统、成像系统和观察记录系统组成。 (1)照明系统 照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。

电子枪就是产生稳定的电子束流的装置,电子枪发射电子形成照明光源,根据产生电子束的原理的不同,可分为热发射型和场发射型两种。 图1 热发射电子枪图2 场发射电子枪 聚光镜是将电子枪发射的电子会聚成亮度高、相干性好、束流稳定的电子束照射样品。电镜一般都采用双聚光镜系统。 图3 双聚光镜的原理图 (2)成像系统 成像系统由物镜、中间镜和投影镜组成。 物镜是成像系统中第一个电磁透镜,强励磁短焦距(f=1~3mm),放大倍数Mo一般为100~300倍,分辨率高的可达0.1nm左右。物镜的质量好坏直接影响到整过系统的成像质量。物镜未能分辨的结构细节,中间镜和投影镜同样不能分辨,它们只是将物镜的成像进一步放大而已。提高物镜分辨率是提高整个系统成像质量的关键。

透射电镜实验

实验二透射电镜结构原理及明暗场成像 令狐采学 一、实验内容及实验目的 1.结合透射电镜实物介绍其基本结构及工作原理,以加深对透射电镜结构的整体印象,加深对透射电镜工作原理的了解。2.选用合适的样品,通过明暗场像操作的实际演示,了解明暗场成像原理。 二、透射电镜的基本结构及工作原理 透射电子显微镜是一种具有高分辨率、高放大倍数的电子光学仪器,被广泛应用于材料科学等研究领域。透射电镜以波长极短的电子束作为光源,电子束经由聚光镜系统的电磁透镜将其聚焦成一束近似平行的光线穿透样品,再经成像系统的电磁透镜成像和放大,然后电子束投射到主镜简最下方的荧光屏

上而形成所观察的图像。在材料科学研究领域,透射电镜主要可用于材料微区的组织形貌观察、晶体缺陷分析和晶体结构测定。 透射电子显微镜按加速电压分类,通常可分为常规电镜(100kV)、高压电镜(300kV)和超高压电镜(500kV以上)。提高加速电压,可缩短入射电子的波长。一方面有利于提高电镜的分辨率;同时又可以提高对试样的穿透能力,这不仅可以放宽对试样减薄的要求,而且厚试样与近二维状态的薄试样相比,更接近三维的实际情况。就当前各研究领域使用的透射电镜来看,其主要三个性能指标大致如下: 加速电压:80~3000kV 分辨率:点分辨率为0.2~0.35nm、线分辨率为0.1~0.2nm 最高放大倍数:30~100万倍 尽管近年来商品电镜的型号繁多,高性能多用途的透射电镜不断出现,但总体说来,透射电镜一般由电子光学系统、真空系统、电源及控制系统三大部分组成。此外,还包括一些附

加的仪器和部件、软件等。有关的透射电镜的工作原理可参照教材,并结合本实验室的透射电镜,根据具体情况进行介绍和讲解。以下仅对透射电镜的基本结构作简单介绍。 1.电子光学系统 电子光学系统通常又称为镜筒,是电镜的最基本组成部分,是用于提供照明、成像、显像和记录的装置。整个镜筒自上而下顺序排列着电子枪、双聚光镜、样品室、物镜、中间镜、投影镜、观察室、荧光屏及照相室等。通常又把电子光学系统分为照明、成像和观察记录部分。 2.真空系统 为保证电镜正常工作,要求电子光学系统应处于真空状态下。电镜的真空度一般应保持在105托,这需要机械泵和油扩散泵两级串联才能得到保证。目前的透射电镜增加一个离子泵以提高真空度,真空度可高达133.322×108Pa或更高。如果电镜的真空度达不到要求会出现以下问题: (1) 电子与空气分子碰撞改变运动轨迹,影响成像质量。

