一填空题
1、材料化学是研究材料的_______________，__________，0____________和本文档由【中文word文档库】https://www.doczj.com/doc/aa10789210.html,提供，转载分发敬请保留本信息；
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____________学科。
2、材料按化学组成分为_____________，________________，________________和_________________
3、材料按结构分为________________，_______________和_________________。
4、晶体的基本类型分为_______________，_______________和______________。
5、晶体的缺陷按几何维度分为_____________，______________，____________和___________。
6、点缺陷划分为________________，________________和_________________这三种类型。
7、线缺陷属于一维缺陷，也叫_________________。
8、热缺陷分为___________________和______________________。
9、Ⅳ族元素半导体形成的是_______________结构。
10、________________和________________属于硅的本征缺陷。
11、软化学是在低温低压的“软环境”中制备材料的方法，主要包括______________，_____________，______________，___________________，__________________等方法。
12、材料的性能包括________________，__________________和_____________
13、半导体是一种导电性能介于_________________和_________________之间的材料，在硅中掺入V族元素（P）称为______________半导体；掺入Ⅲ族元素（B）称为__________________半导体。
14、根据状态性质与体系中所含物质的量的关系可分为两类_________________和______________________，其中温度属于_________________性质，内能属于_____________________性质。
15、热力学平衡包括_____________，_________________，_______________和______________四种平衡。
16、根据过程所处的条件，可将过程分为________________，_______________，_______________，______________，________________等过程。
17、体积功数学的表达式_______________。
18、热力学第一定律的数学表达式_______________。
19、等容过程的热量为______________，等压过程的热量为________________, 焓的定义式为H=U+PV.
20、卡诺热机的循环由四步所组成，分别为_______________，_______________，______________和____________。
21、热力学第二定律的数学表达式为_________________，吉布斯自由能的定义为_________________。
22、________________是西门子法生产多晶硅的主要前躯体，三氯氢硅的提纯技术是__________________。
23、相律的数学表达式：_______________。水的相图中单相向，两相线，三相点的自由度分别为________ ________，______________，______________。
24、二组分体系中最常用的平面图有两种：_______________和______________。
25、制备无定形材料的技术有_______________，_______________，_______________，_______________，________________，和________________。
26、_________________是最早用于制备红宝石的方法。
27、单晶生长技术可分为_______________，______________，______________和______________。
