§17-1 新一代集成工艺仿真系统Sentaurus Process
随着集成电路制造工艺技术的迅速发展和日趋成熟，集成电路的集成度迅速攀升，制造流程及工艺步骤也日趋复杂。当前，硅集成电路制造工艺技术已经达到了纳米级水平，纳米电子学不断深入发展的前提是基于能够达到纳米精度的制造技术【1】。反过来，纳米级器件的设计与研发则必须有相应的高精度工艺级仿真软件来支持。
通常，对于大尺寸器件（通常特指分立器件），由诸多工艺因素造成的层间界面应力、杂质分布蠕动、空间量子效应及载流子非线性输运等小尺寸效应[2]均可被忽略。而对于小尺寸（泛指超大规模集成电路中的集成化器件）器件，准确地预期及评价工艺制程后的良品率、实现其所谓的工艺级可制造性设计，则必须充分地考虑小尺寸效应。新一代集成工艺设计工具Sentaurus Process恰恰解决了纳米尺度的可制造性设计技术难题，成为当前最为先进的集成电路工艺级仿真工具。
§17-1-1 Sentaurus Process工艺级仿真工具简介[3]
Sentaurus Process是Synopsys Inc.最新推出的新一代TCAD工艺级仿真工具，被业界誉为第五代集成电路制程级仿真软件，是当前最为先进的纳米级集成工艺仿真工具。
Sentaurus Process是迄今为止集成电路制程级仿真软体中最为全面、最为灵活的多维（一维、二维、三维）工艺级仿真工具。Sentaurus Process面向当代纳米级集成电路工艺制程，全面支持小尺寸效应的仿真与模拟，用于实现甚大规模（ULSI）集成电路的工艺级虚拟设计，可显著地缩短集成电路制造工艺级设计、工艺级优化乃至晶圆芯片级产品的开发周期。
Sentaurus Process整合了Avanti的TSUPREM系列工艺级仿真工具、Taurus Process系列工艺级仿真工具及ISE的Dios系列工艺级仿真工具，将一维、两维和三维仿真集成于同一平台，在保留传统工艺级仿真工具卡命令行运行模式的基础上，又作了诸多重大改进：1.增加、设置了模型参数数据库浏览器（PDB），为用户提供修改模型参数及增加模型的方便途径；2. 增加、设置了一维模拟结果输出工具（Inspect）和二维、三维模拟结果输出工具（Tecplot SV）。Inspect提供了一维模拟结果的交互调阅。而Tecplot SV则实现了仿真曲线、曲面及三维等输出结果的可视化输出。此外，Sentaurus Process还收入了诸多近代小尺寸模型。这些当代的小尺寸模型主要有：高精度刻蚀模型及高精度淀积模型；基于Crystal-TRIM的蒙特卡罗（Monte Carlo）离子注入模型、离子注入校准模型、注入解析模型和注入损伤模型；高精度小尺寸扩散迁移模型等等。引入这些小尺寸模型，增强了仿真工具对新材料、新结构及小尺寸效应的仿真能力，适应了未来半导体工艺技术发展的需求。
以下，我们就如何使用Sentaurus Process集成电路制造工艺仿真系统、
Sentaurus Process的人机交互方式和创建、编撰工艺制程仿真卡文件的语法规则，以及Sentaurus Process工艺仿真系统所设置的文件类型等诸多方面，以教科书的方式详尽地向读者介绍当代最为先进的第五代集成工艺仿真系统Sentaurus Process。经新思科技（Synopsys Inc.）授权，首次在中国大陆地区发表Sentaurus Process的技术内容。
1Sentaurus Process的安装及启动
Sentaurus Process为国际化的大型工程化计算机仿真系统，有Unix版本及Linux版本供用户选用。对于中国内地用户，Sentaurus Process的用户许可授权及安装均由Synopsys Inc.中国分支机构（北京新思科技、上海新思科技等）提供优质的技术支持和服务。
Sentaurus Process仿真系统设置有两种启动方式。一种是交互启动及运行模式；另一种是批处理启动及运行模式。
根据用户的使用需要，若要在交互模式下启动Sentaurus Process，可以在已安装有Sentaurus Process并启动了该系统的license（软件使用许可程序）的PC计算机（若使用的是Sentaurus Process的Linux版本）或计算机工作站（若使用的是Sentaurus Process的Unix版本）命令行提示符下输入以下命令：
sprocess
输入上述命令后即可回车执行。Sentaurus Process将会显示出用户当前所使用的Sentaurus Process的系统版本及运行该系统的计算机的相关信息。随后将出现命令提示符，则表示用户的工艺制程仿真即刻进入了Sentaurus Process的交互模式。
在交互模式下，用户每输入一个卡命令语句，仿真系统就执行一步。但是，为了更有效地、较为连续地执行仿真任务，人们通常不使用交互运行模式，而是采用批处理运行模式。所谓批处理运行模式，是将用户拟定实现的所有仿真内容（归结为一系列仿真命令语句）集中在一个仿真卡命令文件（扩展名为.cmd的格式文件）中。Sentaurus Process通过处理该仿真卡命令文件来执行、实现仿真任务。
用户若以批处理模式运行Sentaurus Process，实现的方式是，键入交互模式命令（sprocess）之后要键入空格，再键入要批处理执行的仿真卡命令文件的文件名，如以下所示：
sprocess nmos.cmd
上述命令中的nmos.cmd即为要批处理执行的仿真卡命令文件名。
2创建Sentaurus Process批处理卡命令文件
编辑Sentaurus Process批处理卡命令文件可使用Unix或Linux操作系统环境下的各类文本编辑器、例如：gedit文本编辑器编辑完成。Sentaurus Process批处理卡命令文件的编撰必须遵循规定的语法规则。简述如下：
（1）系统默认对卡命令语句中的关键词及关键字母大、小写忽略。通常，人们习惯使用小写字母来书写卡命令语句。
（2）卡命令语句中定义：使用‘＃’作为卡命令行的首字母，则用来表示该卡行为注释卡行；而在变量之前使用‘$’，则表示提取该变量值。
（3）通常，卡命令行的长度不能超过一个屏幕编辑行。若命令行太长需要续行，则应在该行接近满行的位置处键入反斜线‘\’，并回车，转入下一行继续书写命令。但是，如果自然断行发生在单位双花括号之间，即自然断行的位置前有一单面的花括号，此刻不会影响命令的执行，系统会运行到下一个单面花括号所在行时，该命令则执行结束。
（4）当卡参数为逻辑参量时，以逻辑参量或逻辑参数名称直接出现。若无任何附加标识时，该逻辑参量值为真；如在该逻辑参量或逻辑参数名称前加惊叹号‘!’标识，则特指该逻辑参量值为假。
（5）卡行中使用字符串卡参数，要以双引号“”标识。例如：parameter=“string value”；
（6）卡参数中的列表要出现在花括号或双引号中，例如：parameter= {item1、item2···} 或parameter= “item1、item2···”；需要注意的是，在等号与花括号或等号与双引号之间必须要输入一个空格。否则，系统会报语法错误。
（7）Sentaurus Process卡命令文件的撰写语法支持for循环、while循环、if/else 结构、switch声明及函数定义等。
3Sentaurus Process批处理文件执行的主要命令语句
Sentaurus Process具有强大的集成电路工艺制程仿真功能，很大程度上反映在它庞大的命令集合上。Sentaurus Process批处理卡命令文件中的各命令语句是由命令关键词及与该语句相关联的参数列表构成。下面，仅就Sentaurus Process仿真系统的主要命令语句及其简要的命令功能分类介绍如下：
3.1Sentaurus Process的文件说明语句及系统控制语句
Sentaurus Process卡命令文件中的文件说明语句用于说明对文件的操作。系统控制语句用于控制系统的运行，其语句格式及相关的命令格式表述如下：help用于打印Sentaurus Process中所有可用的命令列表。
fcontinue用于重新开始执行输入的卡命令文件。
load从文件中调入数据信息，并将该数据信息插入到当前的网格中。
Logfile将注释信息输出到显示器终端及Sentaurus Process的日志文件中。
mater将当前结构中的所有材料列表调回，或者在原列表中增加新的材料信息。
exit用于终止Sentaurus Process仿真系统的运行。
fbreak使仿真进入交互模式。
fexec用于执行系统命令语句。
init用于输入在此之前保存的器件结构数据和信息。
interface返回到材料的边界位置。
mgoals使用MGOALS引擎设置网格参数。
tclsel用于选择预处理中的绘图变量。
3.2Sentaurus Process的器件结构说明语句
Sentaurus Process的器件结构说明语句用于说明Sentaurus Process所模拟的器件结构，与此相关的主要命令语句如下：
region 用于指定矩形网格中的矩形材料区域。
line 用于定义器件的矩形区域网格。
grid 执行网格设置的操作命令。
substrate_profile 定义描述器件衬底掺杂剖面分布的文件。
polygon 设置描述器件的多边形结构。
point 设置描述器件结构中的一个点。
doping 定义分段的线性掺杂剖面分布。
profile 读取数据文件并重建数据区。
refinebox 设置局部网格参数并使用MGOALS库执行网格细化。
bound 提取材料边界并返回坐标列表。
contact 设置器件仿真需要的电极结构信息。
transform 设置变换结构语句的命令。
3.3Sentaurus Process的工艺步骤说明语句
工艺步骤说明语句主要用于说明Sentaurus Process中各工艺模拟的步骤。相关命令语句如下：
deposit汽相淀积语句
diffuse高温热扩散与高温氧化
photo光刻胶淀积
mask 定义掩膜光刻和离子注入所需要的掩膜类型
etch刻蚀语句
strip可完成表面介质层或表面介质膜剥离的语句
implant 实现离子注入仿真的语句
stress计算应力结构