透射电子显微镜的原理

透射电子显微镜的原理 XXX (大庆师范学院物理与电气信息工程学院2008级物理学200801071293黑龙江大庆163712) 摘要:透射电子显微镜在成像原理上与光学显微镜类似。它们的根本不同点在于光学显微镜以可见光作照明束,透射电子显微镜则以电子为照明束。在光学显微镜中将可见光聚焦成像的玻璃透镜,在电子显微镜中相应的为磁透镜。由于电子波长极短,同时与物质作用遵从布拉格(Bragg)方程,产生衍射现象,使得透射电镜自身在具有高的像分辨本领的同时兼有结构分析的功能。 关键词:第一聚光镜;第二聚光镜;聚光镜阑;物镜光阑;选择区光阑;中间镜 作者简介:XXX(1988-),黑龙江省绥化市绥棱县,物理与电气信息工程学院学生。 0引言: 工业多相催化剂是极其复杂的物理化学体系。长期以来,工业催化剂的制备很大程度上依赖于经验和技艺,而难以从原子分子水平的科学原理方面给出令人信服的形成机制。为开发更高活性、选择性和稳定性的新型工业催化剂,通过各种表征技术对催化剂制备中的过程产物及最终产品进行表征是一个关键性的基础工作。在当前各种现代表征手段中,透射电子显微镜尤其是高分辨透射电子显微镜,可以在材料的纳米、微米区域进行物相的形貌观察、成分测定和结构分析,可以提供与多相催化的本质有关的大量信息,指导新型工业催化剂的开发。 为什么透射电子显微镜有如此高的分辨率那?本文阐述了透射电子显微镜的工作原理。 1透射电子显微镜的定义/组成 1.1定义 在一个高真空系统中,由电子枪发射电子束, 穿过被研究的样品,经电子透镜聚焦放大,在荧光 屏上显示出高度放大的物像,还可作摄片记录的一 类最常见的电子显微镜称为透射电子显微镜。[1] 1.2组成 透射电子显微镜由照明系统、成像系统、记录 系统、真空系统和电器系统组成。(如图1) 2透射电子显微镜的照明系统 照明系统的作用是提供亮度高、相干性好、束 流稳定的照明电子束。它主要由发射并使电子加速 的电子枪和会聚电子束的聚光镜组成。图1透射电子显微镜结

透射电镜样品制作(2015-12-11)

透射电镜样品包埋块制作原理步骤 一、取材: 1、动作迅速:组织离体后,应将其快速放入4℃戊二醇固定液中,使组织细胞尽可能保持原来的生活状态。 2、减少损伤:选择锋利切割器械,减少牵拉或挤压组织。 3、组织块大小:取材医生可先切成长条形,然后再修成约1mm3大小。 二、固定: 固定目的是把细胞在活体状态时的超微结构细节尽可能完整地保存下来,避免自身酶的分解而出现自溶,或因外界微生物的入侵繁殖而产生腐败,致使细胞的超微结构遭受破坏。同时也使细胞内的各种成分固定下来,避免以后的冲洗和脱水时溶解和流失。理想的固定剂应具备以下特点:能够迅速又均匀地渗透到组织结构内;能够稳定细胞各种结构成分,使之在以后处理过程中不致溶解和丢失;对细胞超微结构没有损伤;能供细胞化学测定并能增强图像反差。当然,满足所有要求的固定剂是不存在的,目前常用固定剂有锇酸和戊二醇。 1.使用锇酸的注意事项: 锇酸即四氧化锇,它能和细胞内绝大多部分成分反应,且能够保护脂肪,但对碳水化合物、糖类和核酸保护作用差,锇酸渗透差,分子密度大,经锇酸固定的组织在电镜下能获得较好反差。锇酸为剧毒、极易挥发的试剂,对呼吸道有强烈刺激作用,必须在通风橱中操作,废液必须收集在密闭容器中。常用的锇酸溶液为2%的储备液,使用之前需用0.2MPBS稀释成1%的锇酸溶液。 2.戊二醇 戊二醇能够稳定糖原,同时保存某些锇酸保护作用差的蛋白质结构,对酶活性破坏小。对微管、滑面内质网等固定较好,对脂肪保护差,且反差小,因此必须和锇酸配合使用,即“双重固定法”。 3.固定方法: 样本先用2.5%戊二醇在4℃下固定2h,经PBS缓冲液多次清洗后再用1%锇酸固定2h。根据不同组织,可适当延长固定时间。由于戊二醇能够和锇酸反应产生电子致密的还原锇沉淀,组织经戊二醇固定后,必须将戊二醇清洗干净才能转入锇酸。此外,锇酸又能和乙醇作用生成沉淀,因此锇酸固定后也应用PBS清洗液进行清洗干净方能进行脱水处理。一般清洗3次,每次15min左右(或过夜)。 三、脱水:脱水是将组织中的游离水彻底清除的过程。由于常用的包埋剂,如环氧树脂,大多都是非水溶 性树脂,只有将生物组织中的游离水清除干净,包埋剂才能浸入组织,常用脱水剂是乙醇和丙酮。乙醇对细胞物质抽提少,组织收缩也少,但它和环氧树脂互溶性差,因此使用乙醇脱水时须用环氧丙烷作为中间溶剂。丙酮和酒精、环氧丙烷互溶,所以通常先用乙醇后再用丙酮的脱水方法。急剧脱水会引起细胞收缩,因此应采用逐级脱水(50%-70%-90%-100%乙醇)而不能急剧脱水。更换溶液时动作要快,特别是不要让组织离开溶液,否则会在组织内外产生气泡;脱水过程中若要长时间停留或过夜,应放在70%乙醇或丙酮中,并在4℃保存。 四、包埋 1.渗透:渗透就是用包埋剂逐渐取代组织中的脱水剂,使细胞内外空隙被包埋剂所填充。一般可先用环氧丙烷对半稀释的包埋剂浸透1-2h,再用纯包埋剂37℃烤箱渗透2h左右。包埋剂通常由树脂、硬化剂、增塑剂及催化剂4种试剂按一定比例配制而成。 2.包埋:目的是以包埋剂完全浸透到组织内部,经加温逐渐聚合成坚硬固体。理想包埋剂应具备的条件:黏稠适中,有良好切割性;能经受电子轰击;透明度较好;对人体无害。目前常用国产环氧树脂618、Epon812环氧树脂、及低黏度包埋剂Spurr。 3.环氧树脂:环氧树脂为热塑性树脂,主要有两种化学反应基团,即环氧基和羟基。末端环氧基易与其他含活性氢原子化合物如胺类反应,形成首尾相接的长链状聚合物。单体中羟基能与酸酐结合,形成分子间横桥连接。因此,把环氧树脂单体、胺类、酸酐等三者按一定比例混合,加上适当温度,可形成稳定的交 1