28、提拉法和区熔法属于________________，水热合成法属于________________。
29、提拉法按加热方式可以分为_______________和_______________。提拉法的生长设备是_______________。提拉法的工艺参数为_____________和_____________。
30、提拉法—晶体生长的主要过程：___________，____________，_____________，___________和____________。
31、气相沉积技术分为_________________和________________________。
32、CVD反应分为：________________，_______________ ，________________，_______________ ，和_____________五种反应。
33、聚合反应根据单体不同可分为_____________和____________。根据反应机理可分为____________和______________。聚乙烯属于__________反应，尼龙66属于_______反应。
34、由两种单体组成的共聚物,按大分子链中单体链节的排列方式可分为_________________，__________________ 和__________________ 四类。
35、接枝共聚物的聚合方式有：____________，______________和______________三种方法。
36、合成嵌段共聚物的方法有_______________和________________ 两种方法。
37.材料的功能有____________________和___________________，其中光纤属于____________________ 材料，压电材料属于_________________ 材料。
38、晶体硅的禁带宽度为__________eV，属于_______________材料
39、硅单晶主要技术参数：_____________，__________________，_________________ ，__________________，_________________等。
40.单晶硅制备方法有_______________和_________________两种方法。
41、区熔法生长技术中，主要有四中参杂技术为：_______________，_______________，________________ 和_____________________。
42、硅晶片上可能的污染大致有：________________，_______________，__________________和________________________ 等四种
43.硅片的清洗技术大致可分为两种：一种是_______________，另一种__________________。
44、RCA清洗技术中四种工序为：________________，_______________，_________________和________________。
45、RCA标准清洗工序1，主要应用在______________的除去，清洗液为_______________，清洗温度是_______________，清洗时间______________。46、RCA标准清洗工序2，简称为_________________，又称为________________。该工序中的清洗液是__________________。
47、RCA标准的湿试清洗技术中使用五种清洗液分别为：_____________
______________，__________________，_______________和_________________。
48、多晶硅生产过程中形成的主要副产品______________，_______________和_____________。
49、硅胶是多聚硅酸分之间脱水而形成的一种多孔性物质。其化学组成为______________，属于______________结构，它是很好的_____________，______________以及催化剂载体。
50、纳米材料的基本特征：______________，________________，_____________ ________________。
51、复合材料一般是有______与_______________复合而成，其中玻璃钎维最普通的，最廉价的增强剂。