3.4Sentaurus Process的模型说明语句及参数说明语句
模型及参数说明语句用于定义和说明仿真中所使用的模型及其相关参数。相关命
令语句有：
Arrhenius Arrhenius用来描述常规的指数分布模型。Arrhenius命令则定义了Arrhenius所描述的表达式。
beam给出用于离子束刻蚀的模型参数。
equation完成一个模型的测试和一个方程的求解。
gas_flow为完成一个扩散步骤设定保障扩散所需的环境气氛。
kmc设定蒙特卡罗模型进行扩散行为和扩散过程的数值计算。
math设置数值参数和矩阵参数。
mechdata定义应力计算中使用的本征应力材料。
pdbDelayDouble pdbDelayDouble命令是既可以在卡命令文件中又可以在参
数数据库中使用的命令。pdbDelayDouble命令用于检索扩
散过程中使用的双参数（变量）表达式。
pdbDopantLike pdbDopantLike命令是既可以在卡命令文件中又可以在参数
数据库中使用的命令。pdbDopantLike命令用于设定用户引
入的新型掺杂剂及掺杂源。
pdbGet pdbGet命令用于提取数据库参数，以方便用户查看或修改。
pdbNewMaterial创建用户引入的新型材料。
pdbSet通常，执行pdbGet命令提取出数据库参数之后，以pdbSet 命令来完成数据库参数的修改。也可以直接执行pdbSet命令来完成数据库参数的修改。
pdbUnSetString和pdbUnSetDouble命令，表示将创建的参数从数据库中删除。
SetDFISEList设置以DF-ISE格式来保存的文件中的求解列表。
SetDiosEquilibriumModelMode和SetDiosPairModelMode表示将缺省扩散模型
设置改为Dios系统（ISE的工艺仿真工具）所采用的平衡
模型和Dios（ISE）所采用的空穴电子对模型。
SetFastMode忽略扩散和蒙特卡罗注入，以加快器件仿真的运行速度。
SetTDRList设置文件中以TDR格式保存的求解列表。
SetTemp热加工温度的设置。
SetTS4MechanicsMode
设置与Tsuprem-4相匹配的机械应力参数和氧化参数。
solution进行求解或设置求解参数。
strain_profile定义因掺杂引入的张力变化。
temp_ramp 定义热扩散过程中的环境温度。
term定义方程中使用的新表达式。
update_substrate设置衬底中的杂质属性、张力数据及晶格常量数据。
reaction指定反应性材料的相关信息。
3.5 关于Sentaurus Process的输出命令语句
输出命令语句用于用户执行仿真结果的打印输出、仿真结果的图形输出、仿真结果中的某些工艺数据及工艺参数的提取、针对器件结构和工艺过程中掺杂杂质的剖面分布图形输出，以及仿真结果中器件电学特性参数的提取等等。仿真系统所能够执行的输出命令语句直接反映了该仿真系统输出功能的强弱。仿真系统输出功能的扩充也是基于用户对仿真结果获取数量和获取方式的需求越来越高。
Sentaurus Process的主要输出命令语句如下：
alias用于设置并打印由用户指定的命令缩写。
color用于设定、填充被仿真的器件结构中某特定区域杂质浓度等值曲线的颜色。事实上，等值曲线的颜色也可以在仿真之后通过Tecplot
Sv来修改。
contour设置二维浓度剖面等值分布曲线的图形输出。
graphics启动或者更新Sentaurus Process已经设置的图形输出。
layers设置器件结构材料的边界数据及相关数据的打印输出。
print.1d 设置沿器件结构中的某一路径打印输出某物理量的值。
plot.1d设置沿器件结构某一路径输出某些物理量之间的变化曲线。
plot.2d输出器件制程中体内的两维浓度剖面分布曲线。
plot.tec启动或者更新Sentaurus Process－Tecplot SV所输出的一维、两维和三维图形。
plot.xy配置两维剖面绘图，以便在point.xy命令中使用。
point.xy完成在业已设置好的输出曲线中再增加线段的命令。
print.data以x、y、z的坐标格式打印数据。
SetPlxList 设置WritePlx命令中要保存的求解列表。
WritePlx设置输出一维掺杂信息文件。
select选择和确定后续工艺流程中需要输出的变量。
slice基于两维或三维结构的仿真提取一维杂质分布的计算数据。
struct设置网格结构及求解信息。
SheetResistance完成扩散表面薄层电阻及p-n结结深的计算。
至此为止，仅是对Sentaurus Process卡命令文件中主要卡语句及卡命令的简单表述。较为详尽的语法格式将在后续部分中的仿真实例介绍中进行详细的说明。
4Sentaurus Process所设置的文件类型
Sentaurus Process使用的主要文件类型如下：
（1）Sentaurus Process批处理卡命令文件（*.cmd）。批处理卡命令文件即是§17-1-1节中第二部分创建Sentaurus Process批处理卡命令文件一节中所讨论的批处理卡命令文件。批处理卡命令文件是实现Sentaurus Process用户与Sentaurus Process 仿真系统批处理运行模式交互的唯一途径。批处理卡命令文件的文件类型是Sentaurus Process可以识别的可编辑输入文件。由以上第三小节内容中所介绍的主要批处理命令可知，批处理卡命令文件包含了用户实现批处理方式实施集成电路制程仿真的所有任务和内容。
Sentaurus Process批处理卡命令文件(*.cmd）可通过文本编辑器打开并编辑（例如：Linux操作系统环境下的gedit（文本编辑器））。
（2）Sentaurus Processs日志文件（*.log）
Sentaurus Processs日志文件是Sentaurus Processs运行过程中自动产生的。Sentaurus Processs日志文件中包含着所有工艺步骤仿真所产生的相关信息、使用的工艺模型及工艺参数值。日志文件中所记录、生成的内容和信息则是由用户在Sentaurus Process批处理卡命令文件中设置相关命令来控制的。
（3）器件结构文件（无扩展名）
器件结构文件是由用户在卡命令文件中设定用来保存器件结构信息的格式文件。该文件是Sentaurus Process执行卡命令文件之后所生成的输出文件之一。器件结构文件包含有关器件结构和与结构相关的所有数据信息。用户可以通过器件结构文件来保所关心的、重要的器件结构信息。
（4）TDR边界文件(*_bnd.tdr）
TDR边界文件也是用户在Sentaurus Process卡命令文件中所设定的专用格式文件，仅用来存储器件的结构信息。通常，TDR边界文件可作为网格设置工具（Mesh, Noffset3D和Sentaurus Mesh）的输入文件，并能被调入到Tecplot SV中进行查看。还有一个DF-ISE格式的边界文件（*_mdr.bnd），该文件也可作为网格设置工具（Mesh和Noffset2D/3D）的输入文件。
（5）网格和掺杂信息的TDR文件（*_fps.tdr）
网格和掺杂信息的TDR文件既负责存储器件的结构信息又包括网格数据和掺杂信息，该TDR文件既可以被重新载入到Sentaurus Process中使用，也可以调入到Tecplot SV中查看。该TDR文件可以转换成两个DF-ISE格式的文件：一个是用来描述器件形状的、扩展名为.grd的网格文件；另一个是扩展名为.dat的掺杂分布文件。这两个文件也可以同时被调入到Tecplot SV中读取。
（6）DF-ISE掺杂和网格的重定义文件(*_msh.cmd)
该文件用于掺杂信息和网格信息的重新定义。通常，在仿真结尾由用户进行保
存。需要说明的是，Sentaurus Process输出的结构信息及数据文件并不能由器件物理特性模拟工具（Sentaurus Device）直接调用，而必须通过网格设置工具进行处理。该文件可与边界文件一起被作为Sentaurus Process网格设置工具的输入文件。
（7）DF-ISE文件（*.plx）
DF-ISE文件用来保存一维杂质浓度分布或定义其它的杂质混合分布区域。这个文件可以被载入Inspect中调阅并用于分析。
§17-1-2 Sentaurus Process的仿真功能及交互工具
Sentaurus Process采纳了ISE的交互特征，与诸多交互工具结合，拓展了该工具的交互功能，并使其操作更为简便直观。Sentaurus Process是当今第一个提供全三维任选（可任意选择一维、二维或三维仿真）的工艺级仿真商用软件。Sentaurus Process中嵌入的MGOALS库可与Sentaurus Structure Editor（器件结构编辑器）联用，非常方便地实现三维器件结构的构造。众所周知，小尺寸管芯工艺制程过程中将会诱发诸多小尺寸效应，诸如：浅沟槽隔离（STI）时产生的寄生沟道效应、浅沟槽隔离（STI）时产生的应力效应、布线边缘粗糙诱发的尖端放电效应、小尺寸晶体管微结构边缘效应及外向反扩散效应等等。这许多效应都不同程度的具有各向异性的特征，则多维度的定性及定量的仿真与模拟是是十分必要的、也是难能可贵的。显然，三维仿真对于模拟、预测、分析和评估小尺寸效应所带来的工艺隐患及创新性地研发新的工艺结构也是不可多得的。
Sentaurus Process 在可实现超大规模集成电路全流程标准工艺仿真的基础上，针对某些重要和关键的工艺制程，在硅化边界移动和氧化边界移动的再生网格处理上，增加了网格数据的实时保存及网格数据的重复调用功能，这对于保障模拟精度和提高仿真速度将是十分有益的。Sentaurus Process引入了最为先进的刻蚀模型，既可以实现多种材料的各向同性的选择性刻蚀，又可进行各向异性的选择性腐蚀，还可以模拟多重离子束Fourier刻蚀。此外，用户定义的掩模参数、温度变化速率、气体流量参数和网格细化箱参数等全局性数据均可保存在专用数据库中以TDR格式的文件保存。数据库被修改后，系统会自动、快捷地生成新的输入文件。
1Sentaurus Process的仿真领域