TEM制样方法及详细步骤

由透射电镜的工作原理可知,供透射电镜分析的样品必须对电子束是透明的;此外,所制得的样品还必须可以真实反映所分析材料的某些特征,因此,样品制备在透射电子显微分析技术中占有相当重要的位置,也是一个涉及面很广的题目。大体上透射电镜样品可分为间接样品和直接样品。我们下面将对间接样品的制备作简单介绍。 间接样品“复型”可以分为五步来进行: 第一步,在拟分析的样品表面滴一滴丙酮,将醋酸纤维素薄膜即A.C.纸覆盖其上,适当按压形成不夹气泡的一级复型; 第二步,待上述一级复型干燥后,小心地将其剥离,并将复制面向上平整地固定在玻璃片上; 第三步,将固定好复型地玻璃片连同一白瓷片置于真空镀膜室中,以垂直方向喷涂碳,以制备由塑料和碳膜构成地“复合复型”。白色瓷片表面在喷碳过程中颜色的变化可以表示碳膜的厚度。 第四步,将复合复型上要分析的区域剪为略小于样品台钢网的小方块后,使碳膜面朝里,贴在事先熔在干净玻璃片上的低熔点石蜡层上,石蜡液层冷凝后即把复合膜块固定在玻璃片上。将该玻璃片放入丙酮液中,复合复型的A.C.纸在丙酮中将逐渐被溶解,同时适当加热以溶解石蜡。 最后,待AC纸和石蜡溶解干净后,碳膜(即二级复型)将漂浮在丙酮液中,将其转移至清洁的丙酮液中清洗后,再转移至盛蒸馏水的器皿中。此时,由于水的表面张力,碳膜会平展地漂浮在水面,用样品铜网将其捞起,干燥后即可置于电镜下观察。