52、复合材料按基体材料成分可分类：__________、________、___________三种复合材料。其中玻璃钢属于_________复合材料。
53、聚合物基复合材料从聚合体基体的结构形成来看，有可分为____________和___________。
54、生物材料的品种繁杂，分类方法有多种，就其材料本身的基本性质可分为：__________、___________、___________等。
55、_______________是能担负传感器任务的材料；_______________是能担负响应和控制任务的材料。
56、目前人类所利用的能源主要是______________、________________、_________________等化石燃料。
57、新能源主要包括____________、_____________、___________、____________、地热能、水能、海洋能、氢能等。
58、产生核能的核反应主要有下述两种形式：____________、_______________;其核燃料由___________________和____________________。
59、核电站所有反应堆都包括：_____________、______________和_______________三部分。
60、氢同电一样都是二次能源，即必须通过消耗一次能源才能生产出来的，主要有下列几种方式：_____________、_________________、___________________、______________。
61、目前储氢主要方式有：____________、_______________、_____________，其它化合物储氢。
62、根据环境材料定义，环境材料应具有三个明显的特征：一是__________、二是_____________、三是___________________________。
63、________________是综合考虑废弃物的排放量和废弃物的毒性行为来评价材料生产过程对环境的影响。
64、环境工程材料包括______________、______________、_______________等。
65、高分子材料又称作聚合物材料，主要包括______________、____________、_________及功能材料，四大类。
66、源头治理是实现高分子材料与环境协调发展的主渠道，在高分子材料工业发展过程中必须贯彻3R原则：_______________、________________、__________。
67、硅片加工技术中有刻蚀工艺，在刻蚀过程中，所使用的刻蚀液可为、两类。
68、冰水混合物中相数是，自由度数是。
二选择题
1、按化学组成分，光纤属于（B ）
A、金属材料
B、非金属材料
C、高分子材料
D、复合材料
2、单晶硅属于（ B ）
A、离子晶体
B、共价晶体
C、金属晶体
D、分子晶体
3、位错属于（ D ）
A、点缺陷
B、面缺陷
C、体缺陷
D、线缺陷
4、单晶硅生长技术----提拉法属于（A ）
A、熔体生长
B、溶液生长
C、气相生长
D、固相生长
5、西门子法多晶硅的主要前躯体是（ C ）
A、SiH4
B、SiH2CI2
C、SiHCI3
D、SiCI4
6、过冷液相的冷却法主要用来制备（B ）
A、微晶颗粒
B、无定形材料
C、单晶材料
D、高分子材料
7、下列操作方法中，常用于SiHCI3的提纯方法是（C ）
A、过滤
B、渗析
C、精馏
D、蒸发
8、太阳能级多晶硅的纯度通常为（C ）
A、99.99%
B、99.999%
C、99.9999%
D、99.99999%
9、原子挤入晶格间隙中而在原来的位置上留下空位，属于（A ）
A、弗伦克尔缺陷
B、肖特基缺陷
C、杂质缺陷
D、非化学计量缺陷
10、卡诺热机的循环过程的组成（ C ）
A、两个等压过程和两个等温过程
B、两个等压过程和两个绝热过程
C、两个绝热过程和两个等温过程
D、两个等容过程和两个等温过程
11、对于二组分系统，相数最多的为（D）
A、1
B、2
C、3
D、4
12、下列状态性质中属于容量性质的是（B ）
A、温度
B、体积
C、粘度
D、密度
13、下列函数不属于状态函数的是（C ）
A、温度
B、压力
C、热量
D、内能
14、最早用于制备红宝石的方法是（B ）
A、提拉法
B、焰熔法
C、区熔法
D、水热合成法
15、硅的禁带宽度为（ A ）
A1.12e B2.11ev C.3.12ev D0.12ev
16、下列操作方法中，常用于SiHCI3的提纯方法是（ C ）
A、过滤
B、渗析
C、精馏
D、蒸发