使用Sentaurus Process可实现以下常规集成电路平面工艺制程的仿真：
（1）Sentaurus Process用于各种类型的分立（包括高频、高压、大功率等特种器件）器件、混合集成（BiCMOS）电路及甚大规模（ULSI-小尺寸、纳米级）CMOS等所有硅基结构模式的器件或电路的工艺制程。也可以自定义其它基础结构的有源器件，仿真其工艺制程。
（2）Sentaurus Process仿真系统涵盖标准的硅基集成电路平面工艺制程中所有标准工序的工艺建模，诸如：常规氧化（低温淀积及高温热氧化）、硅的外延生长、
硅化物生长、高温及低温腐蚀、选择性刻蚀、常规高温热扩散、常规高温热扩驱动、低温离子注入、化学汽相淀积、光刻胶性能的辅助分析等等。
（3）Sentaurus Process可用于改进、评估新的工艺结构、制程的可制造性设计方案。例如：设计与实现新的局域氧化隔离（LOCOS－LOCal Oxidation Separate）结构、侧墙掩蔽隔离（SWAMI－SideWAll Masked Isolation）结构、深沟槽隔离（DTI－Deep Trench Isolation）和浅沟槽隔离（STI－Shallow Trench Isolation）等二维、三维结构的虚拟设计。
（4）Sentaurus Process的离子注入模拟功能强大，可实现在注入过程中晶圆倾斜的状态下、晶圆旋转的状态下，以及屏蔽（shadowing）状态下等多种状态下的注入仿真，还可进行注入损伤程度的预测。可以评估无定型结晶靶、非晶注入靶（PAI －PreAmorphization Implant）及氧化物靶注入后产生的沟道效应。
（5）Sentaurus Process内嵌诸多二级效应模型，可模拟杂质在多种影响因素条件对扩散迁移所造成的影响。这其中，包括氧化增强扩散（OED）效应、瞬态增强扩散（TED）效应、空隙聚积效应、掺杂激活及掺杂剂量损耗对杂质迁移行为的影响等等。
（6）Sentaurus Process可定量地研究氧化介质、硅化物在高温热环境的热生长、热匹配行为及各向异性刻蚀；可定量模拟复合性化合物淀积与基底介质产生的界面应力。
（7）Sentaurus Process可模拟半导体表面的介电特性、构造MOS结构下的阈值电压变化及C-V特性。
（8）使用Sentaurus Process可十分方便的架构各种器件的两维和三维结构，并进行基于特定结构下的工艺级制程仿真。
2 Sentaurus Process提供的数据库浏览器
与Tsuprem-Ⅳ之前的IC制程仿真工具所不同的是，Sentaurus Process为仿真用户提供了数据库浏览器（PDB）。PDB实现了数据库的可视化界面描述。这样，使用Sentaurus Process设置和定义模型及确定相关参数可以通过PDB来完成。通常，使用Sentaurus Process进行工艺仿真时会首先使用系统提供的缺省模型，而缺省模型参数就保存在PDB的参数属性数据库中。用户使用数据库浏览器（PDB）可以交互式地设置和编辑模型参数，动态地在数据库浏览器（PDB）中确定仿真所使用的模型，还可以将暂时不使用的模型及参数保存起来以备随时使用。用户还可以使用卡命令语句（也称之为Alagator脚本语言）定义新的模型，以满足特殊的仿真需求。图17.1.1即为Sentaurus Process数据库浏览器（PDB）的工作界面。
图17.1.1：Sentaurus Process提供的数据库浏览器
如图17.1.1所示，右侧窗口所选定的第十组参数给出的即是氧化硅与硅界面处空穴表面复合模型中的复合率默认（缺省）表达式，该表达式的形式为：[SurfDiffLimit Oxide_Silicon Si Vac 0.0]。我们称该式为Tcl表达式，它表示了空穴在硅中的扩散率缺省值，是使用函数表达式形式来表达的。用户也可以根据需要编辑和修改该表达式，建立新的表达形式，以满足模拟精度的要求和可制造性虚拟设计的需要。
需要强调的是：在数据库浏览器中对设计中使用的参数和模型进行修改并不是唯一的方式，若用户只是在本次设计中修改个别的参数及模型，而并不是想永久性地修改这些参数和模型。通常，则不必修改模型库中的缺省设置，而只需在Sentaurus Process输入卡命令文件中通过卡命令参数的修改来实现即可。
3 Sentaurus Process图形输出结果调阅工具
（1）一维输出结果调阅工具Inspect[4]
Sentaurus Process内嵌图形输出结果编辑器Inspect。Inspect是用来调阅、查看和分析一维图形输出结果（曲线）的交互工具。Inspect具有灵活、方便的图形用户界面，便于用户对曲线进行新的、修饰性的设置和编辑。Sentaurus Process提供了通过卡命令文件与Inspect图形输出结果交互工具的接口方式，用户可以在输入卡命令文件的任意位置处使用SetPlxList和WritePlx命令将所需要的掺杂信息保存到一个扩展名为.plx的DF-ISE格式的文件中。随后，用户即可通过Inspect工具界面，调用该文件输出杂质浓度分布曲线。图17.1.2即为Inspect工具的工作界面。
图17.1.2：输出结果调阅工具Inspect编辑界面
由上图所示，用户可以在该界面下根据需要对曲线的网格设置及输出的形式、输出规范及相对位置、坐标点距甚至曲线的颜色等进行定义和编辑，以增加输出结果的可视化程度和效果。这种结果的调阅和编辑交互方式较Tsuprem-Ⅳ的命令行交互方式要简便、直观的多。Inspect还支持命令脚本语言格式，用户可以通过脚本命令来代替界面操作，还可以对需要的参数进行计算、提取（例如：电容、阈值电压等）。
（2）二维结构及数据输出结果调阅工具Tecplot SV[5]
Sentaurus Process工艺仿真生成的结构信息结果及二维或三维数据信息结果是通过Tecplot SV工具来调阅、查看的。用户可以将结构信息结果及数据信息结果通过struct命令的相应选项（tdr、dfise或ise.mdraw）保存到TDR格式或DF-ISE格式的文件中，然后在Tecplot SV工具环境下通过调用该文件得到相应的结构信息结果和数据信息结果，并对输出的结果读取、分析和编辑。图17.1.3即为Tecplot SV输出结果调阅工具的工作界面。
图17.1.3：二维输出结果调阅工具Tecplot_SV界面示意如图17.1.3所示，用户可以通过二维输出结果调阅工具Tecplot_SV调阅、读取Sentaurus Process仿真生成的二维结构输出结果剖面图、不同位置处不同杂质浓度的分布行为、杂质浓度等位线的剖面分布和仿真区域的网格设置情况等等。
Sentaurus Process完成离子注入掺杂的仿真之后，注入造成的注入靶表面损伤和注入诱发的晶格缺陷等情况也可通过Tecplot_SV工具进行调阅、读取、分析和编辑。
此外，用户还可以使用Tecplot SV工具提供的虚拟探针功能来精确地提取二维区域某位置点的重要数据信息。例如：某位置点的材料应力变化值、温度值、杂质的属性和特征、杂质的浓度分布值等等。
§17-1-3Sentaurus Process所收入的近代模型
Sentaurus Process全面覆盖分立器件、大规模集成电路及超大规模集成电路常规平面工艺制程的工艺级仿真和工艺级可制造性设计，也可以为用户提供具有更小特征尺寸的、纳米尺度的器件工艺级可制造性设计解决方案。
事实上，Sentaurus Process在经典的常规工艺模型的基础上，对很多模型进行了扩充。例如：在离子注入解析模型及蒙特卡罗（MC）注入模型、高温热掺杂模型中的杂质激活和杂质迁移以及掺杂对内部电场的影响、局部微机械应力变化的建模以及氧化过程中对氧化剂迁移行为的建模等诸多方面进行了完善。
以下，本节将就Sentaurus Process工艺级仿真和工艺级可制造性设计工具中部分对重要模型所进行的完善和升级作一阐述。
1 Sentaurus Process中的离子注入模型
在Sentaurus Process中，完成离子注入掺杂工序的仿真可以使用解析注入模型或蒙特卡罗（MC）注入模型[6]来计算注入离子的分布情况及模拟所造成的注入损伤程度。所谓解析注入模型，是使用经典的高斯分布、泊松分布以及较为近代的双泊松分布建模，来模拟离子注入掺杂的行为及过程。注入后形成的损伤程度则根据Hobler 模型进行估算。蒙特卡罗注入（MC）模型则是使用统计方法来计算体内注入离子的分布，注入损伤则通过计算点缺陷浓度进行分析。蒙特卡罗注入（MC）模型可以处理解析注入模型无法涵盖的情况，例如：窄沟槽侧墙掺杂。蒙特卡罗注入（MC）模型还能够模拟分子注入和超浅结注入工艺，可充分地满足现代小尺寸器件工艺制程的设计需求。下面，介绍部分实施注入模拟的卡命令语句格式实例：
实现解析注入的卡命令语句格式
implant
实现蒙特卡罗注入Crytal-TRIM命令的语句格式
implant
implant
为满足现代器件工艺制程仿真的技术需求，Sentaurus Process实现离子注入仿真收入了诸多描述小尺寸效应的模型，例如：掺杂剂量控制模型（Beam dose control）；有效沟道抑制模型（Effective channeling suppression）；杂质剖面改造模型[7]（Profile Reshaping）；无定形靶预注入模型（PreAmorphization implants，PAI）及点缺陷模型等等。
掺杂剂量控制模型用来精确地控制离子注入进程的模拟，可实现纳米级器件制程中微量杂质分布的蠕动及对空间量子效应的精确描述。有效沟道抑制模型和杂质剖面改造模型可以有效地描述短沟道效应及器件特征尺寸递减过程中的次级效应。无定形预注入模型用以修正注入损伤所造成的沟道尾部效应，通常，将无定形预注入模型与点缺陷模型结合起来描述注入过程的损伤状况和注入诱生缺陷的行为。
Sentaurus Process离子注入仿真使用的缺省模型关键词为：beam.dose（注入剂量模型）；range.sh（注入射程比例缩放模型）；eff.channeling.supress（有效注入隧道击穿抑制模型）；profile.reshaping（注入形貌修正模型）；PAI（预非晶处理注入模型）。