透射电镜的样品制备是一项较复杂的技术,它对能否得到好的TEM像或衍射谱是至关重要的.投射电镜是利用样品对如射电子的散射能力的差异而形成衬度的,这要求制备出对电子束"透明"的样品,并要求保持高的分辨率和不失真.电子束穿透固体样品的能力主要取决加速电压,样品的厚度以及物质的原子序数.一般来说,加速电压愈高,原子序数愈低,电子束可穿透的样品厚度就愈大.对于100~200KV的透射电镜,要求样品的厚度为50~100nm,做透射电镜高分辨率,样品厚度要求约15nm(越薄越好). 透射电镜样品可分为:粉末样品,薄膜样品,金属试样的表面复型.不同的样品有不同的制备手段,下面分别介绍各种样品的制备. (1)粉末样品因为透射电镜样品的厚度一般要求在100nm以下,如果样品厚于100nm,则先要用研钵把样品的尺寸磨到100nm以下,然后将粉末样品溶解在无水乙醇中,用超声分散的方法将样品尽量分散,然后用支持网捞起即可. (2)薄膜样品绝大多数的TEM样品是薄膜样品,薄膜样品可做静态观察,如金相组织;析出相形态;分布,结构及与基体取向关系,错位类型,分布,密度等;也可以做动态原位观察,如相变,形变,位错运动及其相互作用.制备薄膜样品分四个步骤: a将样品切成薄片(厚度100~200微米),对韧性材料(如金属),用线锯将样品割成小于200微米的薄片;对脆性材料(如Si,GaAs,NaCl,MgO)可以刀将其解理或用金刚石圆盘锯将其切割,或用超薄切片法直接切割. b切割成φ3mm的圆片用超声钻或puncher将φ3mm薄圆片从材料薄片上切下来.

透射电镜结构原理及明暗场成像#精选、

2017 年秋季学期研究生课程考核 (读书报告、研究报告) 考核科目:材料显微分析实践 考核项目:透射电镜的明暗场成像技术学生所在院(系):材料学院 学生所在学科:材料工程 学生姓名:张珞斌 学号:17S109247 学生类别:专硕 考核结果阅卷人

透射电镜结构原理及明暗场成像 一、实验内容及实验目的 1.结合透射电镜实物介绍其基本结构及工作原理,以加深对透射电镜结构的整体印象,加深对透射电镜工作原理的了解。 2.选用合适的样品,通过明暗场像操作的实际演示,了解明暗场成像原理。 二、透射电镜的基本结构及工作原理 透射电子显微镜是一种具有高分辨率、高放大倍数的电子光学仪器,被广泛应用于材料科学等研究领域。透射电镜以波长极短的电子束作为光源,电子束经由聚光镜系统的电磁透镜将其聚焦成一束近似平行的光线穿透样品,再经成像系统的电磁透镜成像和放大,然后电子束投射到主镜简最下方的荧光屏上而形成所观察的图像。在材料科学研究领域,透射电镜主要可用于材料微区的组织形貌观察、晶体缺陷分析和晶体结构测定。 透射电子显微镜按加速电压分类,通常可分为常规电镜(100kV)、高压电镜(300kV)和超高压电镜(500kV以上)。提高加速电压,可缩短入射电子的波长。一方面有利于提高电镜的分辨率;同时又可以提高对试样的穿透能力,这不仅可以放宽对试样减薄的要求,而且厚试样与近二维状态的薄试样相比,更接近三维的实际情况。就当前各研究领域使用的透射电镜来看,其主要三个性能指标大致如下: 加速电压:80~3000kV 分辨率:点分辨率为0.2~0.35nm、线分辨率为0.1~0.2nm 最高放大倍数:30~100万倍 尽管近年来商品电镜的型号繁多,高性能多用途的透射电镜不断出现,但总体说来,透射电镜一般由电子光学系统、真空系统、电源及控制系统三大部分组成。此外,还包括一些附加的仪器和部件、软件等。有关的透射电镜的工作原理可参照教材,并结合本实验室的透射电镜,根据具体情况进行介绍和讲解。以下仅对透射电镜的基本结构作简单介绍。 2.1电子光学系统 电子光学系统通常又称为镜筒,是电镜的最基本组成部分,是用于提供照明、成像、显像和记录的装置。整个镜筒自上而下顺序排列着电子枪、双聚光镜、样品室、物镜、中间镜、投影镜、观察室、荧光屏及照相室等。通常又把电子光学系统分为照明、成像和观察记录部分。 2.2 真空系统