17湿式清洗技术中SCI工序除去的污染为（A ）
A、微粒
B、金属离子
C、有机物
D、自然氧化层
18、西门子法生产多晶硅进行酸性腐蚀处理中混合酸为（C）
A、HNO3和HCI
B、H2SO4和HCI
C、HF和HNO3
D、CH3COOH和HCI
19、目前在中国生产多晶硅主要采用的方法是（ A ）
A、改良西门子法
B、硅烷法
C、流化床法
D、冶金法
20、下列属于可再生能源的是（ B ）
A、天然气
B、氢源
C、煤
D、石油
21、“白色污染”产生原因是（D ）
A、CO2
B、NOx
C、氟利昂
D、塑料
22、不属于多晶硅生产副产品的处理-----作为生产光纤的原料的制备方法是（ A ）
A、PVD法
B、V AD法
C、OVD法
D、MCVD法
23、下列材料不属于非金属材料的是（D ）
A、硅材料
B、陶瓷
C、水泥
D、塑料
24、氯化钠晶体属于（A ）
A、离子晶体
B、共价晶体
C、金属晶体
D、分子晶体
25、对于二组分系统，自由度数最多的为（C ）
A、1
B、2
C、3
D、4
26、纳米微粒的熔点比正常规体低得多，这是属于纳米材料的（C ）特性
A、光学性质
B、力学性质
C、热力学性质
D、磁学性质
27、下列方法中不属于制备接枝共聚物的方法（D ）
A、化学法
B、辐射法
C、机械化学法
D、物理法
28、按化学组成分类，塑料是属于（C）
A、金属材料
B、非金属材料
C、高分子材料
D、复合材料
29、标准式清洗技术的工序，RCA标准清洗工序1又可称为（ A ）
A、APM
B、HPM
C、SPM
D、DHF
30、下列不属于硅片加工技术的过程是（ D ）
A、切片
B、化学刻蚀
C、晶边圆磨
D、等径
31、半导体多晶硅的电子级别为（ D ）
A、99.9% B99.99% C、99.9999% D、99.99999999%
14、下列物质中不属于改良西门子法生产多晶硅的副产产品（A ）
A、甲烷
B、四氯化硅
C、TCS
D、DCS
32.化学锈蚀属于材料的性能的（ A ）
A.化学性能
B.力学性能
C.热学性能
D.物理性能
三名词解释
1、材料科学：是运用化学的研究成果，将具有功能性的物质制备成可以应用的材料及器件，这些材料具有指定的形态，具有规定的性质或者具有能感应外界条件变化而产生相应的执行行为。
2、材料设计：是指通过理论与计算预报新材料的组合，结构与性能，或者说，通过理论设计来“定做”具有特色性能的新材料。
3、量子化学：是物理与化学的交叉学科，是利用量子力学理论研究化学现象,过程与规律的学科分支。
4、化学热力学：是从化学角度出发，研究材料的各种变化过程的能量转化关系以及过程进行的方向和限度的一门学科。
5、化学动力学：是从化学角度出发，研究有光过程或放映的物质迁移，反应机理，反应速度以及控制反应速度方法的一门学科。
6、晶体缺陷：：晶体中质点的排列往往存在某种不规则性或不完善性，表现为晶体结构中局部范围内、质点排布偏离周期性重复的空间点阵规则而出现错乱的现象。实际晶体中分子偏离理想的周期性排列的区域称作晶体缺陷。
7、弗仑克尔缺陷：指弗仑克尔原子或离子离开平衡位置后，挤入晶体间隙中，形成间隙原子离子，同时在原来位置上留下空位，由此产生的缺陷。
8、肖特基缺陷：肖特基缺陷原子或离子移动到晶体表面或晶界的格点位上，在晶体内部留下相应的空位。
9、施主杂质与受主杂质，N型半导体与P型半导体：在半导体器件制造过程中，通常会在硅中加入杂质，如加人的杂质是V族元素（如磷），由于V族元素（如P）比IV族元素（如Si）多一个价电子，这个多余的价电子可能游离出来成为自由电子，因此导带中的电子比价带中的空穴多。造成费米能级带向导带偏移。加入的这种杂质称为施主杂质，这种半导体称为N型半导体。如果加入的杂质为Ⅲ族元素（如硼）由于Ⅲ族元素比IV族元素少一个价电子，所以价带中空穴增多，造成费米能级带向价带偏移。加入的三族元素称为受主杂质，这种半导体称为P型半导体
10、体系：我们把一物质或空间人为地分隔开来，作为研究对象的那一部分
11、环境：体系以外与体系密切相关的其他部分。
12、状态：我们把物理性质和化学性质的综合表现称之为体系的状态。
13、状态函数：用来描述和规定体系状态的各种性质称之为状态函数或状态性质。
14、过程：体系状态所发生的一切变化。
15、途径：通常把完成某一过程的具体步骤称为途径。
16、热量：在体系和环境之间由于存在温度差而引起的体系状态发生变化中，通过体系与环境之间的界面流动的能量，并且此能量总是从高温点流向低温点。17、功：在体系的状态发生变化中，通过体系与环境之间的界面流动的能量，并且此能量总是可通过适当装置转变成环境中某一重物的升降。
18、内能：体系内部所有能量之总和。