离子注入之后，还要通过不同条件下的退火处理，最终实现杂质的迁移及重新分布。
2 Sentaurus Process中的小尺寸扩散模型
集成电路制造工艺过程中，将掺杂剂掺入到半导体材料中的方式有多种，除了上一节讲到的离子注入方法之外，还采取高温热扩散方式来实现。Sentaurus Process仿真高温热扩散掺杂所依据的主要模型：杂质激活模型；缺陷对杂质迁移的影响；表面与体硅材料的反应性作用模型；表面介质的移动；掺杂对内部电场的影响等等。Sentaurus Process通过diffuse命令来执行高温热扩散掺杂的仿真，可模拟杂质的热扩散、热驱动、热退火及高温条件下材料的结构层变化（如：氧化介质的生长、硅材料的硅化、硅的外延结构生长等）及工艺过程的热加工诱发的应力场和热应力变化等等。
Sentaurus Process给出的杂质选择性扩散模型和杂质激活模型，可用来很好地模拟杂质的扩散行为和迁移行为。杂质选择性扩散模型基于蒙特卡罗数值分析，适于模拟特征尺寸小于100纳米的扩散工艺制程。杂质选择性扩散模型的主要贡献是引入了杂质活化效应对杂质迁移的影响，也间接地涵盖了热扩散工艺制程中产生的热工艺缺陷对杂质迁移的影响。杂质活化模型则主要是考虑了掺杂过程中，缺陷、氧化空位及硅化物界面态所引发的杂质激活效应。杂质激活模型可以对因杂质激活效应而引起的与理论分布的偏差进行补偿或修改。针对现代掺杂工艺及技术对低剂量、高迁移的技术要求，Sentaurus Process给出了一种激光退火模型（Flash or laser anneal model），该模型能够对扩散过程中的非均匀加热引起的分布进行模拟，从而可以更加精确地计算器件制程加工过程中的应力分布和热传输延迟。此外，Sentaurus Process通过点缺陷平衡浓度修正模型，可对应力引发的点缺陷浓度变化规律分析，
而更加精确地计算杂质迁移过程中点缺陷的影响，满足了纳米器件对点缺陷激活杂质迁移的仿真要求。Sentaurus Process还对杂质扩散因子进行了修正，引进了五步流（five-stream）扩散模型和{311}点缺陷模型、小间隙结团（SMICs）模型和杂质缺陷结团模型等等。
3 Sentaurus Process对局部微机械应力变化描述的建模
器件制程中的热驱动过程及高温热加工过程所潜在的器件结构内部应力的变化是器件工艺热加工过程模拟所必须要考虑的。事实上，这一因素在器件热制造过程中起着异常重要的作用，它决定着器件结构热在热加工过程中是否能保持完整性、热加工工艺过程的效益、热加工过程引发的载流子迁移率变化及扩散率变化等。随着器件尺寸的进一步缩小，器件热加工所造成的内部应力变化还会使材料禁带宽度的变化使得杂质扩散速率以及氧化速率等参数也相应地变化，这样的局部变化会改变局部区域热生长氧化层的结构平衡和形状变异。可见，对器件热制造过程所造成的体内应力变化进行精确地模拟和计算是非常重要的。
集成电路工艺制程中，热生长、热淀积、热驱动及不同属性的材料晶粒间界均会诱发局部区域的微机械应力的应变。微机械应变会严重地影响集成化器件的结构完整性，所以，这是小尺寸工艺制程仿真所必须考虑的。换句话说，微机械应变效应是小尺寸工艺建模需要考虑的一个重要因素。学者们注意到，微机械应变效应还影响着带电载流子的迁移率，从而影响器件的漏电流等电学参数。人们还发现，微机械应变会改变能带带宽间接地影响扩散粒子的扩散速率，间接地影响氧化速率。可见，应对小尺寸工艺制程的仿真，精准地计算应力是十分重要的。在可制造性设计中准确评估工艺制程所产生的应变类型及损害趋势，抑制、平衡甚至利用应变效应，将会显著地保障、甚至提高器件的性能或优品率。
Sentaurus Process解决应变效应建模和仿真，基于四个步骤：1）在所讨论的区域内建立针对微结构的机械力学平衡方程。2）定义微结构机械力学平衡方程的边界条件。3）定义微结构材料组分的属性。确认其中的应力部分和张力部分以及两者之间的关系。材料的属性将涉及到是弹性材料还是非弹性材料（粘性材料）。对此，Sentaurus Process分别设有针对弹性材料和粘性材料属性的方程分别求解机械应力。4）Sentaurus Process依据微结构诱生的内应力引起了热失配，得到了与氧化进程相关的晶格失配（氧与硅）及晶格增密作用的结论。
Sentaurus Process基于现代工艺制程的设计要求，对应力模型作了较大改进，考虑了晶格失配、各向异性、界面应力等诸多因素的影响。例如：引入锗化硅（SiGe）来调节和控制沟道区（MOS结构）应力[8]，增强了器件的驱动电流。Sentaurus Process仿真中使用晶格失配模型的调整适用于碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）和氮镓铝（AlGaN）衬底结构。Sentaurus Process中含有各向异性弹力模型。这需要对硅
特定晶向的弹力变化现象精确建模。客观上，针对热加工诱发热应力变化建模的实际意义也在于解决晶圆片的翘曲而必然造成的体内结构变形问题。
4 Sentaurus Process中基于原子动力学的蒙特卡罗扩散模型
Sentaurus Process描述杂质扩散过程中的活化行为，采用了基于原子动力学理论的蒙特卡罗（KMC）扩散方程。
在经典的工艺制程仿真工具中，连续性的扩散方程用于描述杂质的传输及体内杂质剂量的守恒。对于大尺寸半导体器件的可制造性设计描述是有意义的，而对于特征尺寸低于100nm的小尺寸器件工艺制程中，则很难保持器件可制造性设计的准确预言。
对于小尺寸器件工艺制程，应考虑杂质的活化行为，包括各类杂质、缺陷之间的作用。
器件尺寸的等比缩小，导致极小区域内载流子的行为会影响一只晶体管的阈值特性，说明大范围的连续性描述将不能够准确地描述局部区域内的离散分布和离散行为。
基于扩散仿真的蒙特卡罗（MC）提供了一个有价值的连续方法。MC仿真所需要的计算资源随着器件尺寸的减小而不断的降低，因为它们和器件中的杂质和缺陷是成比例的。另一方面，对于连续仿真所需要的资源在增加，因为需要为更多的复杂的不平衡的现象建模。就所需要的计算资源而言，这种趋势使KMC扩散方法和现在最详细的连续扩散方法竞争时领先了一大步。
5 Sentaurus Process中的氧化模型
Sentaurus Process完成硅的热氧化模拟，严格地基于硅的分步骤氧化模型，这就是经典的三步骤氧化过程：步骤1. 氧化剂粒子由汽相环境迁移到汽相－初始氧化物界面位置处；步骤2.氧化剂（H2O或O2）粒子质量转移通过汽相－初始氧化物界面，抵达初始氧化物－硅界面位置处；步骤3. 氧化剂与硅反应形成新的氧化物使初始氧化层增厚，体积膨胀引起氧化硅－硅界面向硅一侧移动。
由Si转化为SiO2的转化速率是大于1的，故氧化层会产生“体积”膨胀，对于小尺寸、超薄氧化物的生长，氧化层体积的膨胀将会诱发局部材料蠕动产生机械应力。此类效应在应对小尺寸工艺制程的氧化模拟时应予以考虑。Sentaurus Process在处理氧化步骤的定量解析过程中，建立了描述氧化剂迁移、扩散的偏微分方程（PDE）。Sentaurus Process着眼于小尺寸器件的仿真需求，考虑了诸多热氧化过程仿真的细节。例如：如果硅的热氧化开始是和空气接触的，系统会自动产生初始氧化层，并在参数数据库中被指定。此外，氧化期间温度可以变化，且环境温度的变化与氧化剂的不同相关；Sentaurus Process注意到了氧化过程诱发局部机械应力的变化。将力学方程、可移动边界条件及材料的属性综合建模，较好地解决了上述仿真命题。
信号隔离安全栅与信号隔离器的区别 一、定义 1、信号隔离器（isolator ）：一般指弱电系统中的信号隔离器，既保护下级信号系统不受上级系统影响和干扰。 2、信号隔离安全栅（safety barrier）：接在本质安全电路和非本质安全电路之 间。将供给本质安全电路的电压或电流限制在一定安全范围内的装置。安全栅是一种统称，分为齐纳式安全栅和隔离式安全栅，隔离式安全栅简称隔离栅。 金湖英普瑞电子设备有限公司主营产品有：隔离安全栅，信号隔离器，信号隔离配电器，直流信号隔离器,开关量信号安全栅，电流变送器。同时代理日本横河EJA变送器，横河AXF 电磁流量计，横河DY涡街流量计，罗斯蒙特3051系列变送器,罗斯蒙特248系列温度变送器，罗斯蒙特475手操器。 二、工作原理 1、信号隔离器工作原理：首先将变送器或仪表的信号，通过半导体器件调制变换，然后通过光感或磁感器件进行隔离转换，然后再进行解调变换回隔离前原信号，同时对隔离后信号的供电电源进行隔离处理。保证变换后的信号、电源、地之间绝对独立。 2、齐纳式安全栅的工作原理 安全栅的主要功能就是限制安全场所的危险能量进入危险场所，及限制送往危险场所的电压和电流。 齐纳管Z用于限制电压。当回路电压接近安全限压值时，齐纳管导通，使齐纳管两端的电压始终保持在安全限压值以下。 电阻R用于限制电流。当电压被限制后，适当选择电阻值，可将回路电流限制在安全限流值以下。 保险丝F的作用是防止因齐纳管被长时间流过的大电流烧断而导致回路限压失效。当超过安全限压值的电压加在回路上时，齐纳管导通，如果没有保险丝，流经齐纳管的电流将无限上升，最终烧断齐纳管，使回路失去限压。 为确保回路限压安全，保险丝的熔断速度要比齐纳管可能被烧断的速度快十倍。 采用图一所示的三冗余齐纳管的安全栅基本限能电路结构，能够确保安全栅在正常工作、一个故障点和两个故障点时均能将安全栅的输出能量限制在安全参数规定的范围之内，从而满足ia级本质安全电路的要求。 3、隔离式信号隔离安全栅的工作原理 与齐纳安全栅相比，隔离式安全栅除具有限压与限流的作用之外，还带有电流隔离的功能。隔离栅通常由回路限能单元、电流隔离单元和信号处理单元三部分组成，基本功能电路如图二所示。回路限能单元为安全栅的核心
******系统体系结构说明 书
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目录 0.文档介绍 (3) 0.1文档目的 (3) 0.2文档范围 (3) 0.3读者对象 (3) 0.4参考文献 (3) 0.5术语与缩写解释 (3) 1.系统概述 (3) 2.设计约束 (4) 3.设计策略 (4) 4.应用系统安装拓扑图 (5) 5.系统总体功能结构 (6) 6.子系统的结构与功能 (6) 6.1.文章管理子系统 (6) 6.2.学生求职管理子系统 (7) 7.系统主要数据结构 (9) 8.开发环境的配置 (9) 9.运行环境的配置 (10) 10.测试环境的配置 (10) 11.其他 (10)