透射电镜常规样品制备流程

透射电镜样品制备流程 由于透射电镜能观察的样品必须很薄(60~70nm),所以透射电镜的样品准备要求很严格,方法也很单一,仅有一下两种方法: 一.负染色技术 负染色技术简单快速,可以显示生物大分子、细菌、分离的细胞器以及蛋白晶体等样品的形态、结构、大小以及表面结构的特征。尤其在病毒学中,负染色技术有着广泛的应用。 样品要求:①样品悬液的纯度不要求很纯,但是如果杂质太多,如大量的细胞碎片,培养基残渣,糖类以及各种盐类结晶的存在都会干扰染色反应和电镜的观察。尤其是不能有过多的糖类,因为在电子束的轰击下,糖类容易碳化而有碍观察,因此样品要适当提纯。②样品悬液的浓度要适中,太稀在电镜下很难找到样品,太浓样品堆积影响观察。 操作流程:吸取样品悬液滴到有膜的铜网上,静置数分钟,然后用滤纸吸去多余的液体,滴上负染色液,染色1~2min后滤纸吸去负染色液,待干后用于电镜观察。 二、超薄切片技术 超薄切片技术是为透射电镜观察提供薄样品的专门技术,是生物学中研究细胞超微结构最常用的技术。广泛应用于生物体的各种细胞的超微结构观察。一般厚度在10~100nm的切片称为超薄切片,制作这种切片的技术叫做超薄切片技术。超薄切片制作的过程包括取材、固定、脱水、渗透、包埋、聚合、切片和染色等几个环节,和一般光学显微镜的石蜡切片过程相似。但是,超薄切片切片过程更为细致与复杂,要求更严格,而且所用的试剂比较昂贵、配制复杂、强致癌。具体操作步骤、注意事项如下: 1.取材和前固定:快速的切取大小为0.5~1.0mm3的样品块,一分钟内把组织(样品)块浸入2.5%戊二醛(进口品质)溶液(取样前来平台领取),每个离心管内装20个以上的样品块,作为一个样送到平台。要求:①取材前一定要和工作人员取得电话联系!②取材选择部位要准确可靠,确保每块材料都是要观察的部位。③所有植物样品一定要抽真空,能够沉底的样品也抽真空15mins,不能沉底的样品一定要抽真空致沉底!④细菌、散在细胞等不能成块的样品,加戊二醛固定液,离心沉淀后送到平台,由平台工作人员处理。⑤泡在前固定液的材料最多可以放2周。 2.漂洗:用1M PBS Buffer Ph 7.2冲洗3次,每次15mins。 3.后固定:加入1%锇酸处理到样品变黑。植物样品一般处理2.5hours,真菌、细菌一般处理2hours,动物样品处理1hours。注意事项:①锇酸剧毒物质,易挥发,操作时要在毒品柜中谨慎使用。②锇酸比较昂贵,需特别节约使用。

透射电镜粉末样品制备方法

一、样品要求 1.粉末样品基本要求 (1)单颗粉末尺寸最好小于1μm; (2)无磁性; (3)以无机成分为主,否则会造成电镜严重的污染,高压跳掉,甚至击坏高压枪; 2.块状样品基本要求 (1)需要电解减薄或离子减薄,获得几十纳米的薄区才能观察; (2)如晶粒尺寸小于1μm,也可用破碎等机械方法制成粉末来观察; (3)无磁性; (4)块状样品制备复杂、耗时长、工序多、需要由经验的老师指导或制备;样品的制备好坏直接影响到后面电镜的观察和分析。所以块状样品制备之前,最好与TEM的老师进行沟通和请教,或交由老师制备。 二、送样品前的准备工作 1.目的要明确:(1)做什么内容(如确定纳米棒的生长方向,特定观察分析某个晶面的缺陷,相结构分析,主相与第二相的取向关系,界面晶格匹配等等);(2)希望能解决什么问题; 2.样品通过X-Ray粉末衍射(XRD)测试、并确定结构后,再决定是否做HRTEM;这样即可节省时间,又能在XRD 的基础上获得更多的微观结构信息。 3.做HRTEM前,请带上XRD数据及其他实验结果,与HRTEM老师进行必要的沟通,以判断能否达到目的;同时HRTEM老师还会根据您的其他实验数据,向您提供好的建议,这样不但能满足您的要求,甚至使测试内容做得更深,提高论文的档次。 三、粉末样品的制备 1.选择高质量的微栅网(直径3mm),这是关系到能否拍摄出高质量高分辨电镜照片的第一步;(注:高质量的微栅网目前本实验室还不能制备,是外购的,价格20元/只;普通碳膜铜网免费提供使用。) 2.用镊子小心取出微栅网,将膜面朝上(在灯光下观察显示有光泽的面,即膜面),轻轻平放在白色滤纸上; 3.取适量的粉末和乙醇分别加入小烧杯,进行超声振荡10~30min,过3~5 min 后,用玻璃毛细管吸取粉末和乙醇的均匀混合液,然后滴2~3滴该混合液体到微