19、工业硅：以硅石和碳质还原剂等为原料经碳热还原法生产的含硅97%以上的产品我国通常称为工业硅或冶金级硅。
20、相：体系内物理和化学性质均匀一致的部分称为一相。
21、相数：体系中所具有的相的总数称为相数。
22、组分数：足以确定平衡体系中的所有各相组成所需要的最少数目的独立物种数称为独立组分数简称为组分数。
23、物种数：体系中所包含的化学物质的种类数。
24、体系的自由度：在一定范围内可以任意独立改变，而不致引起体系中旧相消失或新相产生的变数的数目。
25、加聚反应：单体通过相互加成而形成聚合物的反应.
26、缩聚反应：带有多个可相互反应的官能团的单体通过有机化学中各种缩合反应消去某些小分子而形成聚合物的反应。
27、共聚物：两种或两种以上的单体共同聚合时，得到的聚合物分子链中含有两种或两种以上的单体链节，这种聚合物称为共聚物。
28、材料的功能：通常是指向材料给予某种作用或输入某种能量之后经过材料的传输或转换，在将其输出而提供外部相同或不同的一种作用。
29、一次功能材料：向某一种材料给予的作用或输入的能量与通过材料输出而给予外部作用能量是属于同一类的。
30、二次功能材料：向某一种材料给予的作用或输入的能量，当其通过该功能材料之后，所给予的作用或输入的能量发生了转移。
31、改良西门子法：指用氯和氢合成的氯化氢，氯化氢和工业硅粉在一定的温度
下合成三氯氢硅，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生成高纯多晶硅。
32、提拉法：此法也称CZ法，是将硅原料在石英坩埚中加热融化，在将籽晶插入液面，通过旋转和上拉长出单晶硅。
33、悬浮区熔法：将一多晶硅棒通过环带状加热器使多晶硅棒产生局部融化现象，在控制凝固过程而生成单晶棒。
34、纳米材料：指块体中的颗粒，粉体粒度在10~100nm之间，其材料结构属于原子簇和宏观物体的过渡区域，既非典型的微观系统，亦非典型的宏观系统；从材料的结构单元层次来说，它介于宏观物质和微观原子；分子的中间领域。35、复合材料：有两种或两种以上物理和化学性质不同的物质组合而成的一种多相固体材料。
36、生物材料：指用于与生命系统接触和发生相互作用的，并能对其细胞组织和器官进行诊断治疗，替换修复或诱导再生的一类天然或人工合成的特殊功能材料。
37、相律：指在多相平衡体系中，联系体系内相数，组分数，自由度数及影响物质性质的外界因素之间数量关系的一般规律。
四、简答题
1、材料化学的核心目标？
1）、应用化学的理论和方法对材料生产与加工过程进行系统的研究，其目的是在材料高性能化的同时最大限度地降低材料生产对资源与能源的消耗和环境的污染，实现材料设备的高质量、低成本、环境友好和可循环再生；2）、依托新材料，入高型分离材料，新型催化材料等发展新的化工技术急理论，特别是新的过程工程技术，形成新的流程工艺和集成技术，以达到高效，低耗、无污染的目的。
2、晶体的结构特性？
1）、晶体在宏观上市均匀的，这是组成晶体的单元——晶胞重复摆列的结果；
2）、晶体一般具有各项异性的性质，即沿晶体的不同方向的电导率、热导率、折光率、解理性等不一定相同；
3)、晶体在宏观上表现出不同程度的对称性，具有规则几何外形，所有晶体均有自发地形成封闭的集合多面体外形能力的性质；
4）、晶体在融化过程中有固体的熔点、而非晶体没有；
5)、晶体能使X射线发生衍射，而非晶体则不能。
3、热力学第一定律、第二定律、第三定律的主要内容？
1）热力学第一定律,能量守恒及转换定律，即体系内各种形式的能量可以相互的转换，但总值不变。
2)、热力学第二定律，①、热不可能从低温物体传递到高温物体而不引起其他变化；②、不可能从单一热源吸取热全部转化成功而不引起其他变化；
3）、热力学第三定律：任何纯物质的完美晶体在绝对零度下的熵值为零。
4、状态函数的特征？
1)、体系的状态确定之后，他的每一状态函数都具有单一的确定数值。这些数值只决定于体系现在所处的状态而与装他的历史无关；
2）、当体系的状态发生变化时，状态函数也发生变化，其改变值只决定于
体系的失态和终态，而与变化的具体步骤无关。同时，无论经过多么复杂的变化，只有体系恢复原状态，则体系所有性质都恢复原状态。
5、冶金级硅生产过程中一般要做好的几个方向？
1）、经常观察炉矿，即使调整配料比，保持适宜的SiO2与碳的分子比，适宜的物料粒度和混匀程度，可防止过多的SiC生成。
2）、通过选择合理的炉子结构参数和电器参数，可保证反应区与足够高的温度，分解生成的SiC使反应向有利于生成硅的方向进行。
3）、及时捣炉，帮助沉料，可避免炉内过热造成硅的挥发或再氧化生成SiO，减少炉料损失，提高硅的回收率。