0.文档介绍 0.1 文档目的 0.2 文档范围 0.3 读者对象 本说明书适用于项目设计人员、开发人员、测试人员、文档编写人员、工程实施人员。 0.4 参考文献 《XXXXXXXXXX》 ISO9001：2000质量保证体系 XXXX公司规范设计总则 0.5 术语与缩写解释 1.系统概述 根据XXXX大学生就业管理与服务工作的实际需要，为了更好地为XXXX毕业生和
用人企业提供服务、提升大学生就业的管理和服务水平，更好地促进大学生就业，决定建设XXXX就业服务系统。系统将实现包含就业政策的制定与发布、学生简历制作、毕业生生源管理、就业数据汇总分析、就业办公、就业指导、企业岗位发布与招聘、毕业生跟踪、招聘会安排等功能在内的综合就业服务系统。从而使就业管理人员从目前繁杂的手工工作方式中解脱出来，加强管理与监控，并为领导提供决策与分析支持。 2.设计约束 ISO9001：2000质量保证体系 3.设计策略 提示：体系结构设计人员根据产品的需求与发展战略，确定设计策略（Design Strategy）。例如： ?扩展策略。说明为了方便本系统在将来扩展功能，现在有什么措施。 ?复用策略。说明本系统在当前以及将来的复用策略。 ?折衷策略。说明当两个目标难以同时优化时如何折衷，例如“时－空”效率折衷，复杂性与 实用性折衷。
( 安全管理 ) 单位：_________________________ 姓名：_________________________ 日期：_________________________ 精品文档 / Word文档 / 文字可改 浅谈隔离式安全栅的使用(通用 版) Safety management is an important part of production management. Safety and production are in the implementation process
浅谈隔离式安全栅的使用(通用版) 隔离式安全栅的使用 1．隔离式安全栅应安装在非危险场所。 2．隔离式安全栅通往现场(危险场所)的软铜导线截面积必须大于0.5mm2。 3．连接导线的绝缘强度大于500V。 4．隔离式安全栅本安端(有蓝色标记)和非本安端电路配线，不得接错和混淆。本安导线宜选用蓝色作为本安标记。本安导线和非本安导线在汇线槽中应分开铺设，采用各自保护套管。隔离式安全栅的本安侧，不允许混淆有其它电源，包括其它本安电路的电源。 5．凡与隔离式安全栅相连接的现场仪表，均应为有关防爆部门进行防爆试验并取得防爆合格证的仪表。 6．如隔离式安全栅内部模块损坏需要维修或更换时，原则上应由制造厂承担。用户自行维修时，应按照有关的注意事项，具体方
法请按照维修的章节进行(本质安全型仪表的维修仅限于所述的范围进行，其外的维修应与制造厂商量)。经检修后方能重新投入运行。 7．隔离式安全栅的安装、使用和维护应严格遵照。GB3836.15-2000《爆炸性气体环境用电气设备第15部分：危险场所电气安装(煤矿除外)》的有关条款进行。 8．隔离式安全栅与一次仪表组成本安安全防爆系统时，必须经国家指定的防爆检验机构检验认可。帕罗肯科技PRG-1100系列隔离式安全栅由国家防爆电气监督检验中心，给出的Co，Lo分布参数是相对与ⅡC级(氢气级)的最大允许值对于ⅡB级环境可把该参数乘以3，对于ⅡA级环境可把该参数乘以8。传输线选用不同规格的电缆时，其本身的电缆参数应予高度重视，不得超过规定值。 9．对隔离式安全栅进行单独通电调试时，必须注意隔离式安全栅的型号(帕罗肯科技的PRG-1000,PRG-1100,PRG-1101,PRG-1200,PRG1400等)、电源极性、电压等级及隔离式安全栅外壳接线端上的标号。 10．严禁用兆欧表测试隔离安全栅端子之间的绝缘性。若要检
管教孩子任性的六种方法 （一）任性的表现 孩子太随心所欲了，想怎么样就怎么样，道理根本行不通。比如看到喜欢的东西就想买想要，否则就大哭大闹。相信很多妈妈为此都伤透了脑筋。 （二）任性的心理分析 这种任性行为在一定条件下是父母对孩子过分宽容和娇纵的结果。比如，父母总是在孩子哭声的折磨下顺从宝宝的心愿；加上孩子的自制力差，情绪不稳定，易冲动，经常以执拗发泄不满，更助长了任性行为。有的孩子不听话，父母感到无奈，于是放任自流，久而久之导致任性的形成。 （三）管教的6种方法 转移注意孩子的注意力容易分散，容易被新鲜的事物所吸引，所以要善于把孩子的注意力从他坚持的事物上转移到其他新奇、有趣的物品或事情上。孩子的注意力一旦转移后，会很快忘记刚才的要求和不愉快。 提示在先已掌握孩子的任性行为规律后，“用事先约法三章”的办法来预防任性的发作。如只要带孩子去商场，提前就跟他约好：“今天上街买衣服不是买玩具，答应就带你去。” 有意冷落当孩子由于要求没有得到满足而发脾气或打滚耍赖时，家长要不予理睬，给他造成一个无人相助的环境，更不要和他讨价还价。当无人理睬时，孩子自己会感到没趣而作出让步。事后再对孩子做简单而认真的说明，说清不能做的原因，并用“相信你以后会听话的”之类的话来鼓励他。 榜样示范利用孩子喜欢童话故事人物的心理，激发他克服任性的信心。如孩子不肯吃菠菜，家长可以说：“你不是喜欢铁甲小宝吗？他就喜欢吃菠菜。” 适当惩罚适当惩罚也是一种极为有效的教育手段。如宝宝故意把东西扔到地上，家长可以对他的行为做出批评后，要求他将东西拣起来。如果孩子不服从，则可采取取消购买食物或玩具的承诺，或是“单独隔离”的惩罚方式。这种惩罚性的措施，会使他确切地感到大人的教育态度十分坚决。这样，宝宝那种“我独占”，“我为主”，“服从我”的不良心理和任性行为，将随着良好环境与教育的熏陶而消失。注重表扬在平时的生活中，一方面要规限孩子的不良习性，一方面更要关注孩子听话、不任性的行为，对他的每一点进步都要给予积极的表扬、夸奖。这样孩子就会懂得什么是大人赞成和允许的，什么是大人反对和制止的；就会知道专由自己的性子来就会受到惩罚，听话乖巧、不乱发脾气就会得到表扬和奖励。 如何管教不听话的孩子 您常常为管教孩子而感到束手无策吗？不管您是喋喋不休地说教还是大喊大叫地命令，孩子全然不理。其实，孩子完全可以变得既听话又懂事—— 如何管教不听话的孩子： 如何管教不听话的孩子？下面所讲的6个秘诀非常有效。 虽然，它不能防止淘气的孩子偶尔犯错，但可以帮助您运用爱心和耐心，将那个调皮捣蛋、惹事生非的孩子从麻烦角色中转换过来。说到做到 育儿专家指出：如果从1到10代表正确管教孩子的重要程度，(数字越高表明越重要)那说到做到、言行一致就可以用10来表示了！为什么要这样做？ 说到做不到、言行不一会把孩子变成投机主义者。因为他知道怎样能逃避惩罚。但当他知道您一定会在他做错事后怎样做时，他就可以预测那种行为的后果，自己控制自己。 如何做到这一点？ 其中关键的部分是家长不要心软，不要在“只此一次”面前让步。总结出您认为重要的规矩，定好无论何时他们破坏这些规矩都会出现的后果，然后，将这些统统告诉孩子。例如，您要带他逛超市，告诉他不要乱动商品，并告诉他违反的后果是什么，如果他犯错，就按说的来惩罚他。 不要小看孩子 大声喊出孩子的名字或下一个定论(像“你真是粗心大意”)是最无效的方法，只会伤害他的自尊心。 为什么要这样做？ 孩子并不会因为您惩罚了他，就从自己做错事的感觉中解脱出来。这样的感觉也许会过去，但反复的批评(“为什么您总对别人这样不友好”)会产生消极的感觉令其挥之不去。 如何做到这一点？ 您要相信孩子，暗示他有能力做得更好。最终，也就促进孩子做出了更好的行为。孩子的潜意识里会这样想：“如果做了正确的事，我
XXXX信息化系统验收报告模板 XXXX集团
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1．项目基本情况 2．项目进度审核 2.1 项目变更情况 2.1 项目容变更情况 2018年08月30日止，；XXXX系统开发，因项目暂时还未正式上线，但开发代码及归属于XXX公司所有，后续根据项目调研情况对系统后续有新的需求及新功能等，按新的合作方式重新签订外包开发合同。 2.2 项目实施进度情况
3．项目验收计划 3.1 项目验收原则 1、审查提供验收的各类文档和系统源代码的正确性、完整性和统一性，审查文 档和源代码是否齐全、合理； 2、审查项目功能是否达到了规定的要求； 3、审查项目有关服务指标是否达到了要求； 4、对项目的技术水平做出评价，并得出项目的验收结论。 3.2 项目验收方式 {记录项目验收的组织方式和参与验收工作的人员情况} 3.3 项目验收容 1：软件平台验收；
windows系统的WEB网页端、APP等、云服务器等等 2：XXX系统验收合同； 系统交付协议书为准，根据合同明细编写验收细节 3：项目文档验收； 系统策划文件，系统开发原形图文件、技术实施方案、功能模块设计、功能测试报告和用户使用手册等。 4：项目服务响应（如售后服务、问题响应等方面）验收。 客户需求问题优化、技术故障处理等售后服务和问题响应。 5：XXX系统用户操作手册功能点实现验收。(见附件文件) 6：XXX系统项目验收报告解释权归XXX所有。
4．项目验收情况汇总 4.1 项目验收情况汇总表 4.2 项目验收附件明细 1、软件平台验收单（见附件一）。 2、项目文档验收单（见附件二）。 3、系统软件源代码的验收单（见附件三）。
隔离式安全栅的工作原理 姓名：XXX 部门：XXX 日期：XXX