透射电镜样品的制备方法(精)

试验材料为经过热处理后的钢材! 一、样品要求 1.粉末样品基本要求 (1)单颗粉末尺寸最好小于1μm; (2)无磁性; (3)以无机成分为主,否则会造成电镜严重的污染,高压跳掉,甚至击坏高压枪; 2.块状样品基本要求 (1)需要电解减薄或离子减薄,获得几十纳米的薄区才能观察; (2)如晶粒尺寸小于1μm,也可用破碎等机械方法制成粉末来观察; (3)无磁性; (4)块状样品制备复杂、耗时长、工序多、需要由经验的老师指导或制备;样品的制备好坏直接影响到后面电镜的观察和分析。所以块状样品制备之前,最好与TEM的老师进行沟通和请教,或交由老师制备。 二、送样品前的准备工作 1.目的要明确:(1)做什么内容(如确定纳米棒的生长方向,特定观察分析某个晶面的缺陷,相结构分析,主相与第二相的取向关系,界面晶格匹配等等);(2)希望能解决什么问题; 2.样品通过X-Ray粉末衍射(XRD)测试、并确定结构后,再决定是否做HRTEM;这样即可节省时间,又能在XRD的基础上获得更多的微观结构信息。 3.做HRTEM前,请带上XRD数据及其他实验结果,与HRTEM老师进行必要的沟通,以判断能否达到目的;同时HRTEM老师还会根据您的其他实验数据,向您提供好的建议,这样不但能满足您的要求,甚至使测试内容做得更深,提高论文的档次。 三、粉末样品的制备 1.选择高质量的微栅网(直径3mm),这是关系到能否拍摄出高质量高分辨电镜照片的第一步;(注:高质量的微栅网目前本实验室还不能制备,是外购的,价格20元/只;普通碳膜铜网免费提供使用。) 2.用镊子小心取出微栅网,将膜面朝上(在灯光下观察显示有光泽的面,即膜面),轻轻平放在白色滤纸上; 3.取适量的粉末和乙醇分别加入小烧杯,进行超声振荡10~30min,过3~5 min 后,用玻璃毛细管吸取粉末和乙醇的均匀混合液,然后滴2~3滴该混合液体到微栅网上(如粉末是黑色,则当微栅网周围的白色滤纸表面变得微黑,此时便适中。滴得太多,则粉末分散不开,不利于观察,同时粉末掉入电镜的几率大增,严重影响电镜的使用寿命;滴得太少,则对电镜观察不利,难以找到实验所要求粉末颗粒。建议由老师制备或在老师指导下制备。)

透射电子显微镜实验讲义

一、实验名称 透射电子显微镜用于无机纳米材料的检测。 二、实验目的 1.认知透射电子显微镜的基本原理,了解有关仪器的主要结构; 2.学习利用此项电子显微技术观察、分析物质结构的方法,主要包括:常规成 像、高分辨成像、电子衍射和能谱分析等; 3.重点帮助学生掌握纳米材料等的微观形貌和结构测试结果的判读,主要包括: 材料的尺寸、大小均匀性、分散性、几何形状,以及材料的晶体结构和生长取向等。 三、实验原理 透射电子显微技术自20世纪30年代诞生以来,经过数十年的发展,现已成为材料、化学化工、物理、生物等领域科学研究中物质微观结构观察、测试十分重要的手段,尤其是近20多年来,纳米材料研究的快速发展又赋予这一电子显微技术以极大的生命力,可以这样说,没有透射电子显微镜,就无法开展纳米材料的研究。 透射电子显微镜在成像原理上与光学显微镜是类似的,所不同的是光学显微镜以可见光做光源,而透射电子显微镜则以高速运动的电子束为“光源”。在光学显微镜中,将可见光聚焦成像的是玻璃透镜;在电子显微镜中,相应的电子聚焦功能是电磁透镜,它利用了带电粒子与磁场间的相互作用。 在真空系统中,由电子枪发射出的电子经加速后,通过磁透镜照射在样品上。透过样品的电子被电子透镜放大成像。成像原理是复杂的,可发生透射、散射、吸收、干涉和衍射等多种效应,使得在相平面形成衬度(即明暗对比),从而显示出透射、衍射、高分辨等图像。对于非晶样品而言,形成的是质厚忖度像,当入射电子透过此类样品时,成像效果与样品的厚度或密度有关,即电子碰到的原子数量越多,或样品的原子序数越大,均可使入射电子与原子核产生较强的排斥作用——电子散射,使面通过物镜光阑参与成像的电子强度降低,忖度像变淡。另外,对于晶体样品而言,由于入射电子波长极短,与物质作用满足布拉格