4）、保持料层有良好的透气性，可及时排除反应生成的气体，有利于反应向生成硅的方向进行，同时又可以防止锅炉内的气体从内部冲出，造成热量损失和SiO的大量逸出。
6、晶体材料的准备方法？
1）、陶瓷法：在恒温条件下，利用原料化合物的反应来制备材料，这是最通常的方法，而如果这些原料化合物都是固体的话，那么这种方法就称为陶瓷法，也称固态反应法；
2）、化学法：与陶瓷法相比，化学法能够得到前者所难以得到的高纯和均相的材料，并且能够在较高的温度下，采取较容易的方法来得到所需制备的材料。化学法较多采用三种基本法，前身物法、局部氧化还原法和局部离子交换法。
3）、其他方法：在晶体材料的制备中，化学法相对于陶瓷而言，可以在较温和的条件下进行，且具有去本身的特点，然而对于有些材料，包括一些很有价值的材料，则任然需要在某些特殊或较强烈的条件下进行。
a、高压法：通过提高外加的静压力来加速固相间的反应
b、电弧法：在相当到的温度下进行的材料制备方法，所不同的是电弧法的制备是在熔融状态下进行的；
c、渣壳熔炼法：基于熔融状态下的反应物比固态更容易发生反应的原理，达到加速固相反应的目的。
7、提拉法的优点？
1）、在生产过程中可以方便的观察晶体生长状况。
2）、晶体在熔体表面处生长，而不与坩埚接触，这样能显著减少晶体的应力，并防止埚避的寄生成核；
3)、可以方便地使用定向籽晶和“缩颈”工艺。“缩颈”后的籽晶，其位错可以很大程度的减少，使生长出来的晶体具有较低的位错密度。
4）、容易控制生长过程，生长速度快，易于得到大尺寸和高质量的晶体。
8、CVD反应过程？
1）、反应气体在气体生成器（发泡器）中蒸发；
2）、反应气体被输送；
3）反应气体进入反应室，到达衬底表面；
4）、反应气体分子被衬底表面吸附，在衬底表面发生化学反应，成核；
5）、生成物在衬底表面扩散；
6）、生成物从衬底表面脱离；
7）气体被抽出反应室。
9、自由基聚合的特征？
1）、自由基反应在微观上可以明显地区分成链的引发、链增长、链终止、
链转移等基元反应。其中引发速度最小，是控制总聚合速率的关键。可以概括为慢引发、快增长、速终止；
2）、只有链增长反应才能使聚合度增加。一个单体分子从引发，经过链增长和链终止，至转变成大分子时间极短。不能停留在中间聚合度阶段，反应混合物仅由单体和聚合物组成。在聚合全过程中，聚合度变化较小。
3）、在聚合过程中，单体浓度逐步降低，聚合物浓度相应提高，延长聚合时间主要是提高转化率，对分子量影响较小；
4）、少量（0.01%~0.1%）阻聚剂足以使自由基聚合反应终止。
10、功能高分子材料的设计与制备？
使高分子材料具备一次功能或二次功能特征，大致可归纳四个途径。
1）、通过分子设计（包括高分子结构设计和官能团设计），用化学方法合成具有某种功能的高分子。
2）、将已有的高分子材料予以特殊工艺加工，赋予材料的某种功能；
3）、通过两种或二种以上具有不同功能或性能的材料进行复合，从而获得新的功能材料。
4）、高分子（或无机）材料采用物理或化学方法进行表面改性又是也可以获得新功能。
11、金属基复合材料的制备方法？
1）、固态法；固态法是指基体处于固态制造金属基复合材料的方法。固态法包括粉末冶金法、热压法、热等静压法、扎制发、挤压和拉拔发、爆炸焊接发等；
2）、液态法：液态法是指基体金属处于熔融状态下雨固态的增强材料复合在一起的方法。真空压力浸渍法、挤压铸造法、搅拌铸造法、液态金属浸渍法、共喷沉积法、热喷涂法等都属于液态法。
3）、原位生成法；原位生成法是指增强材料在复合材料制造过程中在基体生成和生长的方法。定向永固法和反应自生成法属于原位生成法。
12、陶瓷基复合材料的制备方法？
1）、注射成型：
2）、化学气相沉积成型：
3）、电泳沉积成型：
4）、溶胶—凝胶法成型：
13、从SiO2到太阳能电池的产业链？
二氧化硅→冶金级硅→高纯三氯化硅→高纯多晶硅原料→单晶硅棒或多晶硅锭→硅片→太阳能电池→电池组件
14、多晶硅的制备方法？
1）、改良西门子法——闭环式三氯氢硅还原法
改良西门子法师用氯和氢合成氯化氢，氯化氢和工业硅粉在一定得温度下合成三氯氢硅，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多晶硅，
2）、硅烷法——硅烷热分解法
硅烷（SiH4）是以四氯化硅氢化法、硅合金分解法、氢化物还原法、硅的直接氢化法等方法制取。然后将制得得硅烷气提纯后在热分解炉成产纯度较高的棒状多晶硅。
3）、流化床法
以四氯化硅、氢气、氯化氢和工业硅为原料在流化床类（沸腾床）高温高压先生产三氯氢硅、将三氯氢硅在进一步歧化加氢反应生产二氯二氢硅，继而生成硅烷气。制得得硅烷气通入加有小颗粒的流化床反应炉内进行连续热分解反应，生成粒状多晶硅产品。因为流化床反应炉内参与反应的硅面积大，生产效率高，电耗也=与成本低，适用于大规模生产太阳能级多晶硅。唯一的缺点是安全性差，危险性大。其次是产品的纯度不高，但基本能满足太阳能电池生产的使用。