隔离式安全栅的工作原理 安全栅的主要功能就是限制安全场所的危险能量进入危险场所，及限制送往危险场所的电压和电流。齐纳管Z用于限制电压。当回路电压接近安全限压值时，齐纳管导通，使齐纳管两端的电压始终保持在安全限压值以下。电阻R用于限制电流。当电压被限制后，适当选择电阻值，可将回路电流限制在安全限流值以下。 与齐纳安全栅相比，隔离式安全栅除具有限压与限流的作用之外，还带有电流隔离的功能。隔离栅通常由回路限能单元、电流隔离单元和信号处理单元三部分组成，基本功能电路如图2所示。回路限能单元为安全栅的核心部分。此外，辅助有用于驱动现场仪表的回路供电电路和用于仪表信号采集的检测电路。信号处理单元则根据安全栅的功能要求进行信号处理。 工业现场一般需要采用两线制传输方式的配电器，既要为诸如压力变送器等一次仪表提供24V配电电源，同时又要对输入的电流信号进行采集、放大、运算、和进行抗干扰处理后，再输出隔离的电流和电压信号，供后面的二次仪表或其它仪表使用。但一些特殊的工业现场不但需要两线制传输，既提供配电电源又有信号隔离功能，同时还需要具有安全火花型防爆的性能，可靠地防止电源高压与信号之间的混触，利用电流、电压双重化限制回路，把进入危险场所的能量限制在安全定额以下的具有特殊功能的配电器安全栅。 隔离式安全栅，基本有检测端安全栅和操作端安全栅两种类型。检测端安全栅与两线制变送器配套使用；操作端安全栅与电气转换器或电气阀门配套使用。也有信号输入等类型隔离式安全栅。 第 2 页共 4 页
由于隔离式安全栅采用了限压、限流、隔离等措施，不仅能防止危险能量从本安端子进入危险现场，提高系统的本安防爆性能，而且还增加了系统的抗干扰能力，大大提高了系统运行的可靠性。24VDC电源经DC-AC-DC变换后，输出模块电路所需要的多种电压。 检测端隔离式安全栅的原理是：模块电路将通过本安能量限制电路输入的电流或电压信号转变为0.2-1VDC后，送入模块内进行采集、放大、运算和进行抗干扰处理后，再经变压器调制成输出隔离的电流和电压信号，供后面的二次仪表或其它仪表使用。模块还需输出一个隔离的18.5∽28.5VDC电压，通过本安能量限制电路做为供给两线制变送器的工作电压。本安能量限制电路能限制大电流或高电压的危险信号窜入危险现场。 操作端隔离式安全栅的原理是：将调节器或操作器输出的4-20mADC 信号隔离后再输出4-20mADC的信号，通过本安能量限制电路供给电气转换器或现场的电气阀门定位器使用。 第 3 页共 4 页
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目录 1.系统概述 (3) 1.1. 系统功能简介 (3) 1.2 系统用户角色 (3) 2.理由 (3) 3.项目范围 (3) 4.系统假设 (3) 5.系统定义 (4) 6.用户场景 (5) 7.用户用例 (5) 7.1 用户用例步骤 (5) 7.2系统需求 (9) 7.2.1 功能需求 (9) 7.2.2 非功能需求 (12) 8.文档历史 (14)
1.系统概述 1.1. 系统功能简介 教务处工作人员根据设置的用户名和密码，登录到学生信息管理系统，并对学生提交的信息修改进行审核,,系统优先级高; 档案管理员添加、查看、删除、修改学生的基本信息, 系统优先级高; 老师查看自己所管班级的学生的信息, 系统优先级高; 学生修改、查看自己的某些信息, 系统优先级高; 1.2 系统用户角色 2.理由 由于现在的学校规模在逐渐的扩大，设置的专业类别、分支机构及老师、学生人数越来越多，对于过去的学生信息管理系统，不能满足当前学生信息管理的服务性能要求。本报告对于开发新的<<学生信息管理系统>>面临的问题及解决方案进行初步的设计与合理的安排，对用户需求进行了全面细致的分析，更清晰的理解学生信息管理系统业务需求，深入描述软件的功能和性能与界面，确定该软件设计的限制和定义软件的其他有效性需求，对开发计划进行了总体的规划确定开发的需求与面临困难的可行性分析。 3.项目范围 学生信息管理系统是典型的信息管理系统，其开发主要包括后台数据库的建立、维护以及前端应用程序的开发两个方面。对于前者要求建立起数据一致性和完整性强、数据安全性好的数据库。而对于后者则要求应用程序具有功能完备，易使用等特点。学生信息管理系统对全校学生实行统一的管理，可以方便的进行增添、查询、修改、删除学生信息的工作。为了使本系统成功达到用户的要求，需要在2012.12.28之前完成本系统的开发测试，并写提交相关的技术文档。通过与用户的沟通，及时获得用户的最新需求以便于本系统的完善。 4.系统假设 本项目的开发时间为2012.9.9—2012.12.28 开发人员人数：3人 技术文档写作人员人数3人
安全栅的主要功能有哪些？ 安全栅的主要功能就是限制安全场所的危险能量进入危险场所，及限制送往危险场所的电压和电流。齐纳管Z用于限制电压。当回路电压接近安全限压值时，齐纳管导通，使齐纳管两端的电压始终保持在安全限压值以下。电阻R 用于限制电流。当电压被限制后，适当选择电阻值，可将回路电流限制在安全限流值以下。 与齐纳安全栅相比，隔离式安全栅除具有限压与限流的作用之外，还带有电流隔离的功能。隔离栅通常由回路限能单元、电流隔离单元和信号处理单元三部分组成，回路限能单元为安全栅的核心部分。此外，辅助有用于驱动现场仪表的回路供电电路和用于仪表信号采集的检测电路。信号处理单元则根据安全栅的功能要求进行信号处理。 工业现场一般需要采用两线制传输方式的配电器，既要为诸如压力变送器等一次仪表提供24V配电电源，同时又要对输入的电流信号进行采集、放大、运算、和进行抗干扰处理后，再输出隔离的电流和电压信号，供后面的二次仪表或其它仪表使用。但一些特殊的工业现场不但需要两线制传输，既提供配电电源又有信号隔离功能，同时还需要具有安全火花型防爆的性能，可靠地防止电源高压与信号之间的混触，利用电流、电压双重化限制回路，把进入危险场所的能量限制在安全定额以下的具有特殊功能的配电器—安全栅。 隔离式安全栅，基本有检测端安全栅和操作端安全栅两种类型。检测端安全栅与两线制变送器配套使用；操作端安全栅与电气转换器或电气阀门配套使用。也有信号输入等类型隔离式安全栅。 由于隔离式安全栅采用了限压、限流、隔离等措施，不仅能防止危险能量从本安端子进入危险现场，提高系统的本安防爆性能，而且还增加了系统的抗干扰能力，大大提高了系统运行的可靠性。24VDC 电源经DC-AC-DC变换后，输出模块电路所需要的多种电压。 检测端隔离式安全栅的原理是：模块电路将通过本安能量限制电路输入的电流或电压信号转变为0.2～1VDC后，送入模块内进行采集、放大、运算和进行抗干扰处理后，再经变压器调制成输出隔离的电流和电压信号，供后面的二次仪表或其它仪表使用。模块还需输出一个隔离的18.5～28.5VDC电压，通过本安能量限制电路做为供给两线制变送器的工作电压。本安能量限制电路能限制大电流或高电压的危险信号窜入危险现场。 操作端隔离式安全栅的原理是：将调节器或操作器输出的4～20mA DC信号隔离后再输出4～20mA DC的信号，通过本安能量限制电路供给电气转换器或现场的电气阀门定位器使用。 安全栅的作用 在许多工业过程中，需要处理或使用一些易燃材料，如原油和它的衍生物，酒精，天然气，粉末，飞扬物，任何渗漏或溅出都有可能形成一个爆炸环境（危险场所，具体分类方法见下文）。为了工厂和人员的安全，必须确保这个环境不会被点燃引起爆炸。 而在生产过程中大量使用电气设备，各种磨擦的电火花、静电火花、高温等不可避免，尤其当设备发生故障时，都有可能会点燃爆炸环境。为了防止爆炸的发生，至今已开发了8中不同的防爆技术，其中本质安全是一种低成本而高有效的防爆技术。 本质安全（IS）是系统防爆的技术，如下图，安全场所的控制室设备通过安全栅与危险场所的本安设备相连，传递信号或能量。安全栅利用限流和限压电路，限制了从安全场所传递到危险场所的能量；处于危险场所的本安设备在这样的能量下能够正常工作，但这样的能量不足以引燃爆炸环境，即使本安设备自身发生故障，也不会产生任何足以引燃的电火花或发热表面。因此，无论是安全场所的控制室设备还是危险场所的本安设备发生故障，只要安全栅的限流限压电路正常工作，整个系统都会处于安全状态，不会产生爆炸。 安全栅作为控制室的非本安设备与危险场所的本安设备之间的关联设备，是本安防爆系统中的重要组成部分。常见的安全栅包括齐纳式安全栅、晶体管式安全栅、变压器隔离式安全栅。 齐纳式安全栅电路原理如下图所示，稳压二极管Z限制了从非本安端传到本安端的电压，电阻R则限制了从非本安端传到本安端的电流，快速熔断器F用于保护稳压二极管Z不被过大的电流烧坏。由于电路的限压和限流，输出到危险区的能量被限制在安全值以内。齐纳式安全栅的特点是电路所用的元器件极少、故障率低、成本低、回路信号保真性好；但由于必须加限能电阻和智能变送器的采样电阻，过大的电压降低往往会导致回路供电不足；而且在工程应用中必须可靠接地，否则便会失去防爆安全保护功能。 齐纳式安全栅是本安防爆系统中的一种非常重要的关联设备。当出现故障时，齐纳安全栅会确保现场安全。齐纳式安全栅起保护作用后它内部的熔丝就要烧断，由于防爆上的特殊要求：齐纳式安全栅要用环氧树脂灌封，因而烧断熔丝的齐纳安全栅也就损坏了，必须更换新的齐纳式安全栅。MSB500系列齐纳安全栅是一种新颖的熔丝可更换式齐纳安全栅，系我公司新开发的齐纳式安全栅。产品系列齐全，适用于各种变送器、电气阀门定位器、各类开关、电磁阀、流量仪表、热电阻、热电偶及一些特殊的现场仪表。同时可与各种 DCS 系统连接对智能变送器实现双向数字通讯。
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目录 1简介 (1) 1.1背景 (1) 1.2目标 (1) 2功能描述 (1) 2.1登陆部分 (1) 2.1.1登陆 (1) 2.1.2用户注册 (3) 2.1.3密码错误 (4) 2.2导航栏 (5) 3首页 (6) 3.1首页进入 (6) 3.2注销 (9) 3.3用户管理 (9) 3.4测试需求管理 (10) 3.4.1测试需求管理 (11) 3.4.2关联测试管理 (11) 3.5测试用例管理 (12) 3.5.1测试用例管理 (12) 3.5.2打印测试用例规格说明书 (14) 3.6测试计划管理 (14) 3.6.1测试计划管理 (14) 3.6.2指派用户角色 (16) 3.6.3测试集管理 (16) 3.6.4编辑/删除里程碑 (17) 3.7测试用例——测试计划 (18) 3.7.1添加/移除测试用例 (18) 3.7.2修改测试用例的版本关联 (19) 3.7.3查看最新版的测试用例 (19) 3.7.4分配测试任务 (20) 3.7.5设置紧急测试任务 (21) 3.8测试执行 (22) 3.8.1执行测试 (22) 3.8.2用例测试状态表 (23) 3.9缺陷管理 (24) 3.9.1报告缺陷 (24)