第二十五章 透射电子显微镜分析

—1— 第25章 透射电子显微镜 透射电子显微技术自20世纪30年代诞生以来,经过数十年的发展,现已成为材料、化学化工、物理、生物等领域科学研究中物质微观结构观察、测试十分重要的手段。电子显微学是一门探索电子与固态物质结构相互作用的科学,电子显微镜把人眼睛的分辨能力从大约0.2 mm 拓展至亚原子量级(<0.1nm),大大增强了人们观察世界的能力。尤其是近20多年来,随着科学技术发展进入纳米科技时代,纳米材料研究的快速发展又赋予这一电子显微技术以极大的生命力,可以这样说,没有透射电子显微镜,就无法开展纳米材料的研究;没有电子显微镜,开展现代科学技术研究是不可想象的。目前,它的发展已与其他学科的发展息息相关,密切联系在一起。 25.1 基本原理 透射电子显微镜在成像原理上与光学显微镜是类似的(图25-1),所不同的是光学显微镜以可见光做光源,而透射电子显微镜则以高速运动的电子束为“光源”。在光学显微镜中,将可见光聚焦成像的是玻璃透镜;在电子显微镜中,相应的电子聚焦功能是电磁透镜,它利用了带电粒子与磁场间的相互作用。 理论上,光学显微镜所能达到的最大分辨率d ,受到照射在样品上的光子波长λ以及光学系统的数值孔径N A 的限制: 2sin 2A d n N λ λ α=≈ (25-1) 在20世纪初,科学家就已发现理论上使用电子可以突破可见光的光波波长限制(波长范围400~700nm )。由于电子具有波粒二象性,而电子的波动特性则意味着一束电子具有与一束电磁辐射相似的性质。电子波长可以通过徳布罗意公式使用电子的动能推导出。由于在TEM 中,电子的速度接近光速,需要对其进行相对论修正: e λ≈ (25-2) 式中,h 表示普朗克常数;m 0表示电子的静质量;E 是加速电子的能量;c 为光速。电子显微镜中的电子通常通过电子热发射过程或者采用场电子发射方式得到。随后电子通过电势差进行加速,并通过静电场与电磁透镜聚焦在样品上。透射出的电子束包含有电子强度、相位、以及周期性的信息,这些信息将被用于成像。 在真空系统中,由电子枪发射出的电子经加速后,通过磁透镜照射在样品上。透过样品的电子被电子透镜放大成像。成像原理是复杂的,可发生透射、散射、吸收、干涉和衍射等多种效应,使得在相平面形成衬度(即明暗对比),从而显示出透射、衍射、高分辨等图像。对于非晶样品而言,形成的是质厚衬度像,当入射电子透过此类样品时,成像效果与样品的厚度或密度有关,即电子碰到的原子数量越多,或样品的原子序数越大,均可使入射电子与原子核产生较强的排斥作用——电子散射,使面通过物镜光阑参与成像的电子强度降低,衬度像变淡。另外,对于晶体样品而言,由于入射电子波长极短,与物质作用满足布拉格(Bragg )方程,产生衍射现象,在衍射衬度模式中,像平面上图像的衬度来源于两个方面,一是质量、厚度因素,二是衍射因素;在晶体样品超薄的情况下(如10nm 左右),可使透射电子显微镜具有高分辨成像的功能,可用于材料结构的精细分析,

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