4）太阳能级多晶硅新工艺技术
①冶金法生产太阳能级多晶硅②气液沉积法生产粒状太阳能级多晶硅③重掺杂废料提炼法生产太阳能级多晶硅。
15、多晶硅生产技术发展的特点？
1）、研发的新工艺技术几乎全是以满足抬眼更光伏硅电池行业所需要的太阳能级多晶硅；
2）、研发的新工艺技术主要集中体现在多晶硅生产反应器装置上，多晶硅生产反应器是复杂的多晶硅生产系统中的一个提高产能、降低能耗的关键装置；
3）、研发的流化床（FBR）反应器粒状多晶硅生成的工艺技术，将是生产太阳能级多晶硅首选的工艺技术。其次是研发的石墨管管状炉反应器，也是降低对精贵生产电耗，实现连续性大规模化生产，提高生产效率，降低生产成本的新工艺技术。
4）、流化床（FBR）反应器和石墨管状炉反应器，生产粒状多晶硅的原料可以用硅烷、二氯二硅或使三氯氢硅；
5）在2005年以前多晶硅扩产中100%都是采用改良西门子法。在2005年以后多晶硅扩产中Elkem外，基本上仍采用改良西门子工艺。
16、改良西门子法工艺流程？
1）、氢气制备与净化工序2）、HCL合成工序3）、三氯氢硅合成工序4）、合成气干法分离工序5）、氯硅烷分离、提纯工序6）、三氯氢硅氢还原工序7）、还原尾气干法分离工序8）、四氯氢硅氢化工序，9）、氢化气干法分离工序，10）、氯硅烷储存工序11）、硅芯制备工序12）、产品整理工序13）、废气及残液处理工序14）、工艺废料处理工序。
17、硅片的加工过程？
硅片的成形主要包括了单晶生长、切断、定向外径滚磨、平边或V型槽处理、切片、结晶定位、晶边圆磨、晶片研磨、化学腐蚀、抛光及各步骤所需的表面清洗过程。
18、新式的清洗工艺的优点
1）、室温下操作，可避免清洗用化学品的大量挥发；
2）、大幅减少化学品及超纯水的使用数量；
3）、减少操作步骤；
4）、经过特殊化学反应设计，可以达到增强清洗效果。
19、纳米材料的主要制备方法？
1)、物理方法；
a、高温蒸发法（物理色相沉淀发），利用各种热源促使金属等块体材料蒸发气化，然后急骤冷却沉积，得到纳米材料。
b、高能球磨法，利用球磨机得转动或震动是硬球队原料进行强烈的撞击、研磨和搅拌，是金属或合金或复合材料粉碎为纳米级的微粒。
2）、化学方法
a、化学气相沉积法，气态下使化合物通过热分解或同其他的物质发生化学变化生成构成物质的基本粒子，再经过成核和生长两个阶段形成纳米材料。
b、化学液相沉淀发，在水或其他溶剂的溶液中，加入沉淀剂，是原溶液的阳离子直接沉淀或发生水解，生成不溶性的氢氧化物、氧化物或无机盐类，将沉淀热处理之后得到纳米级得微粒。
C、水热合成法，反应物和谁在密闭容器中加热到1000度以上，且压力大于10 000 000帕是，反应物发生变化形成纳米微粒，在经分离和热处理得到纳米粒子。
d、溶液—凝胶法，金属化合物经过溶液、溶胶、凝胶而固话，在经低温热处理而生成纳米粒子，其特点是反应物中多，产物颗粒均一，过程易控制。
20、环境材料的研究内容？
1)、.材料的环境协调性评价；
2)、材料的绿色设计；
3)、材料的清洁生产技术；
4)、绿色材料的研究与开发；
5)、材料资源再生和循环制备。
21、实现高分子材料与环境协调发展的技术？
1）、高分子材料的零排放技术：
2）、采用无毒无害的原料：
3）、利用可再生能源代替合成树脂：
4）、回收与回收利用：
5）、仿酶催化技术。
22、高分子环境材料的发展方向？
1）高分子合成工业的绿色化：在高分子材料的合成与制备过程中，使用洁净技术，减少“三废”的排放。
2）、高分子废物的再生循环技术：高分子产品使用周期不很长，气废物特别是一次性塑料制品成为城市垃圾的重要来源。
3）、可降解高分子材料：高分子材料的降解技术，也可成为高分子材料的零排放。
4）、长寿命材料：发展超长寿命的高分子材料，是减低资源开发速度，有效利用资源，减少高分子才废物的有效途径之一。
5）、环境友好的新型高分子功能材料：发展高分子功能材料，生产具有高附加值的精细化工产品，是实现资源利用率最大化的有效途径之一
五．计算题
1．热力学第一定律的应用。
2.单组分体系的相图-----------水的相图。
例：在1.013×105Pa下，定量理想气体由25d3压缩到15dm3，并同时放热560J，求W与ΔU.
例：在1.013×105pa下，当2mol(l)变成H2O(g)时吸热81.3KJ，若将H2O(g)视为理想气体，求体系的ΔU.
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