3.9.2查看缺陷 (25) 3.9.3我的视图 (26) 3.9.4分类管理 (27) 3.9.5版本管理 (27) 3.9.6统计报表 (28) 3.9.7平台配置 (28) 3.10关键字 (30) 3.10.1关键字管理 (30) 3.10.2指派关键字 (30) 3.11自定义字段 (31) 3.11.1自定义字段管理 (31) 3.11.2分配自定义字段 (31)
任性的意思 拼音：rèn xìng 英文：wilful 基本解释 [willful;capricious] 听凭秉性行事;放纵不约束自己 曹植更不守法,饮酒无节,任性而行,是一个纯粹的文士 详细解释 1. 听凭秉性行事，率真不做作。 《东观汉记·马融传》：“ 涿郡卢植、北海郑元，皆其徒也，善鼓瑟，好吹笛，达生任性，不拘儒者之节。”《旧唐书·高祖纪》：“ 高祖以周天和元年生於长安，七岁袭唐国公。及长，倜傥豁达，任性真率，宽仁容众，无贵贱咸得其欢心。” 宋苏轼《寄净慈本长老》诗：“何时杖策相随去，任性逍遥不学禅。” 明何景明《田园杂诗》之一：“疎懒古虽鄙，任性亦可率。” 范文澜蔡美彪等《中国通史》第二编第三章第十一节：“ 曹植更不守礼法，饮酒无节，任性而行，是一个纯粹的文士。” 2. 谓恣意放纵，以求满足自己的欲望或达到自己某种不正当的目标。 《后汉书·杨终传》：“ 终与廖 ( 马廖 )交善，以书戒之曰：‘……黄门郎年幼，血气方盛，既无长君退让之风，而要结轻狡无行之客，纵而莫诲，视成任性。’” 范文澜蔡美彪等《中国通史》第三编第一章第三节：“他(指
隋炀帝 )是一个极骄极贪的人，以为自己所做的事都是对的，自己所得的物都是不够的;因之，予智予雄任性妄为，剥削不顾民众的死活，浪费只求本人的快意。” 3. 执拗使性，无所顾忌，必欲按自己的愿望或想法行事。 《京本通俗小说·拗相公》：“﹝吾儿王雱﹞对我哭诉其苦，道：‘阴司以儿父久居高位，不思行善，专一任性执拗，行青苗等新法，蠹国害民，怨气腾天。’”《红楼梦》第一一七回：“他两个还不知道宝玉自会那和尚以后，他是欲断尘缘，一则在王夫人跟前不敢任性，已与寳钗袭人等皆不大款洽了。” 曹禺《雷雨》第一幕：“ 周朴园：(忽然严厉地)喝了它，不要任性，当着这么大的孩子。” 梁斌《播火记》十五：“ 霜泗说：‘伶俐倒是伶俐，就是太任性!要仨不能俩，要红的不能给白的。’” 所谓任性，是指个人对自己的需要、愿望或要求毫不克制，听凭秉性行事，放纵不约束自己 ;抗拒、不服从外来的管教;不按照别人的要求去做，或者表面上答应、内心不服! 任性行为大部分是在儿时，父母对孩子过分宽容和娇纵的结果。例如：父母总是在宝宝哭声的折磨下顺从宝宝的心愿;也有后天形成，例如男朋友对女朋友的过分宠爱!由于某些人(小孩子)的自制力差，情绪不稳定，易冲动，经常以执拗发泄不满，过分的宠爱更助长了任性行为;有的人不听话，
IT软件系统开发方案
一、软件项目实施方案概述 软件产品用户购买软件产品之后，不能立即进行使用，需要软件公司的技术人员在软件技术、软件功能、软件操作等方面进行系统调试、软件功能实现、人员培训、软件上线使用、后期维护等一系列的工作，我们将这一系列的工作称为软件项目实施。大量的软件公司项目实施案例证明，软件项目是否成功、用户的软件使用情况是否顺利、是否提高了用户的工作效率和管理水平，不仅取决于软件产品本身的质量，软件项目实施的质量效果也对后期用户应用的情况起到非常重要的影响。 项目实施规范主要包括项目启动阶段、需求调研确认阶段、软件功能实现确认阶段、数据标准化初装阶段、系统培训阶段、系统安装测试及试运行阶段、总体验收阶段、系统交接阶段等八个阶段工作内容。下面将分别介绍每个项目实施阶段。 二、软件项目实施方案 （一）项目启动阶段 此阶段处于整个项目实施工作的最前期，由成立项目组、前期调研、编制总体项目计划、启动会四个阶段组成。 阶段主任务 1、成立项目组：
部门经理接到实施申请后，任命项目经理，指定项目目标，由部门经理及项目经理一起指定项目组成员及成员任务，并报总经理签署《项目任务书》。 2、前期调研： 项目经理及项目组成员，在商务人员配合下，建立与用户的联系，对合同、用户进行调研。填写《用户及合同信息表》。在项目商务谈判中，商务经理积累了大量的信息，项目组首先应收集商务和合同信息，并与商务经理一起识别哪些个体和组织是项目的干系人，确定他们的需求和期望，以确保项目开发顺利。 3、编制《项目总体计划》： 《项目总体计划》主要包括以下几方面内容：项目描述，项目目标、主要项目阶段、里程碑、可交付成果等。 4、启动会： 项目组与用户共同召开的宣布项目实施正式开始的会议。会程安排如下： ?共同组建项目实施组织，实施组织的权利和职责；双方签署《项目实施协议》；?项目组介绍《项目总体计划》和《项目实施协议》，包括以下内容：项目目标、主要项目阶段、里程碑、可交付成果及计划的职责分配（包括用户的）； ?项目实施中项目管理的必要性和如何进行项目管理，项目的质量如何控制；?项目实施中用户的参与和领导的支持的重要作用； ?阶段验收、技术交接和项目结束后如何对用户提供后续服务。 （二）需求调研确认阶段 此阶段的主要工作是软件公司的项目实施人员向用户调查用户对系统的需求，包括管理流程调研、功能需求调研、报表要求调研、查询需求调研等，实施人员调研完成后，会编写《需求调研分析手册》，并交付用户进行确认，待用户对《需求调研分析手册》上所提到的需求确认完毕后，项目实施人员将以此为依据进行软件功能的实现。如果用户又提出新的需求，实施人员将分析需求的难度及对整个系统的影响程度来确定是否给予实现。 需求调研阶段具体包括如下内容： 1、进行需求调研准备 2、编制《需求调研计划》
原液？？~~~ 什么是原液呢？ 所谓原液就是纯天然植物中直接提取的确有其疗效的高纯液体，是所有浓缩精华的母体，吸天，地，人万物之精髓，有"植物黄金"之美誉。 从字面上来分析，指原本添加在正常美容品中，具有护肤疗效的某种成分，现在单独拿出来成为一种高纯度的单品使用。纯度的大幅度提升，自然也意味着效果的相应提升。它的功效与精华素很像，但精华素属于复合成分并且经过品牌的技术研发，适合不同肤质不同需求，而"原液"的成分则很单一。 原液可以说是浓缩的精华液，保养成分浓度更高，就同一成分而言，原液比精华液更好，给肌肤更集中、强效的保养，让肌肤在短时间恢复最佳状态！此外，原液也可以迅速调理肌肤、改善肌肤问题。 针对单一肌肤问题，原液是最佳的选择！单一成分的原液，浓度更高，能满足肌肤单一问题的需要，针对肌肤干燥暗沉、细纹、老化等各种问题，可以针对自己肌肤的需求选择适用的保养原液，给肌肤更直接、强效的保养，让肌肤在短时间内回复最佳状态。 原液的来源，提取 从确有疗效的天然植物提取物中萃取的富含活性成分的提取物。 运用超临界二氧化碳萃取技术。【超临界二氧化碳（可有效隔绝原料与空气中的氧发生氧化。）超临界二氧化碳技术是国际取得迅速发展的高新科技分离技术，以天然产物为原料，依据二氧化碳在温度高于临界温度，压力高于临界压力的状态下，具有惊人的溶解能力，可溶解多种物质，然后提取其中的有效成分，制备较昂贵的纯天然产物。】 原液有什么独特之处？ 根据最新的皮肤吸收理论研发而成： 一.原汁原味，无添加，效果超过普通膏霜的数倍，不含人工色素，合成香精香料和表面活性剂，功效更全面； 二.有个性，可以自由搭配，最大化的实现了量身定做； 三.天然植物原液在目前市面上是非常新颖的，引领潮流的； 四.功效明确：从确有疗效的天然植物中萃取的富含活性成份的提取物。 五.针对性，渗透性强，效果更显著而持久； 原液有什么效果？ 原液可以渗透到皮肤的各个层面，通过水分通道的吸收，促进皮肤微循环及代谢，还可以在皮肤和其它护肤品之间起到一个桥梁的作用。水溶性营养成份进出皮肤细胞时，具有特殊的出入口，这个出入口被称为“水分通道”。而这个水分通道是由构成细胞膜的“生物水通道蛋白质”送到皮肤里去。 原液使用与保存？ 使用：原液相当于浓缩的精华液是水溶性的所以必然是在乳液之前用。用完原液,按你平时用护肤品顺序护肤，在水水之后用原液,然后精华(可省),最后是乳液（或是加入乳液中也可）.（配合超声波导入仪效果更佳） 洁面后使用使用的时候，将原液滴到虎口处（大拇指跟食指之间的地方，一次使用1~2滴或适量,），因为虎口是身体温度最低的地方之一，温度越高，原液吸收最快，所以不要用手心哦，手心温度高，原液就容易被手心都吸收拉。（在这里提醒下大家使用的时候不用忘记脖子也要哦，要不然就有色差啦！） 保存：原液不要放在气温高的地方，由其太阳底下。由于是活细胞原液精华，不开封放冰箱保存最好了，打开后记得每天使用，基本上1-2个月刚好用完！
编号：SY-AQ-09365 ( 安全管理) 单位：_____________________ 审批：_____________________ 日期：_____________________ WORD文档/ A4打印/ 可编辑 隔离式安全栅的工作原理 Working principle of isolated safety barrier
隔离式安全栅的工作原理 导语：进行安全管理的目的是预防、消灭事故，防止或消除事故伤害，保护劳动者的安全与健康。在安全管理的四项主要内容中，虽然都是为了达到安全管理的目的，但是对生产因素状态的控制，与安全管理目的关系更直接，显得更为突出。 安全栅的主要功能就是限制安全场所的危险能量进入危险场所，及限制送往危险场所的电压和电流。齐纳管Z用于限制电压。当回路电压接近安全限压值时，齐纳管导通，使齐纳管两端的电压始终保持在安全限压值以下。电阻R用于限制电流。当电压被限制后，适当选择电阻值，可将回路电流限制在安全限流值以下。 与齐纳安全栅相比，隔离式安全栅除具有限压与限流的作用之外，还带有电流隔离的功能。隔离栅通常由回路限能单元、电流隔离单元和信号处理单元三部分组成，基本功能电路如图2所示。回路限能单元为安全栅的核心部分。此外，辅助有用于驱动现场仪表的回路供电电路和用于仪表信号采集的检测电路。信号处理单元则根据安全栅的功能要求进行信号处理。 工业现场一般需要采用两线制传输方式的配电器，既要为诸如压力变送器等一次仪表提供24V配电电源，同时又要对输入的电流
信号进行采集、放大、运算、和进行抗干扰处理后，再输出隔离的电流和电压信号，供后面的二次仪表或其它仪表使用。但一些特殊的工业现场不但需要两线制传输，既提供配电电源又有信号隔离功能，同时还需要具有安全火花型防爆的性能，可靠地防止电源高压与信号之间的混触，利用电流、电压双重化限制回路，把进入危险场所的能量限制在安全定额以下的具有特殊功能的配电器—安全栅。 隔离式安全栅，基本有检测端安全栅和操作端安全栅两种类型。检测端安全栅与两线制变送器配套使用；操作端安全栅与电气转换器或电气阀门配套使用。也有信号输入等类型隔离式安全栅。 由于隔离式安全栅采用了限压、限流、隔离等措施，不仅能防止危险能量从本安端子进入危险现场，提高系统的本安防爆性能，而且还增加了系统的抗干扰能力，大大提高了系统运行的可靠性。24VDC电源经DC-AC-DC变换后，输出模块电路所需要的多种电压。 检测端隔离式安全栅的原理是：模块电路将通过本安能量限制
CASHL服务及使用方法介绍 一、什么是CASHL CASHL是由北京大学、复旦大学等17所高校图书馆组建的外文文献传递系统，通过网络为读者提供期刊论文的原文传递、图书和大型特藏文献的部分章节传递，是院图书馆资源建设的重要补充渠道之一。 二、CASHL的丰富资源 CASHL收藏、提供的文献全部为海外文献，以英文为主，资源分布如下： 期刊：近2万种人文社会科学外文期刊，核心期刊4505种。 图书：约165万种（可申请部分章节传递）。 大型特藏文献：140种极具科研价值与收藏价值的珍贵文献，涉及图书、缩微资料、数据库等不同介质，包括《美国早期印刷品》、《日本立法资料全集》、《外 交部中国档案》等多种特色原始外文文献。 三、什么情况下使用CASHL 当我馆的纸本和数字馆藏中均都没有您需要的外文资料时，请使用CASHL外文文献传递服务。 四、如何注册CASHL账户 CASHL只为注册用户提供服务，注册方法如下。 方法一（读者自行注册）： 直接登录CASHL网站（https://www.doczj.com/doc/2d13922705.html,），或通过院图书馆网站 （https://www.doczj.com/doc/2d13922705.html,）/用户服务/CASHL登录，点击右上角的“CASHL直通车用户登录/注册”，填写表单进行注册。注册完成后，经馆员确认（1个工作日）新账户即可使用，如需即时开通，请打电话85119013、85195248（院图书馆咨询服务部）联系馆员。 方法二（馆员代为注册）： 读者提供姓名、单位（研究所）名称、读者卡号码、Email、电话等信息，通过院内信箱（以https://www.doczj.com/doc/2d13922705.html,为后缀）发送到wxtg@https://www.doczj.com/doc/2d13922705.html,，由馆员代为注册并确认。 五、如何获取CASHL文献 CASHL提供了多种文献查询方式，查找所需文献后直接提交即可。如图。
随着石油、化工、煤炭、冶金等工业的迅速发展，一些易燃材料的处理引起了社会各界的重视。这些场合通常含有如天然气、合成气、金属屑、碳尘、粉末、浆料、晶粒、纤维、飞扬物等这些材料，任何渗漏或溅出都可能形成一个爆炸性危险场所，为了工厂和人员的安全，必须确保这个环境的安全。因此世界许多国家和地区对防爆电气产品实施防爆认证制度，防爆产品必须取得防爆认证，才允许在爆炸危险场所使用。 一、本质安全防爆技术 1、仪表防爆的基本原理 防止爆炸，就是要避免爆炸的发生的三个条件同时存在，即点火源（电火花、热表面等）、爆炸性物质（可燃性气体或粉尘等）、空气（氧气）。 如图1所示，当上述三个条件同时存在，而且当爆炸性物质与空气的混合浓度处于爆炸范围内（即处于爆炸下限和爆炸上限之间）时，将不可避免地产生爆炸。 因此，在实践中为了有效地防止爆炸事故的发生，人们总是设法避免上述三个条件同时存在，以达到防爆的目的。常见的三种防爆原理： （1）控制易爆气体 人为地在危险场所（同时具备发生爆炸所需的三个条件的工业现场）营造出一个没有易爆气体的空间，将仪表安装在其中，典型代表为正压型防爆方法Exp。工作原理是：在一个密封的箱体内，充满不含爆炸气体的洁净气体或惰性气体，并保持箱内气压略高于箱外气体，将仪表安装在箱内。常用于在线分析仪表的防爆和将计算机、PLC、操作站或其他仪表置于现场的正压型爆炸仪表柜。 （2）控制爆炸范围 人为地将爆炸限制在一个有限的局部范围内，使该范围的爆炸不至于引起更大范围的爆炸。典型代表为隔爆型防爆方法Exd。工作原理是：为仪表设计一个足够坚固的壳体，按标准严格地设计、制造和安装所有的界面，使在壳体内发生的爆炸不至于引发壳体外危险气体（易爆气体）的爆炸。隔爆防爆方法的设计与制造规范极其严格而且安装、接线和维修的操作规程也非常严格。该方法决定了隔爆的电气设备、仪表往往非常笨重，操作须断电等。
XXX系统软件实施方案 项目名称：XXX系统软件 实施单位：XXXXXXXXX 时间：XXXX年XX月XX日
目录 1、项目总体实施方案 (4) 1.1工程实施原则 (4) 1.2项目总体推进计划 (5) 1.3系统实施过程的质量保证活动说明 (5) 1.3.1需求分析阶段 (6) 1.3.2总体设计阶段 (6) 1.3.3详细设计阶段 (7) 1.3.4系统开发阶段 (7) 1.3.5系统实施和试运行阶段 (7) 1.3.6项目验收阶段 (9) 1.3.7系统正式运行及维护阶段 (9) 1.3.8各阶段辅助文档 (9) 1.3.9实施过程提交文件汇总 (10) 1.4项目实施计划 (11) 1.4.1数据实施步骤 (12) 1.4.2项目进度安排 (12) 2、项目管理方案 (13) 2.1项目管理组织结构 (13) 2.1.1项目各方角色与责任 (13) 2.1.2任务分工 (14) 2.2项目范围管理 (16) 2.3项目进度管理 (16) 2.4项目风险管理 (16) 2.4.1技术风险 (16) 2.4.2需求风险 (17) 2.4.3协调与沟通风险 (17) 2.4.4项目人员风险 (17) 2.5质量管理计划 (18) 2.5.1质量管理体系标准 (18) 2.5.2质量控制过程 (18) 2.5.3质量评定计划 (18) 2.5.4质量管理措施 (19) 2.5.5软件质量控制 (19) 2.6项目协调与合作计划 (21) 2.6.1协调与合作管理方案 (21) 2.6.2协调手段 (22) 2.7配置管理 (22) 2.7.1配置管理和版本控制 (22) 2.7.2变更管理的方法 (24) 2.8文档管理 (24) 2.9人员管理 (25)
DAVID使用说明文档 一、DAVID简介 DA VID （the Database for Annotation，Visualization and Integrated Discovery）的网址是https://www.doczj.com/doc/2d13922705.html,/。DA VID是一个生物信息数据库，整合了生物学数据和分析工具，为大规模的基因或蛋白列表（成百上千个基因ID或者蛋白ID列表）提供系统综合的生物功能注释信息，帮助用户从中提取生物学信息。 DA VID这个工具在2003年发布，目前版本是v6.7。和其他类似的分析工具，如GoMiner，GOstat等一样，都是将输入列表中的基因关联到生物学注释上，进而从统计的层面，在数千个关联的注释中，找出最显著富集的生物学注释。最主要是功能注释和信息链接。 二、分析工具： DAVID需要用户提供感兴趣的基因列表，在基因背景下，使用提供的分析工具，提取该列表中含有的生物信息。这里说的基因列表和背景文件的选取对结果至关重要。 1.基因列表：这个基因列表可能是上游的生物信息分析产生的基因ID列表。对于富集分析而言，一般情况下，大量的基因组成的列 表有更高的统计意义，对富集程度高的特殊Terms有更高的敏感度。富集分析产生的p-value在相同或者数量相同的基因列表中具有可比性。 DAVID对于基因列表的格式要求为每行一个基因ID或者是基因ID用逗号分隔开。基因列表的质量会直接影响到分析结果。这里定性给出好的基因列表应该具有的特点，一个好的基因列表至少要满足以下的大部分的要求： （1）包含与研究目的相关的大部分重要的基因（如标识基因）。
2.32什么叫做安全栅？ 1.简介 安全栅是DDZ-Ⅲ(S)系列仪表中的产品，是“本安系统”中危险区电器仪表的关联设备，是构成本安防爆系统中不可缺少的品种，其功能是：用以限制危险场所的电路（在本章中为热电阻、热电偶）能量；加强危险设备的防爆性能；向现场两线制变送器提供电源；将变送器输出信号隔离、并转换成4~20mA DC(或1~5V DC)，送往下级受信仪表；防止控制室高压能量串入危险现场，保证仪表及系统正常工作。安全栅装于安全场所，分齐纳安全栅和隔离安全栅两种，前者为KN 9000，后者为KN GSL3000，可以实现严格的隔离，起防爆作用。安全栅又有检测端安全栅和操作端安全栅两类产品，整机为模块结构形式。 2.工作原理 当回路发生故障时，安全栅将限制回路能量的积聚，避免短路产生火花点燃周围爆炸性气体，从而达到安全目的。安全栅内部主要由电流限制回路、电压限制回路和快速熔断器组成。 ①过压保护：安全侧的输入电压超过正常工作电压时，安全栅自动关断输入电源，使安全栅处于关闭状态，输出到现场危险侧的电压、电流都为零。输入电压正常后，安全栅能自动恢复正常工作。安全栅的输入电压只要不大于250V（直流或交流峰值），安全栅都能起到对自身和对现场同时保护的作用。 ②短路保护：危险侧对地短路时，安全栅的输出部分自动关断，输出电压、电流都为零。短路故障消除后，安全栅自动恢复正常工作。 安全栅外形1、2
齐纳安全栅电路 安全栅原理图 安全栅接线图 3.标准安全栅的主要技术指标 检测端安全栅 输入信号：4~20mADC 输出信号：1~5VDC,或4~20 mA 负载电阻：0~100Ω(外接电流输出信号时) 配电范围：18.5~28.5VDC 基本误差：±0.2%(Ⅲ型)、±0.1%(S型)